湿式清洗设备制造技术

本发明专利技术为一种湿式清洗设备，包括基板搬运装置以及清洗液供应装置。基板搬运装置具有承载面，且承载面具有倾斜角度，因而承载面具有较高部位以及较低部位。清洗液供应装置设置于基板搬运装置的上方，其中清洗液供应装置包括至少一清洗液供应管路以及多个喷嘴。清洗液供应管路的延伸方向与基板搬运装置的承载面实质平行。多个喷嘴装设于清洗液供应管路上，其中对应设置在承载面的较高部位的喷嘴的清洗液喷出量总合，大于对应设置于承载面的较低部位的喷嘴的清洗液喷出量总合。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种湿式清洗设备，其特征在于该湿式清洗设备包括：　一基板搬运装置，其具有一承载面，其中该基板搬运装置的该承载面具有一倾斜角度，因而该承载面具有一较高部位以及一较低部位；　一清洗液供应装置，设置于基板搬运装置的上方，其中该清洗液供 应装置包括：　至少一清洗液供应管路，该清洗液供应管路的延伸方向与该基板搬运装置的该承载面实质平行；　多个喷嘴，装设于该清洗液供应管路上，其中对应设置在该承载面的该较高部位的该些喷嘴的清洗液喷出量总合大于对应设置于该承载面的该较低 部位的该些喷嘴的清洗液喷出量总合。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林宗融，苏德修，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]