对中系统技术方案

技术编号:3760860 阅读:211 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及半导体晶片加工技术,具体地说是一种对中系统,解决半导体加工过程中调整被加工件晶片的中心位置误差大的问题。该系统设有工作盘,工作盘上的晶片及上方的工业照相机,工业照相机连至中央控制器的输入端,中央控制器的输出端连接驱动工作盘运动的电机。应用工业照相机,对晶片等被加工件照相,通过对图像识别,计算出晶片圆心位置、晶片大小、切边位置等信息。通过中央控制器计算处理以上信息控制电机,及丝杠,同步带等调整被加工件位置,使被加工件晶片等移动到中心的位置。通过选择高分辨率的工业照相机,精确图像识别,精密运动控制和传递系统,可以保证被加工件晶片等中心的精确定位。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体晶片加工技术,具体地说是一种对中系统
技术介绍
现有技术中,对晶片等被加工件对中的方法是使用气缸夹紧晶片,晶片位置 通过人眼观察调整,误差大。随着科技进步,晶片的加工工艺越来越复杂,要求在单位晶圆面积内制作的 器件更多,致使晶圆内线路的宽度变得更窄,导致对于工艺加工过程中,晶圆在 匀胶单元对中要求更高,即晶片与电机吸盘中心轴的同心度要求更高。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种对中系统,解决晶片等被加工件精确的对中要求。为了实现上述目的,本专利技术技术方案是一种对中系统,该系统设有工作盘,工作盘上的晶片及上方的工业照相机, 工业照相机连至中央控制器的输入端,中央控制器的输出端连接驱动工作盘运动 的电机。所述的对中系统,工作盘釆用电机皮带驱动结构。所述的对中系统,电机皮带驱动结构包括旋转部分和平移部分,旋转部分为 小带轮、同步带、大带轮构成,大带轮和工作盘固定于同一个转轴上,小带轮与 大带轮通过同步带连接,旋转台上的旋转轴电机输出端与小带轮连接,大带轮、 工作盘及晶片一同旋转;平移部分为带轮和同步带构成,两个带轮通过同步带连 接,平动台上的平移轴电机与其中一个带轮连乾旋转台位于平动台上,旋转台 与同步带固定,旋转台与其上的工作盘及晶片一同平动。所述的对中系统,工作盘釆用电机丝杠驱动结构。所述的对中系统,电机丝杠驱动结构包括X方向平动部分和Y方向平动部分, X方向平动部分为丝杠、螺母构成,电机输出端通过丝杠与螺母配合传动连接, 螺母安装于平动台上,电机、丝杠、螺母、平动台上安装的工作盘、晶片沿X方向平动;Y方向平动部分为丝杠、螺母构成,电机输出端通过丝杠与螺母配錄 动连接,螺母安装于工作盘上,电机、丝杠、螺母、工作盘和晶片一同沿Y方向 平动。本专利技术对中系统,应用工业照相机对工作底盘照相,通过对图像进行识别, 计算出工作底盘圆心位置。再对晶片等被加工件照相,通ii^f图像进行识别,计 算出晶片等被加工件圆心位置、晶片大小、切边位置等信息。通过中央控制器计 算处理晶片等被加工件圆心位置与工作底盘圆心位置差值,再控制电机,驱动丝 杠或同步带等调整被加工件位置,使得晶片等被加工件移动到工作底盘的中心。 根据选择高分辨率的工业照相机,精确图像识别,精密运动传递系统,可以保证 晶片等被加工件中心的精确定位。本专利技术具有如下有益效果1、 本专利技术应用工业照相机对晶片等被加工件照相,通过图像识别,计算出晶 片圆心位置、晶片大小、切边位置等信息,对中时间短,节省工艺处理时间。2、 本专利技术控制电机及丝杠、同步带等调整被加工件位置,使得晶片被加工件 移动到中心的位置,使用两个平移轴或一个平移轴和一旋转轴调整晶片位置,对 中误差小,精确对晶片等被加工件中心的定位。3、 本专利技术可以确定晶片切边位置,并保证统一。4、 本专利技术与晶片侧面和正面没有接触,减少污染可能。 附图说明图l是本专利技术整体结构示意图。图2本专利技术其它运动控制方式(如电机丝杠)示意图。 图3本专利技术中圆心位于不同坐标示意图。图中l-工作盘;2-圆晶片;3-工业照相机;4-电机P; 5-丝杠X; 6-螺母X ; 7-同步带P; 8-大带轮C; 9-小带轮C; ll-中央控制器;12-电机C; 13-托架;14-带轮P; 15-同步带C; 16-转轴;17-平动台;18-旋转台;19-丝杠Y; 20-螺母Y; 21-电机X; 22-电机Y。