一种服装样板轮廓缩放方法、系统及设备技术方案

本发明专利技术提供一种服装样板轮廓缩放方法、系统及设备。所述方法包括：在基础服装样板轮廓上选取基准点，并在相邻的两个基准点之间的轮廓线段上选取间隙点；获取每个基准点的移动量，并根据获取的每个基准点的移动量对每个基准点进行偏移操作；根据每个间隙点的当前位置信息以及每个间隙点对应的两个基准点在偏移前后的位置信息，并基于预定的位移函数对每个间隙点进行偏移操作；根据偏移后的各个基准点和各个间隙点获取缩放后的服装样板轮廓。所述系统包括对应实现上述各个步骤的各个功能模块。所述设备：处理器执行存储器中保存的计算机程序时实现所述方法。根据本发明专利技术能够解决现有基于基准点偏移的服装放码方法因计算量大而耗时长、效率低的问题。效率低的问题。效率低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种服装样板轮廓缩放方法、系统及设备


[0001]本专利技术属于服装放码
，更具体地，涉及一种服装样板轮廓缩放方法、系统及设备。

技术介绍

[0002]服装放码是服装样板设计的一个重要环节，其是指对基础服装样板进行缩放，以得到齐码的服装样板的过程。现有的服装放码方法通常基于服装CAD软件实现，其主要步骤为：将基础服装样板轮廓上的各个转折点作为基准点；获取每个基准点的移动量并根据每个基准点的移动量对每个基准点进行偏移操作；根据偏移前的相邻的两个基准点之间的轮廓线段信息和偏移后的相邻的两个基准点的位置信息在两者之间生成相应的缩放轮廓线段。然而，上述缩放轮廓线段的生成步骤因采用复杂的计算公式而计算量庞大，进而导致整个服装放码环节的耗时长、效率低。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于解决现有基于基准点偏移的服装放码方法因计算量大而耗时长、效率低的问题。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术提供一种服装样板轮廓缩放方法、系统及设备。
[0005]根据本专利技术的第一方面，提供一种服装样板轮廓缩放方法，该方法包括以下步骤：
[0006]在基础服装样板轮廓上选取基准点，并在相邻的两个基准点之间的轮廓线段上选取间隙点；
[0007]获取每个基准点的移动量，并根据获取的每个基准点的移动量对每个基准点进行偏移操作；
[0008]根据每个间隙点的当前位置信息以及每个间隙点对应的两个基准点在偏移前后的位置信息，并基于预定的位移函数对每个间隙点进行偏移操作；
>[0009]根据偏移后的各个基准点和各个间隙点获取缩放后的服装样板轮廓。
[0010]作为可选的是，所述在基础服装样板轮廓上选取基准点具体为：
[0011]将所述基础服装样板轮廓的各个转折点标记为基准点。
[0012]作为可选的是，所述在相邻的两个基准点之间的轮廓线段上选取间隙点具体为：
[0013]在所述轮廓线段上标记多个间隙点，所述多个间隙点均匀分布于所述两个基准点之间。
[0014]作为可选的是，所述位移函数为Offset(P)，定义为将间隙点P(px,py)偏移为点Q(ox,oy)；
[0015]其中：
[0016]ox＝qx1+C11*(px
‑
px1)+C12*(py
‑
py1)；
[0017]oy＝qy1+C21*(px
‑
px1)+C22*(py
‑
py1)；
[0018]C11＝((px2
‑
px1)*(qx2
‑
qx1)+(py2
‑
py1)*(qy2
‑
qy1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)
^2)；
[0019]C12＝((qx2
‑
qx1)*(py2
‑
py1)
‑
(px2
‑
px1)*(qy2
‑
qy1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；
[0020]C21＝((px2
‑
px1)*(qy2
‑
qy1)
‑
(qx2
‑
qx1)*(py2
‑
py1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；
[0021]C22＝((px2
‑
px1)*(qx2
‑
qx1)+(py2
‑
py1)*(qy2
‑
qy1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；
[0022]两个基准点分别为第一基准点和第二基准点，偏移前后的第一基准点分别为P1(px1,py1)和Q1(qx1,qy1)，偏移前后的第二基准点分别为P2(px2,py2)和Q2(qx2,qy2)。
[0023]根据本专利技术的第二方面，提供一种服装样板轮廓缩放系统，该系统包括以下功能模块：
[0024]轮廓选点模块，用于在基础服装样板轮廓上选取基准点，并在相邻的两个基准点之间的轮廓线段上选取间隙点；
