显示面板的制备方法及显示面板技术

本申请涉及一种显示面板的制备方法及显示面板。该显示面板的制备方法包括：于基板上形成第一图案结构和第二图案结构；基板具有若干间隔排布的功能区、设置在功能区外围的分割区，功能区对应于既定规格的显示面板；第一图案结构位于功能区，第二图案结构与第一图案结构相互分离且位于功能区或分割区；第一图案结构包括自基板依次层叠设置的第一金属层和第一顶金属层，第二图案结构包括第二金属层；第一金属层和第二金属层材质相同；采用同一侧刻工艺对第一金属层以及第二金属层进行刻蚀，并获取第二金属层的侧刻量。本申请能够达到准确监测第一金属层侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。示面板的可靠性。示面板的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
显示面板的制备方法及显示面板


[0001]本申请涉及显示
，特别是涉及一种显示面板的制备方法及显示面板。

技术介绍

[0002]目前，越来越多的显示产品趋向采用屏幕打孔技术。屏幕打孔的主流方案主要有两种，一种是配向膜去胶工艺(PI Ashe)打孔方案，另一种则是设置TiAlTi(钛铝钛)金属层的打孔方案。其中，TiAlTi金属层打孔时需要对Al进行侧刻。在相关技术中，采用药液对Al进行侧刻，然而，由于药液侧刻的均一性较差，且常规手段无法有效监测侧刻量，导致降低打孔区的封装有效性，进而降低显示产品的可靠性。

