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用于从所获得的与在晶片上显示缺陷的光掩模相关的图案信息构建光掩模的方法和系统。对图案信息进行空间域分析，使得可以生成校正光掩模结构并可以将其应用于光掩模布局。使用校正光掩模结构来构建光掩模。验证了光掩模的有效性。有效性。
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该专利属于美商福昌公司所有，仅供学习研究参考，未经过美商福昌公司授权不得商用。

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