一种高耐候光学薄膜及其制备方法技术

技术编号:37664436 阅读:16 留言:0更新日期:2023-05-26 04:21
本发明专利技术公开了一种高耐候光学薄膜及其制备方法,涉及光学薄膜制备技术领域。该高耐候光学薄膜,包括基材,所述基材的背面设置有胶黏层,所述胶黏层设置于离型膜上,所述基材正面设置有防眩光层,所述防眩光层设置于减反射层上,所述减反射层设置于防指纹层上,所述防指纹层上设置有保护膜。该光学耐候性薄膜的制备方法,包括以下步骤:第一步、配制防眩光微粒涂液;第二步、将所述防眩光微粒涂液涂布于基材上;第三步、涂液固化后形成防眩光微粒涂层;第四步、在所述防眩光涂层上溅射减反射层;第五步、在所述减反射层上涂布得到防指纹层。本发明专利技术能有效减少外界强光经过光学薄膜的反射光对人眼造成的炫目,能满足车载环境测试严苛的要求。的要求。的要求。

【技术实现步骤摘要】
一种高耐候光学薄膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及屏幕保护膜制备
,具体为一种高耐候光学薄膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]近年来,随着科技的不断发展,光学薄膜的应用越来越广,光学薄膜技术一直是光学领域中不可忽略重要基础技术,而且品质要求也越来越高,加上近年来在资讯显示及光通讯科技快速发展之下,不论是在显示设备中分、合色元件,又或是在光通讯主、被动元件开发制备上,薄膜制备技术都是不可忽略的,尤其是车载显示屏作为HMI系统中的重要组成设备,市场需求将迎来快速提升,光学薄膜在车载显示屏领域的应用需求将大幅上升。
[0003]然而普通的显示屏有如下缺点:1)当外界环境中有强光时,光学薄膜会反射外界光进入人眼,使人眼产生炫目或疲劳;2)车载环境对光学薄膜的耐候特性测试要求严苛,玻璃透过率普遍在90%左右,导致屏幕的清晰度不高。

技术实现思路

[0004]解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种高耐候光学薄膜及其制备方法,解决了1)当外界环境中有强光时,光学薄膜会反射外界光进入人眼,使人眼产生炫目或疲劳;2)车载环境对光学薄膜的耐候特性测试要求严苛,玻璃透过率普遍在90%左右,导致屏幕的清晰度不高。
[0006]技术方案
[0007]为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:一种高耐候光学薄膜,包括基材,所述基材的背面设置有胶黏层,所述胶黏层背面设置有离型膜,所述基材正面设置有防眩光层,所述防眩光层正面设置有减反射层,所述减反射层正面设置有防指纹层,所述防指纹层正面设置有保护膜。
[0008]进一步地,所述基材为SRF光学级膜材。
[0009]进一步地,所述减反射层包括第一高折射层,所述第一高折射层的正面设置有第一低折射层,所述第一低折射层的正面设置有第二高折射层,所述第二高折射层的正面设置有第二低折射层。
[0010]进一步地,所述第一高折射层厚度8nm,第一低折射层厚度35nm,第二高折射层厚度111nm,第二低折射层厚度95nm。
[0011]进一步地,所述第一高折射层和第二高折射层的折射率为1.9~3.0,所述第一低折射层和第二低折射层的折射率为1.2~1.8。
[0012]一种高耐候光学薄膜的制备方法,包括以下步骤:
[0013]第一步、配制防眩光微粒涂液;
[0014]第二步、将所述防眩光微粒涂液涂布于基材上;
[0015]第三步、涂液固化后形成防眩光层;
[0016]第四步、在所述防眩光层上溅射减反射层;
[0017]第五步、在所述减反射层上涂布得到防指纹层。
[0018]进一步地,所述第一步中的防眩光微粒涂液的配置方法:
[0019]S1、将防眩光微粒、有机树脂、光引发剂、紫外吸收剂、光稳定剂溶解于溶剂中;
[0020]S2、最后加入助剂,搅拌均匀。
[0021]进一步地,所述防眩光微粒涂料按照重量百分比含量包括:有机树脂10%

