【技术实现步骤摘要】
半导体器件及其制造方法
[0001]本申请总体上涉及半导体器件,更具体地,涉及一种半导体器件及其制造方法。
技术介绍
[0002]由于消费者希望他们的电子产品更小、更快、性能更高,半导体行业一直面临着复杂集成的挑战。在便携式多媒体设备等尖端5G设备中,通常将处理系统和天线集成到单个封装中。在这样的配置中,多个电子部件可以集成在一个更小的封装件中,满足消费者在更小的设备中包含更多功能模块的需求。然而,这种高度集成要求更多的接口引脚数和更小的厚度,并因此产生更多的热量,散热效率更低。在这种情况下,封装件内积聚的热量可能会导致封装件翘曲问题并损害系统的功能。
[0003]因此,需要一种具有改进的热管理的半导体封装件。
技术实现思路
[0004]本申请的一个目的是提供一种用于半导体器件的热管理的设备。
[0005]根据本申请实施例的一个方面,提供了一种半导体器件。所述半导体器件包括:基底;至少一个电子部件,所述至少一个电子部件安装于所述基底上;密封剂,所述密封剂形成于所述基底上并至少部分地密封所述至少一个电子部件;屏蔽层,所述屏蔽层形成于所述密封剂上;热界面层,所述热界面层形成于所述屏蔽层上;以及金属盖,所述金属盖形成于所述热界面层上。
[0006]根据本申请实施例的一个方面,提供了一种半导体器件。所述半导体器件包括:基底;至少一个电子部件,所述至少一个电子部件安装于所述基底上;密封剂,所述密封剂形成于所述基底上并至少部分地密封所述至少一个电子部件;热界面层,所述热界面层形成于所述密封 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体器件,其特征在于,所述半导体器件包括:基底;至少一个电子部件,所述至少一个电子部件安装于所述基底上;密封剂,所述密封剂形成于所述基底上并至少部分地密封所述至少一个电子部件;屏蔽层,所述屏蔽层形成于所述密封剂上;热界面层,所述热界面层形成于所述屏蔽层上;以及金属盖,所述金属盖形成于所述热界面层上。2.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,所述屏蔽层包括:润湿子层;以及屏蔽子层,所述屏蔽子层形成于所述润湿子层上。3.根据权利要求2所述的半导体器件,其特征在于,所述屏蔽层进一步包括保护子层,所述保护子层形成于所述屏蔽子层上。4.根据权利要求3所述的半导体器件,其特征在于,所述保护子层的材料包括不锈钢、有机可焊性防腐剂或镍。5.根据权利要求2所述的半导体器件,其特征在于,所述润湿子层的材料包括不锈钢或钛;以及所述屏蔽子层的材料包括铜。6.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,所述至少一个电子部件包括一个或多个半导体裸片和一个或多个分立器件。7.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,所述密封剂被构造为,所述至少一个电子部件的顶面暴露于所述密封剂,从而与所述屏蔽层接触。8.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,所述密封剂被构造为覆盖所述至少一个电子部件的顶面和多个侧面。9.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于,所述热界面层包括焊膏。10.一种半导体器件,其特征在于,所述半导体器件包括:基底;至少一个电子部件,所述至少一个电子部件安装于所述基底上;密封剂,所述密封剂形成于所述基底上并至少部分地密封所述至少一个电子部件;热界面层,所述热界面层形成于所述密封剂上;金属盖,所述金属盖形成于所述热界面层上;以及屏蔽层,所述屏蔽层形成于所述基底上并覆盖所述金属盖,所述热界面层和所述密封剂。11.根据权利要求10所述的半导体器件,其特征在于,所述屏蔽层包括:屏蔽子层;以及保护子层,所述保护子层形成于所述润湿子层上。12.根据权利要求11所述的半导体器件,其特征在于,所述屏蔽层进一步包括润湿子层,所述润湿子层形成于所述屏蔽子层下方。13.根据权利要求12所述的半导体器件,其特征在于,所述润湿子层的材料包括不锈钢或钛。
14.根据权利要求11所述的半导体器件,其特征在于,所述屏蔽子层的材料包括铜;以及所述保护子层的材料包括不锈钢、有机可焊性防腐剂或镍。15.根据权利要求10所述的半导体器件,其特征在于,所述至少一个电子部件包括一个或多个半导体裸片和一个或多个分立器件。16.根据权利要求10所述的半导体器件,其特征在于,所述密封剂被构造为,所述至少一个电子部件的顶面暴露于所述密封剂,从而与所述屏蔽层接触。17.根据权利要求10所述的半导体器件,其特征在于,所述密封剂被构造为覆盖所述至少一个电子部件的顶面和多...
【专利技术属性】
技术研发人员:李承炫,金京焕,朴弘圭,徐仁镐,陈明圭,
申请(专利权)人:星科金朋私人有限公司,
类型:发明
国别省市:
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