一种半导体加工用防尘工作台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种半导体加工用防尘工作台，包括工作台，所述半导体加工用防尘工作台还包括：防尘构件安装在所述工作台的顶端外壁；封闭构件安装在所述防尘构件的前表面；其中，所述防尘构件用于对工作台进行防尘工作，所述封闭构件用于对防尘构件形成封闭和取消封闭。本实用新型专利技术设置，通过设置的防尘构架在使用过程中，可以使工作台形成防尘空间，可以防止灰尘进入，同时通过设置的槽板和滤网，达到了可以对框架的内部进行通风工作，同时可以防止灰尘进入，通过设置的封闭构件，达到了配合防尘构件进行防尘工作，同时可以便于工作人员的进出工作，同时增加框架内部的通风性。同时增加框架内部的通风性。同时增加框架内部的通风性。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体加工用防尘工作台


[0001]本技术涉及半导体加工
，具体为一种半导体加工用防尘工作台。

技术介绍

[0002]半导体材料在工业方面的应用越来越多，新型半导体材料表现为其结构稳定，拥有卓越的电学特性，而且成本低廉，可被用于制造现代电子设备中广泛使用，我国与其他国家相比在这方面还有着很大一部分的差距，通常会表现在对一些基本仪器的制作和加工上，近几年来，国家很多的部门已经针对我国相对于其他国家存在的弱势，这一方面统一的组织了各个方面的群体，对其进行有效的领导，然后共同努力去研制更加高水平的半导体材料；
[0003]目前，在半导体加工时，无法做到对工作台在工作过程中形成无尘空间，在对半导体加工时会受到灰尘影响，导致影响加工后的半导体的使用性。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种半导体加工用防尘工作台，以解决上述
技术介绍
中提出的目前，在半导体加工时，无法做到对工作台在工作过程中形成无尘空间，在对半导体加工时会受到灰尘影响，导致影响加工后的半导体的使用性的问题。
[0005]为实现上述目的，本技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体加工用防尘工作台，包括工作台(1)，其特征在于，所述半导体加工用防尘工作台还包括：防尘构件(2)，安装在所述工作台(1)的顶端外壁；封闭构件(3)，安装在所述防尘构件(2)的前表面。2.根据权利要求1所述的一种半导体加工用防尘工作台，其特征在于，所述防尘构件(2)包括：扣板(201)，螺纹连接在所述工作台(1)的顶端；框架(202)，插接在所述扣板(201)的外壁；螺纹块(203)，螺纹连接在所述扣板(201)的外侧；凸块(204)，插接在所述框架(202)的底端内部；槽板(205)，插接在所述框架(202)的内部；滤网(206)，固接在所述槽板(205)的内部。3.根据权利要求2所述的一种半导体加工用防尘工作台，其特征在于，所述框...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴智茂，
申请(专利权)人：莒南县金来电子有限公司，
类型：新型
国别省市：