具体实施例方式以下结合附图和实施例对本专利技术作详细描述,对于被加工品可以是圆晶片、 方片、掩模板等。本专利技术以圆晶片为例说明,以电机带轮同步带运动控制方式为 例介绍如下如图l所示,本实施例设有工作盘l、工作盘1上的圆晶片2及上方的工业照相机3。中央控制器ll (中央控制器可以是工控机、PLC或单片机)控制工业 照相机3对圆晶片2照相,中央控制器11对照片进行图像识别,计算出圆心位置、 晶片大小、切边位置等信息,根据这些信息控制旋转轴电机C12,带动小带轮C9 和同步带C15带动大带轮C8;由于大带轮C8和工作盘1固定于同一个转轴16 上,大带轮C8、工作盘1及圆晶片2—同旋转。平移轴电机P4带动带轮P14和 同步带P7,由于旋转台18位于平动台17上,并旋转台18与同步带P7固定,旋 转台18则与其上的工作盘1及圆晶片2 —同平动,电机P4 —端设有托架13。如图2所示,本专利技术可以使用电机丝杠运动控制方式。图中电机X21带动丝 杠X5转动,则螺母X6平动,带动平动台17及上部件电机Y22、丝杠Y、工作 盘l、圆晶片2等沿X方向平动,平动台17上的电机Y22转动带动丝杠Y19转 动,则螺母Y20沿Y方向平动,带动工作盘1和圆晶片2—同沿Y方向平动。如图3所示,圆晶片2圆心可能位于不同坐标内,目的即为调整圆晶片2到 坐标圆点。当使用一个平移轴和一旋转轴调整晶片位置时在圆晶片2圆心位于不 同坐标内调整方法如下圆心A位于第一象限内A的坐标为(xl, yl )圆心位于第二象限内 B的坐标为(x2, yl )圆心位于第三象限内 C的坐标为(x2, y2)圆心位于第四象限内 D的坐标为(xl, y2)需要调整的角度为6 1:Ctg;移动的距离需要调整的角度为62 = Ctgx2;移动的距离需要调整的角度为63 = Ctgx2;移动的距离需要调整的角度为64-Ctg15;移动的距离5d4—xl2 +_y22 ;当使用两个平移轴调整晶片位置时在圆晶片2圆心位于不同象限内调整方法 如下圆心位于第一象限内A的坐标为(xl, yl), X方向移动xl, Y方向移动yl; 圆心位于第二象限内B的坐标为(x2, yl), X方向移动x2, Y方向移动yl; 圆心位于第三象限内C的坐标为(x2, y2), X方向移动x2, Y方向移动y2; 圆心位于第四象限内D的坐标为(xl, y2), X方向移动xl, Y方向移动y2。权利要求1、一种对中系统,其特征在于该系统设有工作盘,工作盘上的晶片及上方的工业照相机,工业照相机连至中央控制器的输入端,中央控制器的输出端连接驱动工作盘运动的电机。2、 按照权利要求l所述的对中系统,其特征在于工作盘釆用电机皮带驱动 结构。3、 按照权利要求2所述的对中系统,其特征在于电机皮带驱动结构包括旋 转部分和平移部分,旋转部分为小带轮、同步带、大带轮构成,大带轮和工作盘 固定于同一个转轴上,小带轮与大带轮通过同步带连接,旋转台上的旋转轴电机 输出端与小带轮连接;平移部分为带轮和同步带构成,两个带轮通过同步带连接, 平动台上的平移轴电机与其中一个带轮连接;旋转台位于平动台上,旋转台与同 步带固定。4、 按照权利要求l所述的对中系统,其特征在于工作盘釆用电机丝杠驱动 结构。5、 按照权利要求4所述的对中系统,其特征在于电机丝杠驱动结构包括X 方向平动部分和Y方向平动部分,X方向平动部分为丝杠、螺母构成,电机输出 端通过丝杠与螺母配合传动连接,螺母安装于平动台上;Y方向平动部分为丝杠、 螺母构成,电机输出端通过丝杠与螺母配合传动连接,螺母安装于工作盘上。全文摘要本专利技术涉及半导体晶片加工技术,具体地说是一种对中系统,解决半导体加工过程中调整被加工件晶片的中心位置误差大的问题。该系统设有工作盘,工作盘上的晶片及上方的工业照相机,工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对中系统,其特征在于:该系统设有工作盘,工作盘上的晶片及上方的工业照相机,工业照相机连至中央控制器的输入端,中央控制器的输出端连接驱动工作盘运动的电机。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张怀东郑春海
申请(专利权)人:沈阳芯源微电子设备有限公司
类型:发明
国别省市:89[中国|沈阳]

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