技术实现思路

[0003]基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够准确监测侧刻量的显示面板的制备方法及显示面板。
[0004]第一方面，本申请提供一种显示面板的制备方法，包括：
[0005]于基板上形成第一图案结构和第二图案结构；所述基板具有若干间隔排布的功能区、以及设置在所述功能区外围的分割区，所述功能区对应于既定规格的显示面板；所述第一图案结构位于所述功能区，所述第二图案结构与所述第一图案结构相互分离且位于所述功能区或分割区；所述第一图案结构包括自所述基板依次层叠设置的第一金属层和第一顶金属层，所述第二图案结构包括第二金属层；所述第一金属层和所述第二金属层材质相同；
[0006]采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀，并获取所述第二金属层的侧刻量。
[0007]上述显示面板的制备方法，通过在功能区或分割区形成第二图案结构，并且采用同一侧刻工艺对第一图案结构的第一金属层和第二图案结构的第二金属层进行刻蚀。这样，可以通过测量第二金属层的侧刻量就可以获取第一金属层的侧刻量，从而达到准确监测第一金属层侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。
[0008]在其中一个是实施例中，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤之前，包括：
[0009]于所述基板上形成图案材料层，其中，所述图案材料层包括自所述基板依次层叠设置的第一金属材料层和顶金属材料层。
[0010]这样，便于后续工艺在基板上形成第一图案结构和第二图案结构。
[0011]在其中一个实施例中，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：
[0012]于所述图案材料层上形成第一掩膜层；
[0013]对所述第一掩膜层进行曝光，以形成第一掩膜图案和第二掩膜图案；其中，所述第一掩膜图案位于所述功能区，所述第二掩膜图案与所述第一掩膜图案相互分离且位于所述
功能区或分割区；沿所述基板的厚度方向，所述第一掩膜图案的尺寸大于所述第二掩膜图案的尺寸；
[0014]对所述图案材料层进行刻蚀，以形成所述第一图案结构和所述第二图案结构。
[0015]这样，可以使第一图案结构和第二图案结构的制备更简便，同时减少显示面板的制备工序，降低显示面板的制备成本。
[0016]在其中一个实施例中，采用半色调工艺对所述第一掩膜层进行曝光。
[0017]这样，可以通过半色调工艺调节曝光量，以刻蚀掉功能区的顶金属材料层，从而使第二金属层裸露，便于监测第二金属层的侧刻量。
[0018]在其中一个实施例中，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：
[0019]于所述图案材料层上形成第二掩膜层；
[0020]对所述图案材料层进行刻蚀，以形成所述第一图案结构和第三图案结构，所述第三图案结构与所述第一图案结构相互分离且位于所述功能区或分割区；所述第三图案结构包括自所述基板依次层叠设置的第二金属层以及第二顶金属层；所述第二顶金属层与所述第一顶金属层材质相同；
[0021]去除所述第二掩膜层，并于所述第一图案结构上形成第三掩膜层；
[0022]去除所述第二顶金属层，以形成所述第二图案结构。
[0023]在上述方法中，也可以使第二图案结构的第二金属层裸露，从而便于监测第二金属层的侧刻量。
[0024]在其中一个实施例中，所述采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀，并获取所述第二金属层的侧刻量的步骤，包括：
[0025]检测所述第二金属层的第一线宽；其中，所述第一线宽为刻蚀前的所述第二金属层沿第一方向的尺寸；所述第一方向垂直于所述基板的厚度方向；
[0026]采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀；
[0027]检测所述第二金属层的第二线宽，以获取所述第二金属层的侧刻量；其中，所述第二线宽为刻蚀后的所述第二金属层沿所述第一方向的尺寸。
[0028]这样，可以通过测量第二金属层在刻蚀前和刻蚀后的线宽，从而计算出第二金属层的侧刻量，进而获取第一金属层的侧刻量。
[0029]在其中一个实施例中，所述第二金属层的侧刻量等于所述第一线宽和所述第二线宽之差的二分之一。
[0030]这样，可以快速计算出第二金属层的侧刻量。
[0031]在其中一个实施例中，刻蚀前的所述第一金属层沿所述第一方向的尺寸等于所述第一线宽。
[0032]这样，第一金属层和第二金属层的线宽相等，有利于使二者的侧刻一致性更高，从而提高监测的准确性。
[0033]在其中一个实施例中，所述检测所述第二金属层的第一线宽的步骤之后，以及所述采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀的步骤之前，包括：
[0034]于所述第一图案结构和所述第二图案结构上形成第四掩膜层。
[0035]第二方面，本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板通过第一方面中的制备
方法制得。
[0036]上述显示面板，在对第一图案结构进行侧刻时，可以采用同一侧刻工艺对第一图案结构的第一金属层和第二图案结构的第二金属层进行刻蚀。这样，通过测量第二金属层的侧刻量就可以获取第一金属层的侧刻量，从而达到准确监测第一金属层侧刻量的目的，有助于改善侧刻不均的问题，从而提高封装有效性，进而提高显示面板的可靠性。
附图说明
[0037]为了更清楚地说明本申请实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例或传统技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0038]图1为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法的流程示意图；
[0039]图2为图1中步骤200的一种详细步骤示意图；
[0040]图3为图1中步骤300的一种详细步骤示意图；
[0041]图4为图1中步骤200的另一种详细步骤示意图；
[0042]图5为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤100所得结构的截面示意图；
[0043]图6为本申请一实施例提供的显示面板的制备方法中步骤210所得结构的截面示意图；
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：于基板上形成第一图案结构和第二图案结构；所述基板具有若干间隔排布的功能区、以及设置在所述功能区外围的分割区，所述功能区对应于既定规格的显示面板；所述第一图案结构位于所述功能区，所述第二图案结构与所述第一图案结构相互分离且位于所述功能区或分割区；所述第一图案结构包括自所述基板依次层叠设置的第一金属层和第一顶金属层，所述第二图案结构包括第二金属层；所述第一金属层和所述第二金属层材质相同；采用同一侧刻工艺对所述第一金属层以及所述第二金属层进行刻蚀，并获取所述第二金属层的侧刻量。2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤之前，包括：于所述基板上形成图案材料层，其中，所述图案材料层包括自所述基板依次层叠设置的第一金属材料层和顶金属材料层。3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：于所述图案材料层上形成第一掩膜层；对所述第一掩膜层进行曝光，以形成第一掩膜图案和第二掩膜图案；其中，所述第一掩膜图案位于所述功能区，所述第二掩膜图案与所述第一掩膜图案相互分离且位于所述功能区或分割区；沿所述基板的厚度方向，所述第一掩膜图案的尺寸大于所述第二掩膜图案的尺寸；对所述图案材料层进行刻蚀，以形成所述第一图案结构和所述第二图案结构。4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，采用半色调工艺对所述第一掩膜层进行曝光。5.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述于所述基板上形成第一图案结构和第二图案结构的步骤，包括：于所述图案材料层上形成第二掩膜层；对所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张万浩，李素华，黄毅，颜衡，金玉，候博，任佳佩，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：