一种柔光半抛机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种柔光半抛机，包括机架，机架上安装有若干组并排设置的抛光装置以及冷却装置，每一组抛光装置均包括磨头机架、升降式公转组件和自转组件，机架两端设有用于瓷砖进出的进口和出口，进口和出口之间设有输送装置。本实用新型专利技术通过设置两侧冷却风口、间隔冷却风口、冷风机、送风管道连通，使得冷风机形成的冷风送到两侧冷却风口与间隔冷却风口再进入工作空间，同时通过设置有排风口、排风连接软管、排风管道、排风机使得工作空间热空气能够先后通过排风口、排风连接软管、排风管道、排风机的吸风口再排到外部，从而使得瓷砖在无水状态下也能实现抛光，同时高温瓷砖也得到降温，与常规设备相比节省了瓷砖冷却工序和加水抛光工序。加水抛光工序。加水抛光工序。

【技术实现步骤摘要】
一种柔光半抛机


[0001]本技术属于及陶瓷加工
，具体涉及一种柔光半抛机。

技术介绍

[0002]半抛属于瓷砖生产的一种处理工艺，能使瓷砖表面产生特殊的美学质感效果。布料上使用最前沿立体喷墨技术，然后施一层可抛光釉粒，经1200℃高温烧制，最后对釉粒进行精细抛光，使原本哑光不平的表面达到晶莹亮丽的效果，经半抛处理后，柔光半抛瓷砖同时具有柔光砖舒适视觉感受和仿古砖立体质感，令装饰面更高端美观。
[0003]现有的柔光半抛机抛光时候要加水工序来降温，并且由于抛光前瓷砖处于高温状态，需要冷却工序来降温。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种节省抛光前瓷砖冷却工序的实现无水抛光的柔光半抛机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是：一种柔光半抛机，包括机架，所述机架上安装有若干组并排设置的抛光装置以及冷却装置，所述的机架上两端设有用于瓷砖进出的进口和出口，所述进口和出口之间设置有输送装置；
[0006]每一组抛光装置均包括磨头机架、升降式公转组件和自转组件，所述磨头机架安装在机架上且架设在输送装置的输送带上方，所述升降式公转组件包括安装在磨头机架顶部表面的磨头升降电机，磨头升降电机的升降输出轴与磨头升降平台固定连接，所述磨头升降平台顶部表面位于升降输出轴一侧安装有磨头公转电机，所述磨头升降平台下方设有高速恒星磨头，所述高速恒星磨头包括高速转动盘，高速转动盘中心连接有转动轴，转动轴顶部贯穿磨头升降平台，且转动轴末端通过联轴器与磨头公转电机输出轴传动连接，高速转动盘上安装有若干组自转组件，所述自转组件包括磨头自转电机，磨头自转电机转动输出轴贯穿高速转动盘，且转动输出轴末端与磨料连接，所述高速转动盘与输送带平行设置，且高速转动盘与输送带之间形成一组抛光装置的工作空间；
[0007]所述冷却装置包括两侧冷却风口、间隔冷却风口和排风口，两侧冷却风口设置在所述的工作空间前后两侧，所述间隔冷却风口设置在所述的输送带下方且位于工作空间左右两侧，所述间隔冷却风口与输送带输送方向垂直设置，排风口设置在工作空间的上方。
[0008]进一步的，所述的输送装置还包括输送带所安装的输送辊和驱动输送辊的输送电机，所述的输送电机设置在位于出口一侧的机架上。
[0009]进一步的，所述冷却装置还包括冷风机和送风管道，冷风机设置在位于输送带下方的机架上，冷风机的出风口通过管道与所述两侧冷却风口、间隔冷却风口连通，冷风机的进风口通过管道与送风管道连接，送风管道安装在机架前后两侧。
[0010]进一步的，所述输送带上设有若干个与间隔冷却风口相配的出风口，出风口之间距离等于所述工作空间的左右距离，且大于瓷砖长度。
[0011]进一步的，所述冷却装置还包括排风机和排风管道，排风机安装在机架顶部，排风机的吸风口与排风管道连通，排风管道通过排风连接软管与所述排风口连通。
[0012]进一步的，所述高速转动盘呈圆形，磨头自转电机对称的分布在所述的高速转动盘上。
[0013]进一步的，所述柔光半抛机还包括安装在机架上的控制器，所述控制器与磨头升降电机、磨头公转电机、磨头自转电机、冷风机和排风机电性连接。
[0014]进一步的，所述机架底部设有若干个支撑脚。
