一种过滤设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种过滤设备，涉及过滤装置技术领域，该过滤设备用于LED干法刻蚀设备上，LED干法刻蚀设备包括设于腔室内的摆阀，过滤设备设于腔室内并位于摆阀之上，过滤设备包括用于过滤杂质的过滤组件，过滤组件包括第一过滤组件，第一过滤组件包括第一支架和第一过滤网，第一过滤网正对摆阀设置，第一过滤网的边缘沿着第一支架的轴向围合连接，且围合的第一过滤网的直径由靠近第一支架的一端向另一端逐渐减小。通过增加过滤设备可以更好的起到保护摆阀及分子泵不被工艺制程所产生的副产物所腐蚀或是减少腐蚀效果，以延长阀体及分子泵的使用寿命。子泵的使用寿命。子泵的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种过滤设备


[0001]本技术涉及过滤装置
，具体为一种过滤设备。

技术介绍

[0002]现有的LED干法刻蚀设备，腔室副产物一般通过腔室下方的分子泵及大干泵抽走并排放出腔室，从而保持腔室环境不被副产物积聚过多而影响工艺制程。一般现有的分子泵会在泵体抽气口上方安装滤网来达到过滤效果。
[0003]其不足之处在于分子泵与腔室之间还存在摆阀，但由于摆阀上方没有设置过滤装置，使得分子泵在工作的过程中，腔室内的副产物直接堆积在摆阀的内部，严重的话会导致摆阀卡死；并且由于分子泵本身自带的滤网孔比较大，无法达到好的过滤效果，从而导致副产物直接通过摆阀进入泵体的内部。随着制程时间的加长，副产物过多会影响摆阀的使用寿命及分子泵的抽气效率。
[0004]因此，通过现有的过滤方式，无法保障摆阀和分子泵的正常使用。

技术实现思路

[0005]基于此，本技术的目的是提供一种过滤设备，以解决
技术介绍
中在LED干法刻蚀设备内，无法保障摆阀和分子泵正常使用的问题。
[0006]本技术的在于提供一种过滤设备，用于LED干法刻蚀设备上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种过滤设备，用于LED干法刻蚀设备上，所述LED干法刻蚀设备包括设于腔室内的摆阀，其特征在于，所述过滤设备设于所述腔室内并位于所述摆阀之上；所述过滤设备包括用于过滤杂质的过滤组件，所述过滤组件包括第一过滤组件，所述第一过滤组件包括第一支架和第一过滤网，所述第一过滤网正对所述摆阀设置，所述第一过滤网的边缘沿着所述第一支架的轴向围合连接，且围合的所述第一过滤网的直径由靠近所述第一支架的一端向另一端逐渐减小。2.根据权利要求1所述的过滤设备，其特征在于：所述过滤组件还包括设于所述第一过滤组件之上的第二过滤组件，所述第二过滤组件包括第二过滤网，所述第二过滤网的孔径大于所述第一过滤网的孔径。3.根据权利要求2所述的过滤设备，其特征在于：所述第二过滤组件还包括第二支架，所述第二过滤网的边缘与所述第二支架的内壁连接。4.根据权利要求3所述的过滤设备，其特征在于：所述第一支架与所述第二支架可拆卸连接。5.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴文锦，车耀辉，潘毅，刘德林，徐吉红，董国庆，文国昇，金从龙，
申请(专利权)人：江西兆驰半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：