电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜及其制备方法技术

技术编号:37507922 阅读:30 留言:0更新日期:2023-05-07 09:46
本发明专利技术提供电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜及其制备方法,涉及聚酰亚胺技术领域。该电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜,包括以下百分比原料:聚酰胺酸40~60%、蒸馏水20~25%、有机高分子溶剂10~15%、分散剂5~10%、聚酰胺树脂5~10%、聚乙烯蜡2~5%、高熔点蜡2~5%、马来酸酐接共聚物蜡2~5%、聚乙烯2~5%、聚异丁烯2~5%、高级脂肪醇2~5%、石墨烯粉末3~5%、二氧化硅粉末3~5%和碳酸钙粉末3~5%。通过在原料内添加了聚乙烯蜡、高熔点蜡和马来酸酐接共聚物蜡,在薄膜表面成膜,以提高聚酰亚胺薄膜表面的光亮度及平滑度,提高了聚酰亚胺薄膜表面的光泽度,使用时更具美观性,值得大力推广。值得大力推广。

【技术实现步骤摘要】
电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及聚酰亚胺
,具体为电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]聚酰亚胺薄膜包括均苯型聚酰亚胺薄膜和联苯型聚酰亚胺薄膜两类,聚酰亚胺薄膜是聚酰亚胺最早的商品之一,用于电机的槽绝缘及电缆绕包材料,有突出的耐高温、耐辐射、耐化学腐蚀和电绝缘性能,可在250~280℃空气中长期使用,特别适宜用作柔性印制电路板基材和各种耐高温电机电器绝缘材料,热固性聚酰亚胺具有优异的热稳定性、耐化学腐蚀性和机械性能并且化学性质稳定。
[0003]目前现有的聚酰亚胺薄膜表面光泽度较差,使用时不具备美观性,并且现有的聚酰亚胺薄膜拉伸强度较弱,在使用时很容易发生断裂情况,影响用户的体验。

技术实现思路

[0004](一)解决的技术问题针对现有技术的不足,本专利技术提供了电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜及其制备方法,解决了现有聚酰亚胺薄膜表面光泽度较差和拉伸强度较弱的问题。
[0005](二)技术方案为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜,其特征在于:包括以下百分比原料:聚酰胺酸40~60%、蒸馏水20~25%、有机高分子溶剂10~15%、分散剂5~10%、聚酰胺树脂5~10%、聚乙烯蜡2~5%、高熔点蜡2~5%、马来酸酐接共聚物蜡2~5%、聚乙烯2~5%、聚异丁烯2~5%、高级脂肪醇2~5%、石墨烯粉末3~5%、二氧化硅粉末3~5%和碳酸钙粉末3~5%。2.根据权利要求1所述的电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述有机高分子溶剂为N-甲基吡络烷酮和四甲基尿素的混合物。3.根据权利要求1所述的电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述分散剂包括乙烯基双硬脂酰胺、硬脂酸单甘油酯、油酸酰和硬脂酸钙中的任一种或者两种以上的混合。4.根据权利要求1所述的电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述石墨烯粉末、二氧化硅粉末和碳酸钙粉末的粒径大小均为3~5纳米。5.根据权利要求1所述的电机用高光洁隔热型聚酰亚胺薄膜及其制备方法,其特征在于:包括以下步骤:S1.原料制备首先将聚酰胺酸、蒸馏水和有机高分子溶剂加入到溶桶内,并以200~300r/min的转速对溶桶内进行搅拌,持续搅拌5~10min后,即可制得聚酰胺酸溶液;S2.原料反应将制得的聚酰胺酸溶液添加至反应釜内,然后将分散剂和聚酰胺树脂均匀缓慢加入到反应釜内,同时以500~800r/min的转速对反应釜内进行搅拌,同时对反应釜内加热至220~2...

【专利技术属性】
技术研发人员:丁云保金岳保邹卫刚田波
申请(专利权)人:常熟市华强绝缘材料有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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