【技术实现步骤摘要】
基于高速激光熔覆的电磁屏蔽涂层及其制备方法与应用
[0001]本专利技术属于激光熔覆
,涉及一种基于高速激光熔覆的电磁屏蔽涂层及其制备方法与应用。
技术介绍
[0002]电磁屏蔽材料能有效解决电磁波引起的电磁干扰和电磁兼容问题,是电子设备的必需品,对社会经济、居民生活和国防建设等具有重要意义。材料方面,锌粉和铜粉是电镀和化学镀使用最多的金属电磁屏蔽材料。经过使用锌粉和铜粉电镀和和化学镀的屏蔽材料,有导电性能好、价格适中、易于安装等优点。铜粉的优点是导电好,缺点是铜分子容易氧化,屏蔽材料表面氧化后导电率迅速下降。目前,主要是成本低、更易施工的喷涂型和涂覆型金属复合屏蔽材料。喷涂/涂覆型屏蔽材料表层导电涂料可以喷涂在织物、塑料、玻璃钢、木板上。然而此类屏蔽涂料膜基结合强度不高,涂料出现起皮现象,产品的质量还有待提高。
技术实现思路
[0003]本专利技术的主要目的在于提供一种基于高速激光熔覆的电磁屏蔽涂层及其制备方法与应用,以克服现有技术的不足。
[0004]为实现前述专利技术目的,本专利技术采用的
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于高速激光熔覆的电磁屏蔽涂层的制备方法,其特征在于包括:将碳纳米管与金属材料进行原位混合,获得高速激光熔覆材料;以及,采用高速激光熔覆技术将所述高速激光熔覆材料熔覆于基体表面,获得电磁屏蔽涂层;其中,所述高速激光熔覆技术中采用的激光功率为0.8
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2kW,熔覆线速度为3
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8m/min,单道横移为0.2~1mm。2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述金属材料包括铁粉、钴粉、镍粉中的任意一种或两种以上的组合。3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述碳纳米管与金属材料的质量比为0.5~3∶100。4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述高速激光熔覆技术中采用的光斑直径为2
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4m,搭接率为30
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80%,保护气体的流量为12~22L/min;其中,所述保护气体包括氩气。5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于还包括:在进行所述熔覆处理前,先对基体进行打磨、清洗处理,至少使打磨、清洗处理所获基体的表面的粗糙度在12.5以下;优选的,...
【专利技术属性】
技术研发人员:庞旭明,蒲吉斌,穆森,
申请(专利权)人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所,
类型:发明
国别省市:
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