【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种深紫外投影光刻物镜，属于投影光刻装置高分辨力投影光刻物镜
技术介绍
在大规模集成电路制造工艺的关键设备中投影光刻装置是一种及其重要的设备。投影光 刻物镜又是投影光刻装置的核心部件。目前国内的光刻物镜工作波长都是436纳米、365纳米、 248纳米和193纳米等，数值孔径也都不很高，最高分辨力为O. 15-0.5微米。由于分辨力低， 不能制作高分辨力图形，已不能满足大规模集成电路制造和研究的需求。深紫外投影光刻物 镜是制作超微细图形的投影光刻装置的核心部件。现有日本尼康(Nikon)、加农(Canon)、 德国蔡司(Zeiss)、美国楚普(Tropel )等公司公开的深紫外(193纳米)投影光刻物镜， 数值孔径都大于等于0.50-0.60，分辨力也很高；但这些物镜结构复杂，价格昂贵， 一般单位 都无法制造，也买不起，同时由于光学縮小倍率小，制作超微细掩模比较困难。在目前现有 的投影光刻物镜中也没有加减光、位相匹配和偏振叠加等各种新型分辨力增强装置，只具有传 统光学极限分辨力。
技术实现思路
本专利技术的技术解决问题克服现有技术的不足，提供...
【技术保护点】
深紫外投影光刻物镜，包括外层的恒温密封外套（８）、中间层和内层结构，中间层为镜筒，由第一镜筒和第二镜筒用连接件连接而成，内层为十个光学透镜元件及十个分隔固定光学透镜元件的透镜框组件，十个光学透镜元件组成的光学系统为双远心系统，其特征在于：在所述内层的十个光学透镜元件之间设有分辨力增强组件（７），分辨力增强组件（７）将十个光学透镜元件分为前后二组物镜，前组物镜由第一至第四透镜组成，后组物镜由第五至第十透镜组成，分辨力增强组件（７）的光栏面（２３）既是前组物镜的像方焦面，也是后组物镜的物方焦面，同时也是光学系统的光瞳面；所述的分辨力增强组件（７）为减光增强板（２４），在其上面制...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈旭南，罗先刚，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：51[中国|四川]
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