一种柔光大理石瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及瓷砖制备技术领域，尤其涉及一种柔光大理石瓷砖及其制备方法。该制备方法包括如下步骤：在瓷砖坯体上施加面釉后喷墨打印；在坯体上施加保护釉，烧成后经抛光、打蜡，得到柔光大理石瓷砖；保护釉包括如下原料：钾长石9.5

【技术实现步骤摘要】
份、煅烧氧化锌5
‑
8份和碳酸钡17.5
‑
21.5份。
[0010]本方案从保护釉的原料组成方面进行调整，由于配方中添加有纳米二氧化硅与超细刚玉粉，可以提升釉面的耐磨性及致密性，纳米二氧化硅在熔融状态下能很好地填充釉内气孔，即，填充了釉面孔隙，确保产品的防污达到要求，超细刚玉粉保证了釉面的耐磨性，本方案的柔光大理石瓷砖的耐磨性可达到四级至五级，明显降低了磨盘印出现的概率。
[0011]除此之外，保护釉的配方中还引入了哑光透明高温干粒，可以提高保护釉的透感，同时使瓷砖表面具有较高的平整性，进一步改善柔光大理石瓷砖的柔光效果。
[0012]优选地，按重量百分比计，所述保护釉的化学组成包括如下：SiO
2 40.1
‑
43.3％、Al2O
3 20.5
‑
21.2％、K2O 0.6
‑
2.2％、Na2O 2.1
‑
3.2％、CaO 5.6
‑
8.1％、ZnO 1.5
‑
2.9％、BaO 10.3
‑
11.6％、MgO 2.8
‑
4.3％和烧失8.3
‑
11.2％；所述纳米二氧化硅的粒径为90
‑
350nm，所述超细刚玉粉的粒径为10
‑
100μm。除上述调整外，本方案控制保护釉为高铝、高钡配方体系，以进一步提升釉面的耐磨性与平整性(未抛光前)，上述保护釉化学组成的钡含量和铝含量均显著高于常规的保护釉，还能使未抛光前的瓷砖表面光泽度处在较低范围，约为8
‑
15度。
[0013]优选地，按重量百分比计，所述哑光透明高温干粒的化学组成包括如下：Al2O
3 17.98％
‑
19.87％、SiO
2 37.97％
‑
41.96％、Fe2O
3 0.076％
‑
0.084％、CaO 1.76％
‑
1.94％、MgO 1.07％
‑
1.18％、K2O 1.76％
‑
1.94％、Na2O 5.44％
‑
6.01％、TiO
2 0.13％
‑
0.15％、BaO 16.36％
‑
18.09％、ZnO 6.46％
‑
7.14％。调整哑光透明高温干粒的配方，以形成通透感效果较好且较为平整的保护釉层。
[0014]哑光透明高温干粒中还可能包含如下杂质：如SrO、MnO、ZrO2、P2O5和极微量的SO3等，同样的，保护釉中也可能含上述部分杂质。
[0015]优选地，过筛后所述哑光透明高温干粒的尺寸为：60
‑
180目的干粒占5
‑
10％，180
‑
325目的干粒占40
‑
65％，小于325目的干粒占30
‑
50％。通过以上几种不同粒径的哑光透明高温干粒搭配使用，干粒能够很好的填充在保护釉的其余原料中，形成致密无气泡的保护釉层，对平整度和柔光效果有进一步改善作用。
[0016]优选地，未抛光前所述保护釉的光泽度为8
‑
15度。通过控制保护釉配方组成为高钡、高铝体系，形成了致密的无气孔釉层，其光泽度处于8
‑
15度；再经过抛光工艺，抛光工序流程可以进一步对釉层表面进行细腻地磨刷，提高了瓷砖表面的平整度和光泽度，从而获得柔光大理石瓷砖。
[0017]优选地，最高烧成温度为1215
‑
1225℃，烧成周期为90
‑
100分钟。柔光大理石瓷砖采用上述烧成制度，可以获得光泽度较为适宜，且其余品质均较佳的瓷砖。
[0018]优选地，抛光过程包括如下步骤：依次采用120目的金刚石弹性磨块与240目的海绵磨块对烧成后的瓷砖进行抛光，其中，金刚石弹性磨块20
‑
25组，海绵磨块15
‑
20组。通过新配方组成的金刚石弹性磨块及海绵磨块对柔光大理石瓷砖半成品进行刷抛，可以达到稳定光泽度的作用，经抛光后的瓷砖光泽度维持在35
‑
45范围内，之后再经过打蜡工序可达到55
‑
70度的光泽度，具有较好的柔光效果，同时也不会过度损坏瓷砖表面的釉面效果，因此，本方案中的柔光大理石瓷砖仍具有较好的防污性。
[0019]优选地，所述金刚石弹性磨块由基座和磨块组成，按重量百分比计，所述磨块包括如下原料混匀后压制而成：金刚石磨料7
‑
16％、酚醛树脂40
‑
50％、碳化硅微粉15
‑
19％、刚
玉微粉6
‑
9％和胶水12
‑
16％；所述碳化硅微粉的粒径为15
‑
30nm，所述刚玉微粉的粒径为20
‑
40nm。本方案采用特制的金刚石弹性磨块，对金刚石弹性磨块的主要磨料配方组成进行调整，以提升磨块的研磨性能，保证研磨过程对保护釉面的磨削基本保持一致，不会导致瓷砖表面的光泽度发生较大的波动。
[0020]优选地，所述金刚石磨料包含粗、中、细三种粒度，其中，20
‑
50μm的粗粒度金刚石磨料占30
‑
35％；10
‑
20μm的中粒度金刚石磨料占30
‑
35％；0.5
‑
10μm的细粒度金刚石磨料占30
‑
35％。采用上述三种粒度的金刚石磨料，可使金刚石磨料更为均匀的与保护釉的釉面摩擦接触，达到稳定光泽度的目的。
