【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造光掩模的系统、方法和程序产品
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求2020年4月30日提交的美国临时专利申请No.63/018,471的权益和优先权,其全部内容通过援引并入本申请。
[0003]本专利技术总体上涉及用于制造光掩模的系统和方法,该光掩模用于在硅晶片上制造集成电路。
技术介绍
[0004]掩模技术是实现用于逻辑和存储器工艺(logic and memory processes)的先进集成电路技术节点的发展的关键。特别地,当挑战光学光刻和EUV光刻的传统限制时,严重地依赖掩模以实现充分的工艺窗口(PW)和最终产量。随着每一代新一代先进集成电路技术的线宽变得越来越小,掩模制造限制产生了关于如何使制造的掩模的准确度和一致性最大化的技术挑战。掩模工艺改进的晶片验证在以满负载运行的生产线和支持晶片表征的投入水平的情况下可能是非常困难且耗时的。因此,如果一种方法较高效且有效地提供图案保真度增强解决方案,则对于掩模制造商和晶片光刻商是有用的,而图案保真度包括但不限于临界尺寸均匀性(CDU
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全局和局部、角部倒圆、H/V偏置、复杂2D图案的再现、LER、增强分辨率
…
。
[0005]目前,利用光刻感知LAMA应用中的掩模和晶片分析技术的工具包,可以预测一维(1D)结构和二维(2D)结构上的晶片缺陷率,诸如在金属、触点、多晶硅等上发现的晶片缺陷率,并且优化掩模工艺以增强图案保真度性能。举几个例子,接触孔面积损失、角部倒圆(corner r ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种制造光掩模的方法,包括:(a)从晶片的扫描电子显微镜(SEM)图像检测晶片缺陷;(b)从先前制造的光掩模的SEM图像提取多个掩模轮廓,其中,所提取的掩模轮廓能够对应于检测到的所述晶片缺陷;(c)使用所提取的所述多个掩模轮廓生成模拟制造的晶片;(d)检测所述模拟制造的晶片上的一个或多个缺陷;(e)基于所述模拟制造的晶片上的缺陷,确定所述光掩模的一个或多个有问题的区域;(f)获得与所述先前制造的光掩模的有问题的区域相关的图案信息;(g)进行所述图案信息的空间域分析;(h)基于所述空间域分析确定多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;(i)基于所述空间域分析从所述多个光掩模结构图案生成多个潜在的校正光掩模结构图案,其中,所述生成包括:(i)选择要应用于所述多个光掩模结构图案的多个处理,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;以及(ii)对于每个选择的处理,选择对应于所述处理的多个参数;以及(iii)将具有所选择的参数的所选择的所述处理应用于所述多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;(j)将所述潜在的校正光掩模结构图案并入测试光掩模中;(k)分析所述测试光掩模上的所述潜在的校正光掩模结构图案;(l)从所述多个潜在的校正光掩模结构图案中选择多个校正光掩模结构图案;(m)基于对所述测试光掩模上的所述多个校正掩模结构图案的分析,生成一个或多个光掩模图案校正脚本;(n)执行所述一个或多个光掩模图案校正脚本,以将所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案应用于一整层的光掩模布局;(o)基于最终光掩模布局构建用于所述一整层的光掩模,在用于所述一整层的光掩模中已并入所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案;(p)确认所述一个或多个校正光掩模结构已经被应用于最终光掩模;以及(q)确定基于所述光掩模生产的晶片上的多个位置不显示与先前制造的光掩模的所述一个或多个缺陷相对应的缺陷,在所述光掩模中已并入所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述图案信息包括对应于先前制造的光掩模的布局的一个或多个数据文件。3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述空间域分析包括:(i)进行所述图案信息的图案描述搜索;(ii)基于所述图案描述搜索从所述图案信息识别光掩模结构;以及(iii)生成对应于识别的光掩模结构的图形。4.根据权利要求3所述的方法,其中,基于对应于所述识别的光掩模结构的所述图形,识别所述多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷。
5.根据权利要求1所述的方法,其中,分析所述测试光掩模上的所述校正光掩模结构图案包括:(i)基于所述光掩模执行制造模拟过程;以及(ii)评估所述制造模拟过程的结果。6.根据权利要求1所述的方法,其中,将所述潜在的校正光掩模结构图案并入制造的光掩模上的未使用空间中。7.一种制造光掩模的方法,包括:(a)从晶片的扫描电子显微镜(SEM)图像检测晶片缺陷;(b)从先前制造的光掩模的SEM图像提取多个掩模轮廓,其中,所提取的掩模轮廓对应于检测到的晶片缺陷;(c)使用所提取的多个掩模轮廓生成模拟制造的晶片;(d)检测所述模拟制造的晶片上的一个或多个缺陷;(e)基于所述模拟制造的晶片上的缺陷,确定所述先前制造的光掩模的一个或多个问题区域;(f)获得与所述先前制造的光掩模的问题区域相关的图案信息;(g)进行所述图案信息的空间域分析;(h)基于所述空间域分析确定多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;(i)基于所述空间域分析从所述多个光掩模结构图案生成多个校正光掩模结构图案,其中,所述生成包括:(i)选择要应用于所述多个光掩模结构图案的多个处理,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;以及(ii)对于每个选择的处理,选择对应于所述处理的多个参数;以及(iii)将具有所选择的参数的所选择的所述处理应用于所述多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;(j)基于所述多个校正光掩模结构图案生成一个或多个光掩模图案校正脚本;(k)执行所述一个或多个光掩模图案校正脚本,以将所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案应用于光掩模布局;(l)基于一层的最终光掩模布局构建光掩模,在所述光掩模中已并入所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案;(m)确认所述一个或多个校正光掩模结构已经被应用于所述光掩模;以及(n)确定基于所述光掩模生产的晶片上的多个位置不显示与先前制造的光掩模的所述一个或多个缺陷相对应的缺陷,在所述光掩模中已并入所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案。