超大产能真空镀膜腔及用于异质结技术的真空镀膜设备制造技术

本发明专利技术涉及镀膜设备技术领域，具体涉及一种超大产能真空镀膜腔以及用于异质结技术的真空镀膜设备，超大产能真空镀膜腔具有一内腔，所述内腔上部设有分气组件，所述分气组件至少包括由上至下依次由气孔连通的第一分气板、第二分气板，能够极大地改善腔内气流场均匀性差的问题，凸台状的导热件，减少加热器和硅片的距离，来提高加热效率和温度均匀性，保证了内腔镀膜的工艺效果；同时直线式多工艺腔排布方式，也同步降低了生产节拍，大大增加了设备产能。设备产能。设备产能。

【技术实现步骤摘要】
超大产能真空镀膜腔及用于异质结技术的真空镀膜设备


[0001]本专利技术涉及镀膜设备
，具体涉及一种超大产能真空镀膜腔以及用于异质结技术的真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]太阳能电池片，特别是异质结技术电池片生产过程中，真空镀膜设备（PECVD）的产能直接影响着电池片的成本。传统的PECVD，腔内的体积有限，单位时间内能够处理的硅片数量有限，进而影响设备的产能，扩大腔的体积是增大产能的一种方式，随着腔的体积增加，实现单批次可以放置更多的硅片，同时如何解决保证镀膜的工艺效果均是需要解决的问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是克服现有技术的缺陷，提供一种超大产能真空镀膜腔以及用于异质结技术的真空镀膜设备。
[0004]实现本专利技术目的的技术方案是：一种超大产能真空镀膜腔，具有一内腔，所述内腔上部设有分气组件，所述分气组件至少包括由上至下依次由气孔连通的第一分气板、第二分气板。
[0005]上述技术方案中，还包括第三分气板；所述第一分气板设有多个第一气孔，所述第二分气板设有多个第二气孔，所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超大产能真空镀膜腔，其特征在于：具有一内腔(2)，所述内腔(2)上部设有分气组件(7)，所述分气组件(7)至少包括由上至下依次由气孔连通的第一分气板(71)、第二分气板(72)。2.根据权利要求1所述的一种超大产能真空镀膜腔，其特征在于：还包括第三分气板(73)；所述第一分气板(71)设有多个第一气孔(711)，所述第二分气板(72)设有多个第二气孔(721)，所述第三分气板(73)设有多个第三气孔(731)，每个所述第一气孔(711)连通多个所述第二气孔(721)，每个所述第二气孔(721)连通多个所述第三气孔(731)。3.据权利要求1所述的一种超大产能真空镀膜腔，其特征在于：所述内腔(2)置有一载板(3)，所述载板(3)包括载板框架(31)，所述载板框架(31)阵列均布有多个子托盘(32)，所述子托盘(32)可放置多个工件。4.据权利要求3所述的一种超大产能真空镀膜腔，其特征在于：所述内腔(2)置有一加热组件(61)，所述加热组件(61)上设有多个导热件(62)，所述导热件(62)位于所述子托盘(32)下方，并一一对应。5.据权利要求4所述的一种超大产能真空镀膜腔，其特征在于：所述内腔(2)侧壁上对称设有传输机构(5)，所述内腔(2)底部设有升降机构(8)，所述加热组件(6)设置在所述升降机构(8)上，所述升降机构(8)用于承接位于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，朱海剑，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：