包含阳离子合成共聚物和去污表面活性剂的个人护理组合物制造技术

本发明专利技术公开了一种个人护理组合物，所述组合物包含：ａ）具有净正电荷的合成随机共聚物，其包含：ｉ．）式（Ⅰ）的非离子单体单元：其中Ｒ为Ｈ或Ｃ↓［１－４］烷基；以及Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］独立地选自由下列组成的组：Ｈ、Ｃ↓［１－４］烷基、ＣＨ↓［２］ＯＣＨ↓［３］、ＣＨ↓［２］ＯＣＨ↓［２］ＣＨ（ＣＨ↓［３］）↓［２］、和苯基，或一起为Ｃ↓［３－６］环烷基；和具有下式（Ⅱ）的两个或更多个正电荷的阳离子单体单元：其中ｋ＝１，ｖ、ｖ′和ｖ″各自独立地为１至６的整数，ｗ为零或１至１０的整数，Ｘ↑［－］为阴离子，和ｂ）去污表面活性剂；和ｃ）含水载体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含阳离子合成共聚物和去污表面活性剂的个人护理组合物 专利
本专利技术涉及具有优良起泡和调理性能的个人护理组合物，其包含精选 的合成共聚物。
技术介绍
已知的。这些个人护理组合物通常包含阴离子去污表面活性剂与调理剂(如 硅氧烷、烃油、脂肪族酯或它们的组合)的组合。作为一种可从单一毛发 护理产品中方便地获得所有毛发调理和毛发清洁性能的方法，这些个人护 理组合物在消费者中已变得越来越普及。然而，许多调理个人护理组合物在应用过程中未能在毛发或皮肤上提 供足够的调理剂沉积。如果沉积是可能的，唯一的可能是制剂具有相对低 含量的阴离子表面活性剂。如果没有上述沉积，则大部分调理剂将在应用 过程中被洗去，从而提供极少的调理有益效果或不提供任何调理有益效果。 如果在毛发或皮肤上没有足够的调理剂沉积，则在个人护理组合物中可能 需要相对高含量的调理剂以提供足够的毛发或皮肤调理性能。然而，如此 高含量的调理剂会增加原料的成本、降低起泡性能并且呈现产品稳定性问 题。此外，为形成凝聚层的总阴离子表面活性剂的极限可限制化学式的泡 沫电位，或导致对于较高含量的实现优良泡沫所需的更昂贵的两性表面活 性剂的需要。一种提本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种个人护理组合物，所述组合物包含：　ａ）具有净正电荷的合成随机共聚物，其包含：　ｉ）下式的非离子单体单元：　＊＊＊　其中Ｒ为Ｈ或Ｃ↓［１－４］烷基；并且Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］独立地选自由下列组成的组：Ｈ、Ｃ↓［１－４］烷基、ＣＨ↓［２］ＯＣＨ↓［３］、ＣＨ↓［２］ＯＣＨ↓［２］ＣＨ（ＣＨ↓［３］）↓［２］、和苯基，或一起为Ｃ↓［３－６］环烷基；和　ｉｉ）具有下式的两个或更多个正电荷的阳离子单体单元：　＊＊＊　其中ｋ＝１，ｖ、ｖ′和ｖ″各自独立地为１至６的整数，ｗ为零或１至１０的整数，并且Ｘ↑［－］为阴离子；　和；　ｂ）去污表面活性剂；和　ｃ）含水载体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：马乔里M佩弗利，马克A布朗，詹姆斯A斯托迪格尔，张君济，
申请(专利权)人：宝洁公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]