[0025]基准点偏移模块，用于获取每个基准点的移动量，并根据获取的每个基准点的移动量对每个基准点进行偏移操作；
[0026]间隙点偏移模块，用于根据每个间隙点的当前位置信息以及每个间隙点对应的两个基准点在偏移前后的位置信息，并基于预定的位移函数对每个间隙点进行偏移操作；
[0027]缩放服装样板轮廓获取模块，用于根据偏移后的各个基准点和各个间隙点获取缩放后的服装样板轮廓。
[0028]作为可选的是，所述在基础服装样板轮廓上选取基准点具体为：
[0029]将所述基础服装样板轮廓的各个转折点标记为基准点。
[0030]作为可选的是，所述在相邻的两个基准点之间的轮廓线段上选取间隙点具体为：
[0031]在所述轮廓线段上标记多个间隙点，所述多个间隙点均匀分布于所述两个基准点之间。
[0032]作为可选的是，所述位移函数为Offset(P)，定义为将间隙点P(px,py)偏移为点Q(ox,oy)；
[0033]其中：
[0034]ox＝qx1+C11*(px
‑
px1)+C12*(py
‑
py1)；
[0035]oy＝qy1+C21*(px
‑
px1)+C22*(py
‑
py1)；
[0036]C11＝((px2
‑
px1)*(qx2
‑
qx1)+(py2
‑
py1)*(qy2
‑
qy1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；
[0037]C12＝((qx2
‑
qx1)*(py2
‑
py1)
‑
(px2
‑
px1)*(qy2
‑
qy1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；
[0038]C21＝((px2
‑
px1)*(qy2
‑
qy1)
‑
(qx2
‑
qx1)*(py2
‑
py1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；
[0039]C22＝((px2
‑
px1)*(qx2
‑
qx1)+(py2
‑
py本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种服装样板轮廓缩放方法，其特征在于，包括：在基础服装样板轮廓上选取基准点，并在相邻的两个基准点之间的轮廓线段上选取间隙点；获取每个基准点的移动量，并根据获取的每个基准点的移动量对每个基准点进行偏移操作；根据每个间隙点的当前位置信息以及每个间隙点对应的两个基准点在偏移前后的位置信息，并基于预定的位移函数对每个间隙点进行偏移操作；根据偏移后的各个基准点和各个间隙点获取缩放后的服装样板轮廓。2.根据权利要求1所述的服装样板轮廓缩放方法，其特征在于，所述在基础服装样板轮廓上选取基准点具体为：将所述基础服装样板轮廓的各个转折点标记为基准点。3.根据权利要求2所述的服装样板轮廓缩放方法，其特征在于，所述在相邻的两个基准点之间的轮廓线段上选取间隙点具体为：在所述轮廓线段上标记多个间隙点，所述多个间隙点均匀分布于所述两个基准点之间。4.根据权利要求1所述的服装样板轮廓缩放方法，其特征在于，所述位移函数为Offset(P)，定义为将间隙点P(px,py)偏移为点Q(ox,oy)；其中：ox＝qx1+C11*(px
‑
px1)+C12*(py
‑
py1)；oy＝qy1+C21*(px
‑
px1)+C22*(py
‑
py1)；C11＝((px2
‑
px1)*(qx2
‑
qx1)+(py2
‑
py1)*(qy2
‑
qy1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；C12＝((qx2
‑
qx1)*(py2
‑
py1)
‑
(px2
‑
px1)*(qy2
‑
qy1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；C21＝((px2
‑
px1)*(qy2
‑
qy1)
‑
(qx2
‑
qx1)*(py2
‑
py1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；C22＝((px2
‑
px1)*(qx2
‑
qx1)+(py2
‑
py1)*(qy2
‑
qy1))/((px2
‑
px1)^2+(py2
‑
py1)^2)；两个基准点分别为第一基准点和第二基准点，偏移前后的第一基准点分别为P1(px1,py1)和Q1(qx1,qy1)，偏移前后的第二基准点分别为P2(px2,py2)和Q2(qx2,qy2)。5.一种服装样板轮廓缩放系统，其特征在于，包括：轮廓选点模块，用于在基础服装样板轮廓上选取基准点，并在相邻的两个基准点之间的轮廓线段上选取间隙点；基准点...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁小燕，王嗣宗，
申请(专利权)人：上海百琪迈科技集团有限公司，
类型：发明
国别省市：