光学层叠体的制造方法技术

该光学层叠体的制造方法是依次层叠塑料薄膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，其包括形成密合层的密合层形成工序、形成光学功能层的光学功能层形成工序、以规定的式(1)所示的表面粗糙度的变化率为5～35％或规定的式(2)所示的要素的平均长度的变化率为7～70％的方式对所述光学功能层的表面进行处理的表面处理工序和在经表面处理的所述光学功能层上形成防污层的防污层形成工序。成工序。成工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体的制造方法


[0001]本专利技术涉及光学层叠体的制造方法。
[0002]本申请基于2020年9月10日在日本申请的特愿2020
‑
151806号主张优先权，并在此引用其内容。

技术介绍

[0003]例如，在平板显示器(FPD)、触摸面板、太阳能电池等中，作为光学层叠体，为了防止表面的反射而使用各种防反射膜。以往，作为防反射膜，提出了具备在透明基板上依次层叠有高折射率层和低折射率层的多层膜的防反射膜。在这样的防反射膜的最外表面，通常以表面的保护、防污为目的而形成有防污层(表面保护层)。
[0004]近年来，防反射膜(光学层叠体)多用于智能手机、各种操作设备的触摸面板。由此，要求提高光学层叠体的耐磨损性。
[0005]例如，专利文献1中公开了通过将防污层的构成材料中所含的氟量设为特定的范围来提高耐磨损性的透明基板层叠体。
[0006]专利文献2中记载了一种防污层的形成方法，其在形成防污层之前，对被处理基材上的至少单面进行预处理，在该预处理后的表面形成防污层。另外，专利文献2中记载了预处理为高频放电等离子体法、电子束法、离子束法、蒸镀法、溅射法、碱处理法、酸处理法、电晕处理法、大气压辉光放电等离子体法中的任一种。
[0007]专利文献3中记载了一种防污性光学物品的制造方法，其通过蒸镀在基板表面形成防反射膜后，导入氧或氩进行等离子体处理，然后，真空蒸镀含氟有机硅化合物而形成防污层。
[0008]现有技术文献
[0009]专利文献
[0010]专利文献1：国际公开第2019/078313号
[0011]专利文献2：日本特开2006
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175438号公报
[0012]专利文献3：日本特开2005
‑
301208号公报
[0013]专利文献4：日本特许第6542970号公报