[0021]本专利技术还提出一种柔光大理石瓷砖，由上述任一项所述的柔光大理石瓷砖的制备方法所制得。由于柔光大理石瓷砖采用了上述的全部技术方案，因此至少具有上述技术方案所带来的所有效果，在此不再一一赘述。
[0022]与现有技术相比，本专利技术的柔光大理石瓷砖及其制备方法具有以下有益效果：保护釉中新增哑光透明高温干粒，可以提高釉料的通透感，使大理石瓷砖具有较好的柔光效果和平整度；同时，控制保护釉为高铝、高钡的原料配方体系，以提升釉面的耐磨性与平整性；且在原料中还增加有纳米二氧化硅与超细刚玉粉，可以进一步提升釉面的耐磨性及致密性，纳米二氧化硅在熔融状态下能很好地填充釉面孔隙，确保产品的防污达到要求，超细刚玉粉保证了釉面的耐磨性，可以降低出现磨盘印的概率；最后，通过新配方组成的金刚石弹性磨块及海绵磨块对大理石瓷砖半成品进行刷抛，达到稳定光泽度的作用，使各个批次的瓷砖光泽度均能维持在55
‑
70度，且同一批次的瓷砖波动范围较小。
具体实施方式
[0023]下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种柔光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1.在瓷砖坯体上施加面釉后进行喷墨打印；S2.在所述步骤S1之后的瓷砖坯体上继续施加保护釉，烧成后经抛光、打蜡，即得到所述柔光大理石瓷砖；按重量份数计，所述保护釉包括如下原料：钾长石9.5
‑
13份、钠长石12
‑
18份、霞石粉2
‑
6份，纳米二氧化硅2
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4份、石英0.5
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2.5份、煅烧氧化铝0.8
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2份、超细刚玉粉4.5
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8份，高岭土4
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7.5份、白云石2
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6.5份、烧滑石6
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10份、方解石1.5
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5份，硅灰石4
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6份、煅烧氧化锌1.5
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3.5份、碳酸钡10
‑
12份和哑光透明高温干粒20
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30份；将所述哑光透明高温干粒的原料混合均匀后，在1330
‑
1430℃下熔融，经水淬、球磨、干燥、过筛后制得所述哑光透明高温干粒；按重量份数计，所述哑光透明高温干粒包括如下原料：钾长石6
‑
8份、钠长石28
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35份、霞石粉10
‑
15份、煅烧氧化铝5.5
‑
8.5份、烧滑石2.5
‑
5.5份、硅灰石1
‑
3份、煅烧氧化锌5
‑
8份和碳酸钡17.5
‑
21.5份。2.根据权利要求1所述的一种柔光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于，按重量百分比计，所述保护釉的化学组成包括：SiO
2 40.1
‑
43.3％、Al2O
3 20.5
‑
21.2％、K2O 0.6
‑
2.2％、Na2O 2.1
‑
3.2％、CaO 5.6
‑
8.1％、ZnO 1.5
‑
2.9％、BaO 10.3
‑
11.6％、MgO 2.8
‑
4.3％和烧失8.3
‑
11.2％；所述纳米二氧化硅的粒径为90
‑
350nm，所述超细刚玉粉的粒径为10
‑
100μm。3.根据权利要求1所述的一种柔光大理石瓷砖的制备方法，其特征在于，按重量百分比计，所述哑光透明高温干粒的化学组成包括如下：Al2O317.98
‑
21.87％、SiO
2 37.97
‑
43.96％、Fe2O<...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴惠权，尧高辉，郭惠法，彭细辉，于志强，宋建锋，黄慧廉，王浩，陈彦，
申请(专利权)人：清远市简一陶瓷有限公司广西简一陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：