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本申请涉及一种缓解绕镀的镀膜工艺，包括如下步骤：S1：底面覆盖，在衬板背离需镀设镀膜一侧进行遮挡覆盖；S2：侧面覆盖，在衬板周向进行遮挡覆盖；S3：进行镀膜，将底面和侧面遮挡覆盖的衬板放入等离子体化学气相沉积设备内进行镀膜。本申请具有降低饶...
该专利属于浙江合特光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江合特光电有限公司授权不得商用。

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