真空泵及真空泵具备的旋转圆筒体制造技术

提供一种真空泵及真空泵具备的旋转圆筒体，其能够在不使旋转圆筒体(旋转体)的转速下降的情况下减少应力且提高排气性能。在真空泵具备的圆筒部(旋转圆筒体)的排气口侧下部，设置与螺纹槽排气元件的固定侧零件相比向下游侧延伸的延伸部。在延伸部，外径越小，旋转时在内径侧产生的应力越小，所以借助具有缩径部的结构，即使不降低旋转体(圆筒部等)的转速，也能够使在圆筒部的内径侧产生的应力减少。此外，延伸部采用缓缩径构造，由此，能够减少缩径部的应力集中。部的应力集中。部的应力集中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空泵及真空泵具备的旋转圆筒体


[0001]本专利技术涉及真空泵及真空泵具备的旋转圆筒体。
[0002]详细地说，涉及减少对旋转圆筒体施加的应力的真空泵及真空泵具备的旋转圆筒体。

技术介绍

[0003]用于进行所配设的真空室内的真空排气处理的真空泵中有具备旋转体和螺纹槽排气元件(螺纹槽型排气机构/螺纹槽泵部)的真空泵。具备该螺纹槽排气元件的真空泵构成为，在旋转体的配设有旋转翼的下侧，设置没有旋转翼的旋转圆筒体(转子圆筒部)，压缩螺纹槽排气元件内的气体。
[0004]一般而言，包括设置这样的转子圆筒部的真空泵，在真空泵中，由于离心力而相对于转子圆筒部的内径侧产生应力，有该应力超过设计基准值的可能。
[0005]图9是用于说明以往的涡轮分子泵100的图。
[0006]如图9所示，以往的涡轮分子泵100中，与带螺纹的间隔件131经由间隙(空隙)在轴向上相向地配设圆筒部102d。在该圆筒部102d产生应力时，由于高温下的长期运动，发生圆筒部102d逐渐变形
·
膨胀的蠕变现象。
[0007]从维护成本的观点出发，较好的是，由于该蠕变现象而至带螺纹的间隔件131和圆筒部102d的空隙的规定值量变小的期间即蠕变寿命尽可能长。
[0008]专利文献1：日本特开平10
‑
246197号。
[0009]专利文献1中，记载了下述技术：以即使高速旋转也不会在旋转翼、支承该旋转翼的部位产生局部的应力、温度上升为目的，使旋转翼的外径在排气口侧和吸气口侧不同。
[0010]此外，除了上述专利文献1那样的结构以外，通过降低旋转体(旋转翼/旋转圆筒体)的转速来减少应力。
[0011]然而，若降低旋转体的转速则排气性能下降。

