一种缓解绕镀的镀膜工艺制造技术

本申请涉及一种缓解绕镀的镀膜工艺，包括如下步骤：S1：底面覆盖，在衬板背离需镀设镀膜一侧进行遮挡覆盖；S2：侧面覆盖，在衬板周向进行遮挡覆盖；S3：进行镀膜，将底面和侧面遮挡覆盖的衬板放入等离子体化学气相沉积设备内进行镀膜。本申请具有降低饶镀现象对太阳能电池影响的效果。影响的效果。影响的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种缓解绕镀的镀膜工艺


[0001]本申请涉及光伏板生产工艺的领域，尤其是涉及一种缓解绕镀的镀膜工艺。

技术介绍

[0002]等离子体化学气相沉积是指用等离子体激活反应气体，促进在基体表面或近表面空间进行化学反应，生成固态膜的技术，常用于太阳能电池领域。
[0003]现有的太阳能电池背板上镀设有阻隔膜，阻隔膜上通过等离子体化学气相沉积镀设一层无机化合物层，从而提升阻隔效果。
[0004]针对上述中的相关技术，专利技术人认为等离子体化学气相沉积时容易产生绕镀现象，导致背板周向皆层积有膜层，从而影响太阳能电池的正常工作。

技术实现思路

[0005]为了降低饶镀现象对太阳能电池的影响，本申请提供一种缓解绕镀的镀膜工艺。
[0006]本申请提供的一种缓解绕镀的镀膜工艺采用如下的技术方案：一种缓解绕镀的镀膜工艺，包括如下步骤：S1：底面覆盖，在衬板背离需镀设镀膜一侧进行遮挡覆盖；S2：侧面覆盖，在衬板周向进行遮挡覆盖；S3：进行镀膜，将底面和侧面遮挡覆盖的衬板放入等离子体化学气相沉积设备内进行镀膜。
[00本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种缓解绕镀的镀膜工艺，包括如下步骤：S1：底面覆盖，在衬板（1）背离需镀设镀膜一侧进行遮挡覆盖；S2：侧面覆盖，在衬板（1）周向进行遮挡覆盖；S3：进行镀膜，将底面和侧面遮挡覆盖的衬板（1）放入等离子体化学气相沉积设备内进行镀膜。2.根据权利要求1所述的一种缓解绕镀的镀膜工艺，其特征在于：所述底面覆盖和侧面覆盖均采用镀设遮挡膜（2）。3.根据权利要求1所述的一种缓解绕镀的镀膜工艺，其特征在于：所述底面覆盖和侧面覆盖均采用薄膜（3）。4.根据权利要求3所述的一种缓解绕镀的镀膜工艺，其特征在于：所述薄膜（3）通过弹力件（4）套设在衬板（1）上。5.根据权利要求1所述的一种缓解绕镀的镀膜工艺，其特征在于：所述底面覆盖采用另一块衬板（1），另一块衬板（1...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶利松，张群芳，
申请(专利权)人：浙江合特光电有限公司，
类型：发明
国别省市：