【技术实现步骤摘要】
一种太阳能电池及太阳能电池的制备方法
[0001]本申请涉及光伏
,尤其涉及一种太阳能电池及太阳能电池的制备方法。
技术介绍
[0002]太阳能电池领域中在浆料和电池片行业持续进行技术研发、提升丝网印刷银浆性能和应用水平的同时,栅线制备和金属化的其他工艺也在取得进展,包括电镀、喷墨、刻槽埋栅、激光硼扩选择性发射极、局部背场等技术,其中镀层工艺近年来发展较快。电镀一般是用含银的电镀液,选择镍、铜和银的三镀层,或者只用镍和铜镀层,通过降低银含量达到降低成本的效果,另外可实现宽度更细的栅线和低接触电阻,从而创造具有更高电池效率的太阳能电池。
[0003]太阳能电池通常在制作栅线时采用电镀或化学镀的方法来制作种子层,如电镀镍层或化学镀镍层作为种子层,然后再电镀一层金属层,通常为铜层,最后在其表面电镀一层保护层,通常为银层或锡层。镍层与硅基底会发生一定的扩散,因此镍硅之后的结合力较好,但是镍铜之间的结合力较差,在镍层与铜层之间易出现脱栅的现象。
技术实现思路
[0004]本申请提供了一种太阳能电池及太阳能 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种太阳能电池,其特征在于,所述太阳能电池包括:基板(1),所述基板(1)的表面具有镀层(2),所述镀层(2)沿所述太阳能电池的宽度方向(Y)间隔设置;其中,所述镀层(2)具有多个凹坑(3),且所述凹坑(3)的至少部分能够相互重叠。2.根据权利要求1所述的太能电池,其特征在于,所述凹坑(3)沿垂直于所述太阳能电池的厚度方向(Z)的投影为圆形、椭圆形或者长条形。3.根据权利要求1所述的太阳电池,其特征在于,所述凹坑(3)的垂直于所述太阳能电池的厚度方向(Z)的投影任意两点间最大距离为L1,且0.1μm≤L1≤500μm,和/或,所述凹坑(3)的最大深度为H1,且0.01μm≤H1≤2μm。4.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于,所述镀层(2)的表面粗糙度为Ra,且0.5≤Ra≤4。5.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于,所述镀层(2)的在太阳能电池的宽度方向(Y)的尺寸为L2,且1μm≤L2≤100μm,和/或,所述镀层(2)在所述太阳能电池的厚度方向(Z)的尺寸为H2,且0.01μm≤H2≤10μm。6.根据权利要求1至5中任一项所述的太阳能电池,其特征在于,所述镀层(2)的表面具有金属层,所述金属层位于所述镀层(2)远离所述基板(1)的一侧。7.一种太阳能电池的制备方法,用于制备权利要求1至6中任一项所述的太阳能电池,其特征在于,所述太阳能电池的制备方法包括:在镀液中添加乳化剂、导电颗粒和非导电颗粒中的一种;使用所述镀液对所述基板(1)进行处理,在所述基板(1)表面形成具有凹坑(3)的所述镀层(2)。8.根据权利要求7所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,在用所述镀液对所述基板(1)处理之前,所述太阳能电池的制备方法包括:对所述镀液进行搅拌,使所述乳化剂、所述导电颗粒或者所述非导电颗粒均匀分布于所述镀液。9.根据权利要求7所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,在所述镀液中添加乳化剂、导电颗粒和非导电颗粒中的一种的步骤包括:在所述镀液中添加乳化剂,所述乳化剂包括1%至10%的初级光亮剂、5%至25%的非离子表面活性剂和0.1%至1%的稳定剂。10.根据权利要求7所述的太阳能电池的制备方法,其特征在于,在所述镀液中添加乳化剂、导电颗粒和非导电颗粒中的一...
【专利技术属性】
技术研发人员:谢明辉,李文琪,陈一帆,张国春,
申请(专利权)人:晶科能源股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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