8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述图案信息包括对应于先前制造的光掩模的布局的一个或多个数据文件。9.根据权利要求7所述的方法,其中,所述空间域分析包括:(i)进行所述图案信息的图案描述搜索;(ii)基于所述图案描述搜索从所述图案信息识别光掩模结构;以及
(iii)生成对应于识别的光掩模结构的图形。10.根据权利要求9所述的方法,其中,基于对应于所述识别的光掩模结构的所述图形,识别所述多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷。11.根据权利要求7所述的方法,其中,将所述校正光掩模结构图案并入先前制造的光掩模上的未使用空间中。12.一种用于制造光掩模的系统,包括:一个或多个处理单元;以及存储器,其中,所述一个或多个处理单元被配置为执行机器可读指令,当所述机器可读指令被执行时,使所述系统:(a)从晶片的扫描电子显微镜(SEM)图像检测晶片缺陷;(b)从先前制造的光掩模的SEM图像提取多个掩模轮廓,其中,所提取的掩模轮廓对应于检测到的晶片缺陷;(c)使用所提取的所述多个掩模轮廓生成模拟制造的晶片;(d)检测所述模拟制造的晶片上的一个或多个缺陷;(e)基于所述模拟制造的晶片上的缺陷,确定所述光掩模的一个或多个有问题的区域;(f)获得与所述先前制造的光掩模的有问题的区域相关的图案信息;(g)进行所述图案信息的空间域分析;(h)基于所述空间域分析确定多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;(i)基于所述空间域分析从所述多个光掩模结构图案生成多个潜在的校正光掩模结构图案,其中,所述生成包括:(i)选择要应用于所述多个光掩模结构图案的多个处理,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;以及(ii)对于每个选择的处理,选择对应于所述处理的多个参数;以及(iii)将具有所选择的参数的所选择的所述处理应用于所述多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;(j)将所述潜在的校正光掩模结构图案并入测试光掩模中;(k)分析所述测试光掩模上的所述潜在的校正光掩模结构图案;(l)从所述多个潜在的校正光掩模结构图案中选择多个校正光掩模结构图案;(m)基于对所述测试光掩模上的所述多个校正掩模结构图案的分析,生成一个或多个光掩模图案校正脚本;(n)执行所述一个或多个光掩模图案校正脚本,以将所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案应用于一整层的最终光掩模布局;(o)基于所述最终光掩模布局构建用于所述一整层的光掩模,在用于所述一整层的光掩模中已并入所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案;(p)确认所述一个或多个校正光掩模结构已经被应用于最终光掩模;以及(q)确定基于所述光掩模生产的晶片上的多个位置不显示与先前制造的光掩模的所述一个或多个缺陷相对应的缺陷,在所述光掩模中已并入所述多个校正光掩模结构图案中的一个或多个校正光掩模结构图案。
13.根据权利要求12所述的系统,其中,所述图案信息包括对应于先前制造的光掩模的布局的一个或多个数据文件。14.根据权利要求12所述的系统,其中,所述空间域分析包括:(i)进行所述图案信息的图案描述搜索;(ii)基于所述图案描述搜索从所述图案信息识别光掩模结构;以及(iii)生成对应于识别的光掩模结构的图形。15.根据权利要求14所述的系统,其中,基于对应于所述识别的光掩模结构的所述图形,识别所述多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷。16.根据权利要求12所述的系统,其中,分析所述测试光掩模上的所述校正光掩模结构图案包括:(i)基于所述测试光掩模执行制造模拟过程;以及(ii)目视检查所述制造模拟过程的结果。17.根据权利要求12所述的系统,其中,所述潜在的校正光掩模结构图案被并入先前制造的光掩模上的未使用空间中。18.一种用于制造光掩模的系统,包括:一个或多个处理单元;以及存储器,其中,所述一个或多个处理单元被配置为执行机器可读指令,当所述机器可读指令被执行时,使所述系统:(a)从晶片的扫描电子显微镜(SEM)图像检测晶片缺陷;(b)从先前制造的光掩模的SEM图像提取多个掩模轮廓,其中,所提取的掩模轮廓对应于检测到的晶片缺陷;(c)使用所提取的所述多个掩模轮廓生成模拟制造的晶片;(d)检测所述模拟制造的晶片上的一个或多个缺陷;(e)基于所述模拟制造的晶片上的缺陷,确定先前制造的光掩模的一个或多个问题区域;(f)获得与所述先前制造的光掩模的问题区域相关的图案信息;(g)进行所述图案信息的空间域分析;(h)基于所述空间域分析确定多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;(i)基于所述空间域分析从所述多个光掩模结构图案生成个校正光掩模结构图案,其中,所述生成包括:(i)选择要应用于所述多个光掩模结构图案的多个处理,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;以及(ii)对于每个选择的处理,选择对应于所述处理的多个参数;以及(iii)将具有所选择的参数的所选择的所述处理应用于所述多个光掩模结构图案,所述多个光掩模结构图案显示一个或多个对应的缺陷;(j)基...
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