30%、溶剂20%

90%、光引发剂0.5%

10%、紫外吸收剂0.5%

3%、光稳定剂0.5%

3%、气相二氧化硅0.1%

1.5%、助剂1%

5%。
[0022]进一步地,所述防眩光微粒涂料按照重量百分比含量包括:有机树脂25%

50%、溶剂20%

90%、光引发剂0.5%

5%、紫外吸收剂0.5%

1.5%、光稳定剂1%

1.5%、气相二氧化硅0.1%

1.2%、助剂1%

5%。
[0023]进一步地,所述第三步的固化为光热双重固化,高温固化条件为80℃、2mi n,紫外固化条件为500mj

1000mj/cm2紫外线照射剂量。
[0024]有益效果
[0025]本专利技术具有以下有益效果:
[0026](1)、该高耐候光学薄膜,通过光稳定剂或紫外吸收剂有效提高基膜的耐候性,使该高耐候性防眩光薄膜满足车载行业严苛的环境测试要求。
[0027](2)、该高耐候光学薄膜,通过防指纹层,有效的避免指纹的残留,使光学薄膜的耐刮伤性更高。
[0028](3)、该高耐候光学薄膜的制备方法,通过掺杂助剂纳米气相二氧化硅或二氧化钛调整防眩光涂层的断裂伸长率来和无机镀膜材料进行匹配,以提高有机涂层和无机镀膜层附着性,起到提高光学薄膜防眩光性的作用,使在外界环境中有强光经过光学薄膜反射外界光进入人眼时,避免使人眼产生炫目或疲劳。
[0029](4)、该高耐候光学薄膜的制备方法,通过减反射层的四层膜,对不同段的光波进行干涉,透光率增加3%

4%,减少或消除了光学薄膜表面上的反射光,从而增加了光学薄膜的透光率,起到提高光学薄膜的清晰度和图像色彩饱和度的作用。
[0030]当然,实施本专利技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0031]图1为本专利技术高耐候光学薄膜结构示意图;
[0032]图2为本专利技术减反射层结构示意图;
[0033]图3为本专利技术防眩光层结构示意图;
[0034]图4为本专利技术高耐候光学薄膜的制备方法流程图。
[0035]图中:1、保护膜;2、防指纹层;3、减反射层;301、第一高折射层;302、第一低折射层;303、第二高折射层;304、第二低折射层;4、防眩光层;5、基材;6、胶黏层;7、离型膜。
具体实施方式
[0036]下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完
整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0037]在本专利技术的描述中,需要理解的是,术语“开孔”、“上”、“下”、“厚度”、“顶”、“中”、“长度”、“内”、“四周”等指示方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位,以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0038]请参阅图1

图4,本专利技术实施例提供一种技术方案:
[0039]一种高耐候光学薄膜,如图1所示,为本专利技术高耐候性光学薄膜结构示意图,包括基材5,基材5的背面设置有胶黏层6,胶黏层6背面设置有离型膜7,基材5正面设置有防眩光层4,防眩光层4正面设置有减反射层3,减反射层3正面设置有防指纹层2,防指纹层2正面设置有保护膜1。
[0040]实施方式
[0041]基材5的背面设置有胶黏层6,胶黏层6的背面贴附有离型膜7本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高耐候光学薄膜,包括基材(5),其特征在于:所述基材(5)的背面设置有胶黏层(6),所述胶黏层(6)背面设置有离型膜(7),所述基材(5)正面设置有防眩光层(4),所述防眩光层(4)正面设置有减反射层(3),所述减反射层(3)正面设置有防指纹层(2),所述防指纹层(2)正面设置有保护膜(1)。2.根据权利要求1所述的一种高耐候光学薄膜,其特征在于:所述基材(5)为SRF光学级膜材。3.根据权利要求1所述的一种高耐候光学薄膜,其特征在于:所述减反射层(3)包括第一高折射层(301),所述第一高折射层(301)的正面设置有第一低折射层(302),所述第一低折射层(302)的正面设置有第二高折射层(303),所述第二高折射层(303)的正面设置有第二低折射层(304)。4.根据权利要求3所述的一种高耐候光学薄膜,其特征在于:所述第一高折射层(301)厚度8nm,第一低折射层(302)厚度35nm,第二高折射层(303)厚度111nm,第二低折射层(304)厚度95nm。5.根据权利要求3所述的一种高耐候光学薄膜,其特征在于:所述第一高折射层(301)和第二高折射层(303)的折射率为1.9~3.0,所述第一低折射层(302)和第二低折射层(304)的折射率为1.2~1.8。6.一种高耐候光学薄膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:第一步、配制防眩光微粒涂液;第二步、将所述防眩光微粒涂液涂布于基材(5)上;第三步、涂液固化后形成防眩光层(4);第四步、在所述防眩光层(4)上溅射减反射层(3);第五步、在所述减反射层(3)上涂布得到防指纹层(2)。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:齐竹竹郭秋泉
申请(专利权)人:江苏新澄瑞材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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