技术实现思路

[0012]本专利技术的目的在于提供一种真空泵及真空泵具备的旋转圆筒体，其能够在不使旋转圆筒体(旋转体)的转速下降的情况下减少应力且提高排气性能。
[0013]技术方案1记载的本专利技术中，提供一种真空泵，其特征在于，具备外装体、螺纹槽型排气机构、旋转轴、旋转圆筒体，前述外装体形成有吸气口和排气口，前述螺纹槽型排气机构固定于前述外装体，具有螺纹槽，前述旋转轴内包于前述外装体，被旋转自如地支承，前述旋转圆筒体配设于前述旋转轴，具有相向部和延伸部，前述相向部经由间隙与前述螺纹槽型排气机构相向，前述延伸部与前述螺纹槽型排气机构相比向下游侧延伸，在该延伸部具备缩径部、减少应力集中的缓缩径构造，前述缩径部具有比前述相向部的外径小的外径。
[0014]技术方案2记载的本专利技术中，提供技术方案1所述的真空泵，其特征在于，前述缓缩径构造是锥形构造。
[0015]技术方案3记载的本专利技术中，提供技术方案1所述的真空泵，其特征在于，前述缓缩径构造为曲面形状。
[0016]技术方案4记载的本专利技术中，提供技术方案1至3中任一项所述的真空泵，其特征在于，前述缩径部包括前述缓缩径构造。
[0017]技术方案5记载的本专利技术中，提供一种旋转圆筒体，是真空泵的旋转圆筒体，前述真空泵具备外装体、螺纹槽型排气机构、旋转轴，前述外装体形成有吸气口和排气口，前述螺纹槽型排气机构固定于前述外装体，具有螺纹槽，前述旋转轴内包于前述外装体，被旋转自如地支承，前述旋转圆筒体的特征在于，配设于前述旋转轴，具有相向部和延伸部，前述相向部经由间隙与前述螺纹槽型排气机构相向，前述延伸部与前述螺纹槽型排气机构相比向下游侧延伸，在该延伸部具备缩径部、减少应力集中的缓缩径构造，前述缩径部具有比前述相向部的外径小的外径。
[0018]专利技术效果
[0019]根据本专利技术，能够在不降低转速的情况下减少影响旋转圆筒体的蠕变寿命的部分的应力，所以与设计成降低转速来减少应力的结构相比，能够维持或提高排气性能。
附图说明
[0020]图1是表示本专利技术的实施方式的涡轮分子泵的概略结构例的图。
[0021]图2是表示本专利技术的实施方式中使用的放大回路的回路图的图。
[0022]图3是表示本专利技术的实施方式中的电流指令值比检测值大的情况的控制的时间图。
[0023]图4是表示本专利技术的实施方式中的电流指令值比检测值小的情况的控制的时间图。
[0024]图5是表示本专利技术的第1实施方式的涡轮分子泵的概略结构例的图。
[0025]图6是用于说明本专利技术的第1实施方式的涡轮分子泵的圆筒部及延伸部的图。
[0026]图7是图6所示的圆筒部及延伸部的放大图。
[0027]图8是用于说明延伸部的形状的图。
[0028]图9是表示以往的涡轮分子泵的概略结构例图。
具体实施方式
[0029](i)实施方式的概要
[0030]在本专利技术的实施方式的涡轮分子泵(真空泵)中，在涡轮分子泵具备的圆筒部(旋转圆筒体)的排气口侧下部，设置与螺纹槽排气元件的固定侧零件相比向下游侧延伸的延伸部。并且，缩径部设置于延伸部。
[0031]更详细地说，将圆筒部的下端部(排气口侧端部)比螺纹槽排气元件长地设计来设置延伸部。并且，在该转子圆筒部的延伸部，设置外径的大小比转子圆筒部的吸气口侧的与螺纹槽排气元件相向的部分(相向部)小的缩径部。进而，延伸部采用缓缩径构造。该缓缩径构造是指平缓地缩径的构造。
[0032]在延伸部，外径越小，旋转时在内径侧产生的应力越小，所以借助具有上述缩径部及缓缩径构造的结构，即使不降低旋转体(圆筒部等)的转速，也能够减少在圆筒部的内径
侧产生的应力。
[0033](ii)实施方式的详细情况
[0034]以下，关于本专利技术的优选的实施方式，参照图1至图8来详细地说明。
[0035]图1表示该涡轮分子泵100的纵剖视图。图1中，涡轮分子泵100在圆筒状的外筒127的上端形成有吸气口101。并且，在外筒127的内侧，具备旋转体103，前述旋转体103将用于将气体抽吸排出的涡轮叶片即多个旋转翼102(102a、102b、102c
···
)在周部放射状且多层地形成。在该旋转体103的中心安装有转子轴113，该转子轴113例如被5轴控制的磁轴承在空中悬浮支承且被位置控制。
[0036]上侧径向电磁铁104为4个电磁铁在X轴和Y轴上成对地配置。在该上侧径向电磁铁104的附近且与上侧径向电磁铁104分别对应地具备4个上侧径向传感器107。上侧径向传感器107例如使用具有传导绕组的电感传感器、涡电流传感器等，基于与转子轴113的位置对应地变化的该传导绕组的电感的变化检测转子轴113的位置。该上侧径向传感器107构成为，检测转子轴113、即固定于该转子轴113的旋转体103的径向位移，送向控制装置200。
[0037]在该控制装置200中，例如具有PID调节功能的补偿回路基于上侧径向传感器107检测到的位置信号生成上侧径向电磁铁104的励磁控制指令信号，图2所示的放大回路150(后述)基于该励磁控制指令信号对上侧径向电磁铁104进行励磁本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空泵，其特征在于，具备外装体、螺纹槽型排气机构、旋转轴、旋转圆筒体，前述外装体形成有吸气口和排气口，前述螺纹槽型排气机构固定于前述外装体，具有螺纹槽，前述旋转轴内包于前述外装体，被旋转自如地支承，前述旋转圆筒体配设于前述旋转轴，具有相向部和延伸部，前述相向部经由间隙与前述螺纹槽型排气机构相向，前述延伸部与前述螺纹槽型排气机构相比向下游侧延伸，在该延伸部具备缩径部、减少应力集中的缓缩径构造，前述缩径部具有比前述相向部的外径小的外径。2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，前述缓缩径构造是锥形构造。3.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，前述缓缩径构造为曲...

【专利技术属性】
技术研发人员：三轮田透，坂口祐幸，高井庆行，芝田康宽，
申请(专利权)人：埃地沃兹日本有限公司，
类型：发明
国别省市：