技术实现思路

[0014]专利技术所要解决的课题
[0015]然而，专利文献1中记载的透明基板层叠体存在如下课题：若反复摩擦，则对耐磨损性有帮助的未反应物被擦去，无法维持高耐磨损性。要求具备即使对于反复摩擦也能够维持高耐磨损性的防污层的光学层叠体。
[0016]本专利技术是鉴于上述问题而作出的，其目的在于提供耐久性优异的光学层叠体的制造方法。
[0017]用于解决课题的方法
[0018]为了解决上述课题，本专利技术提出了以下的方法。
[0019][1]本专利技术的第一方式的光学层叠体的制造方法是依次层叠塑料薄膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：形成密合层的密合层形成工序，形成光学功能层的光学功能层形成工序，以下述式(1)所示的表面粗糙度的变化率为5～35％或下述式(2)所示的要素的平均长度的变化率为7～70％的方式对上述光学功能层的表面进行处理的表面处理工序和在经表面处理的上述光学功能层上形成防污层的防污层形成工序；
[0020]表面粗糙度的变化率(％)＝((Ra2/Ra1)
‑
1)
×
100(％)
…
式(1)
[0021]式(1)中，Ra1表示未进行表面处理而形成了防污层的、光学层叠体的防污层的表面粗糙度(Ra)，Ra2表示对表面进行处理后形成了防污层的、光学层叠体的防污层的表面粗糙度(Ra)；
[0022]要素的平均长度的变化率(％)＝((RSm2/RSm1)
‑
1)
×
100(％)
…
式(2)
[0023]式(2)中，Rsm1表示未进行表面处理而形成了防污层的、光学层叠体的防污层的要素的平均长度(RSm)，RSm2表示对表面进行处理后形成了防污层的、光学层叠体的防污层的要素的平均长度(RSm)。
[0024][2]上述方式的光学层叠体的制造方法中，也可以是，上述表面处理工序是辉光放电处理工序，上述辉光放电处理工序中的累积输出为130W
·
min/m2以上且2000W
·
min/m2以下。
[0025][3]上述方式的光学层叠体的制造方法中，可以通过溅射形成上述密合层和上述光学功能层。
[0026][4]上述方式的光学层叠体的制造方法中，在上述防污层形成工序中，可以通过真空蒸镀形成上述防污层。
[0027][5]上述方式的光学层叠体的制造方法中，可以在减压下连续进行上述密合层形成工序、上述光学功能层形成工序、上述表面处理工序和上述防污层形成工序。
[0028][6]上述方式的光学层叠体的制造方法中，可以在上述密合层形成工序之前具有形成硬涂层的硬涂层形成工序。
[0029][7]上述方式的光学层叠体的制造方法中，上述光学功能层可以包含选自防反射层和选择反射层中的任意1种。
[0030][8]上述方式的光学层叠体的制造方法中，上述光学功能层可以具备低折射率层。
[0031][9]上述方式的光学层叠体的制造方法中，上述光学功能层形成工序可以为将低折射率层和高折射率层交替层叠而形成层叠体的工序。
[0032][10]上述方式的光学层叠体的制造方法中，在上述表面处理工序中，可以对上述低折射率层的表面进行处理。
[0033][11]上述方式的光学层叠体的制造方法中，上述低折射率层可以包含金属的氧化物。
[0034][12]本专利技术的第三方式的光学层叠体是依次层叠透明基材、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体，上述防污层由蒸镀防污性材料而成的蒸镀膜构成。
[0035][13]上述方式的光学层叠体中，上述光学功能层可以包含选自防反射层和选择反射层中的任意1种。
[0036][14]上述方式的光学层叠体中，上述光学功能层可以具备低折射率层。
[0037][15]上述方式的光学层叠体中，上述光学功能层可以由低折射率层和高折射率层交替层叠而成的层叠体构成。
[0038][16]上述方式的光学层叠体中，上述防污层可以与上述低折射率层接触而设置。
[0039][17]上述方式的光学层叠体中，上述密合层可以包含金属或金属的氧化物。
[0040][18]上述方式的光学层叠体中，上述防污性材料可以包含氟系有机化合物。
[0041][19]上述方式的光学层叠体可以在上述透明基材与上述密合层之间进一步具备硬涂层。
[0042][20]本专利技术的第四方式的物品具备上述方式的光学层叠体。
[0043][21]本专利技术的第五方式的光学层叠体的制造方法为上述方式的光学层叠体的制造方法，其具有防污层形成工序：在上述光学功能层的一面侧形成由蒸镀膜构成的上述防污层，上述蒸镀膜是通过真空蒸镀来蒸镀防污性材料而成。
[0044][22]上述方式的光学层叠体的制造方法中，可以具有通过溅射形成上述光学功能层的光学功能层形成工序，在减压下连续进行上述光学功能层形成工序和上述防污层形成工序。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学层叠体的制造方法，其为依次层叠塑料薄膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体的制造方法，包括：形成密合层的密合层形成工序，形成光学功能层的光学功能层形成工序，以下述式(1)所示的表面粗糙度的变化率为5～35％或下述式(2)所示的要素的平均长度的变化率为7～70％的方式对所述光学功能层的表面进行处理的表面处理工序，和在经表面处理的所述光学功能层上形成防污层的防污层形成工序；表面粗糙度的变化率(％)＝((Ra2/Ra1)
‑
1)
×
100(％)
…
式(1)式(1)中，Ra1表示未进行表面处理而形成了防污层的、光学层叠体的防污层的表面粗糙度即Ra，Ra2表示对表面进行处理后形成了防污层的、光学层叠体的防污层的表面粗糙度即Ra；要素的平均长度的变化率(％)＝((RSm2/RSm1)
‑
1)
×
100(％)
…
式(2)式(2)中，RSm1表示未进行表面处理而形成了防污层的、光学层叠体的防污层的要素的平均长度即RSm，RSm2表示对表面进行处理后形成了防污层的、光学层叠体的防污层的要素的平均长度即RSm，其中，Ra2为3nm以上且9nm以下，Rsm2为55nm以上且90nm以下。2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法，其中，所述表面处理工序为辉光放电处理工序，所述辉光放电处理工序中的累积输出为130W
·
...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林智明，黄臻，铃木克利，铃木嗣人，木伏祐子，
申请(专利权)人：迪睿合株式会社，
类型：发明
国别省市：