[0015]本技术的有益效果是：本技术通过每一组抛光装置的高速转动盘与输送装置的输送带之间形成工作空间，通过在工作空间前后两侧设置两侧冷却风口，在工作空间左右两侧设有间隔冷却风口，两侧冷却风口与间隔冷却风口通过管道与位于输送带下方的冷风机连接，冷风机通过另一管道与送风管道连通，使得空气送入到冷风机内形成冷风，冷风再通过管道送到两侧冷却风口与间隔冷却风口再进入工作空间，使得工作空间内温度降低，同时通过在工作空间上方设置有排风口，排风口通过排风连接软管与排风管道连通，排风管道与排风机的吸风口连通，使得工作空间热空气能够先后通过排风口、排风连接软管、排风管道到达排风机的吸风口，再被排风机排到外部，使得处在工作空间的瓷砖自身温度和磨料在工作空间对瓷砖研磨产生的温度都得到降低，从而使得瓷砖在无水状态下也能实现抛光，将釉面砖抛光出平整和柔和的光泽效果，同时高温瓷砖也得到降温，与常规设备相比节省了瓷砖冷却工序和加水抛光工序。
附图说明
[0016]图1为本技术立体结构示意图。
[0017]图2为本技术的主视图(不包括送风管道、排风管道和排风机)。
[0018]图3为图2的左视图。
[0019]图中所示：机架1、冷却装置2、两侧冷却风口201、间隔冷却风口202、送风管道203、排风口204、排风机205、排风管道206、排风连接软管207、进口3、出口4、输送装置5、输送带501、输送辊502、输送电机503、磨头机架6、升降式公转组件7、磨头升降电机701、磨头公转电机702、高速恒星磨头703、自转组件8、磨头自转电机801、磨料9、工作空间10、控制器11、支撑脚12。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]需要说明，若本技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0022]另外，若本技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指
示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。
[0023]如图1
‑
3所示，一种柔光半抛机，包括机架1，所述机架1上安装有四组并排设置的抛光装置以及冷却装置2，所述的机架1上两端设有用于瓷砖进出的进口3和出口4，所述进口3和出口4之间设置有输送装置5，所述的输送装置5包括输送带501、输送带501所安装的输送辊502和驱动输送辊502的输送电机503，所述的输送电机503设置在位于出口4一侧的机架1上，每一组抛光装置均包括磨头机架6、升降式公转组件7和自转组件8，所述磨头机架6安装在机架1上且架设在输送带501上方，所述升降式公转组件7包括安装在磨头机架6顶部表面的磨头升降电机701，磨头升降电机701的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种柔光半抛机，包括机架(1)，其特征在于，所述机架(1)上安装有若干组并排设置的抛光装置以及冷却装置(2)，所述的机架(1)上两端设有用于瓷砖进出的进口(3)和出口(4)，所述进口(3)和出口(4)之间设置有输送装置(5)；每一组抛光装置均包括磨头机架(6)、升降式公转组件(7)和自转组件(8)，所述磨头机架(6)安装在机架(1)上且架设在输送装置(5)的输送带(501)上方，所述升降式公转组件(7)包括安装在磨头机架(6)顶部表面的磨头升降电机(701)，磨头升降电机(701)的升降输出轴与磨头升降平台固定连接，所述磨头升降平台顶部表面位于升降输出轴一侧安装有磨头公转电机(702)，所述磨头升降平台下方设有高速恒星磨头(703)，所述高速恒星磨头(703)包括高速转动盘，高速转动盘中心连接有转动轴，转动轴顶部贯穿磨头升降平台，且转动轴末端通过联轴器与磨头公转电机(702)输出轴传动连接，高速转动盘上安装有若干组自转组件(8)，所述自转组件(8)包括磨头自转电机(801)，磨头自转电机(801)转动输出轴贯穿高速转动盘，且转动输出轴末端与磨料(9)连接，所述高速转动盘与输送带(501)平行设置，且高速转动盘与输送带(501)之间形成一组抛光装置的工作空间(10)；所述冷却装置(2)包括两侧冷却风口(201)、间隔冷却风口(202)和排风口(204)，两侧冷却风口(201)设置在所述的工作空间(10)前后两侧，所述间隔冷却风口(202)设置在所述的输送带(501)下方且位于工作空间(10)左右两侧，所述间隔冷却风口(202)与输送带(501)输送方向垂直设置，排风口(204)设置在工作空间(10)的上方。2.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈琪昌，
申请(专利权)人：佛山市三水区琪昌机械设备有限公司，
类型：新型
国别省市：