一种六方氮化硼纳米片低成本宏量制备方法技术

本发明专利技术提出一种六方氮化硼纳米片低成本宏量制备方法。所述制备方法包括：将B源和N源在混合溶剂中通过溶解、蒸发再结晶步骤制得均匀混合的前驱体粉末，在含氮气氛下加热至900～1100℃并保温反应120～240min，继续通气至自然冷却到室温获得粗产物，再对上述粗产物进行纯化处理，即可获得六方氮化硼纳米片粉体，本发明专利技术通过减小前驱体粒径并构建其层状形貌，在较低的合成温度下实现碳、氧、氢杂质元素的气态逸出从而生成了粒径较小的六方氮化硼纳米片粉末。本发明专利技术工艺简单，原料廉价易得，B源转化率可达80％以上，所合成的六方氮化硼纳米片颗粒尺寸均匀，是一种可实现单批次克级的低成本制备方法，有利于该材料的规模化生产及应用。用。用。

【技术实现步骤摘要】
一种六方氮化硼纳米片低成本宏量制备方法


[0001]本专利技术涉及氮化硼制备
，具体涉及一种六方氮化硼纳米片低成本宏量制备方法。

技术介绍

[0002]六方氮化硼纳米片(又称“白色石墨烯”)是纳米材料领域当下的研究热点之一，具有高导热率、电绝缘性能、润滑性能、生物兼容性、耐氧化和耐酸碱腐蚀能力等诸多特点，在电子封装、光电器件、储能和生物医药等尖端科技行业均有广泛的应用。六方氮化硼的晶体结构与石墨相似，在二维平面内B原子和N原子以极性共价键结合，相邻平面间以范德华力结合。通常由体相六方氮化硼粉末制备六方氮化硼纳米片的方法称为“自上而下”的剥离法，包括超声辅助液相剥离法、球磨法、微机械剥离法、化学剥离法等，这类方法虽然工艺简单，但效率较低、含有较多晶格缺陷且片层粒径分布不均匀，其产量难以满足实际的工业需求。专利CN112142019A公布了一种在有机溶剂中高压液相剥离制备六方氮化硼纳米片的方法，该方法以二亚甲砜、邻二氯苯等溶剂对氮化硼进行分散，在100～300MPa高压条件下实现剥离，但该方法需要大量毒性较强且价格昂贵的有机溶剂，同时压力条件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种六方氮化硼纳米片低成本宏量制备方法，其特征在于，包括：第一步，将B源和N源溶解于含水混合溶剂中，通过蒸发干燥结晶形成均匀的固态前驱体粉末；第二步，将上述前驱体固态粉末压片成型后转移到氮化硼坩埚中，在含氮反应气氛中加热反应，之后保持同样气氛自然冷却至室温获得粗产物；第三步，将第二步制备的粗产物研磨并进行纯化处理，即可获得六方氮化硼纳米片粉体。2.如权利要求1所述六方氮化硼纳米片低成本宏量制备方法，其特征在于：所述B源包括H3BO3或B2O3；所述N源包括C3N6H6或CO(NH2)2。3.如权利要求1或2所述六方氮化硼纳米片低成本宏量制备方法，其特征在于：所述混合溶剂包括去离子水和乙腈、N,N
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二甲基甲酰胺、正丙醇、环己烷的混合物。4.如权利要求1或2所述六方氮化硼纳米片低成本宏量制备方法，其特征在于：所述混合溶剂中去离子水和有机溶剂，所述去离子水和所述有机溶剂的按照体积比1:0.5～4配置。5.如权利要求4所述六方氮化硼纳米片低成...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋文全，李文芊，蒋利军，武媛方，罗熳，曾蓉，郭秀梅，李志念，郝雷，
申请(专利权)人：有研广东新材料技术研究院，
类型：发明
国别省市：