一种显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括：显示区和围绕所述显示区的周边区；所述周边区上设置有凸起的平台结构，所述平台结构上设置有对位标记，所述对位标记在所述平台结构上表面的正投影位于所述上表面内，且所述上表面的面积大于所述正投影的面积。通过本发明专利技术提供了一种对位准确度高的显示面板及其制备方法。及其制备方法。及其制备方法。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。

技术介绍

[0002]显示面板为多功能层堆叠的膜层结构，在其制备过程中，往往需要进行多次曝光显影来实现各功能层的图形化。然而，曝光显影需要通过对位标记来对准，以避免各功能层的错位。
[0003]以彩色滤光片工艺(Color Filter on Encapsulation，COE)技术制备的显示面板为例。虽然COE技术能增加出光量，节约了大量的生产成本，但其像素定义层和黑色矩阵层的对位精度急需提高。

技术实现思路

[0004]鉴于上述问题，提出了本专利技术以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的显示面板及其制备方法。
[0005]第一方面，提供一种显示面板，包括：
[0006]显示区和围绕所述显示区的周边区；
[0007]所述周边区上设置有凸起的平台结构，所述平台结构上设置有对位标记，所述对位标记在所述平台结构上表面的正投影位于所述上表面内，且所述上表面的面积大于所述正投影的面积。
[0008]可选的，所述平台结构的高度为1.0～5.0μm；所述对位标记的厚度为0.1～0.5μm。
[0009]可选的，所述平台结构的材料为有机可固化材料。
[0010]可选的，所述平台结构的材料为光敏聚酰亚胺或亚克力。
[0011]可选的，所述衬底基板上依次设置有源漏层和平坦层，所述平台结构与所述平坦层同层；或者，所述衬底基板上依次设置有晶体管层和像素定义层，所述平台结构与所述像素定义层同层。
[0012]可选的，所述衬底基板上设置有源漏层，所述对位标记与所述源漏层同层；或者，所述衬底基板上设置有金属电极层，所述对位标记与所述金属电极层同层。
[0013]可选的，所述正投影的边缘与所述上表面的边缘均间隔。第二方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：
[0014]提供衬底基板；
[0015]在所述衬底基板上形成凸起的平台结构；
[0016]在所述平台结构上制备对位标记，所述对位标记在所述平台结构上表面的正投影位于所述上表面内，且所述上表面的面积大于所述正投影的面积；
[0017]基于所述对位标记，进行对位曝光工艺以制备功能层。
[0018]可选的，所述平台结构的高度为1.0～5.0μm；所述对位标记的厚度为0.1～0.5μm。
[0019]可选的，所述平台结构的材料为有机可固化材料。
[0020]可选的，所述平台结构的材料为光敏聚酰亚胺或亚克力。
[0021]可选的，所述在所述衬底基板上形成凸起的平台结构，包括：在所述衬底基板上形成源漏层，并在所述源漏层上形成平坦层；图形化所述平坦层形成所述平台结构；或者，在所述衬底基板上形成晶体管层，并在所述晶体管层上形成像素定义层；图形化所述像素定义成层形成所述平台结构。
[0022]可选的，所述在所述平台结构上制备对位标记，包括：在形成有所述平台结构的所述衬底基板上形成源漏层；图形化所述源漏层形成所述对位标记；或者，在形成有所述平台结构的所述衬底基板上形成金属电极层；图形化所述金属电极层形成所述对位标记。
[0023]可选的，所述正投影的边缘与所述上表面的边缘均间隔。
[0024]可选的，所述基于所述对位标记，进行对位曝光工艺以制备功能层，包括：在所述衬底基板上涂覆有色光刻胶，其中，在所述平台结构与周边的高度差作用下，所述对位标记上遮挡的所述有色光刻胶厚度减薄；基于所述对位标记，进行对位曝光工艺以制备功能层。
[0025]可选的，所述基于所述对位标记，进行对位曝光工艺以制备功能层，包括：基于所述对位标记，进行对位曝光工艺以制备像素定义层和/或黑色矩阵层。
[0026]本专利技术实施例中提供的技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
[0027]本专利技术实施例提供的显示面板及其制备方法，设置先形成凸起的平台结构，再在平台结构上制备对位标记，且对位标记完全位于平台结构上表面内。在进行对位曝光工艺时，衬底基板上涂覆的光刻胶在重力和平台结构与周边的高度差作用下，大部分光刻胶流下平台结构，使得对位标记上遮挡的光刻胶厚度减薄，对位标记表面的光刻胶透过率变高。这样就能避免光刻胶(特别是有色光刻胶)对对位标记的遮挡，能够在进行曝光工艺时，更精确的识别对位标记的位置，提高各功能层制备时对位的精确性，从而提高良率和产品可靠性。
附图说明
[0028]通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
[0029]图1为本专利技术实施例中显示面板的制备方法的流程图；
[0030]图2为本专利技术实施例中显示面板的制备方法的工艺示意图一；
[0031]图3为本专利技术实施例中显示面板的制备方法的工艺示意图二；
[0032]图4为本专利技术实施例中显示面板的制备方法的工艺示意图三；
[0033]图5为本专利技术实施例中显示面板的制备方法的工艺示意图四；
[0034]图6为本专利技术实施例中显示面板的制备方法的工艺示意图五；
[0035]图7为本专利技术实施例中显示面板的结构示意图；
[0036]图8为本专利技术实施例中显示面板的剖视图一；
[0037]图9为本专利技术实施例中显示面板的剖视图二。
具体实施方式
[0038]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开
的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本公开的概念。
[0039]在附图中示出了根据本公开实施例的各种结构示意图。这些图并非是按比例绘制的，其中为了清楚表达的目的，放大了某些细节，并且可能省略了某些细节。图中所示出的各种区域、层的形状以及它们之间的相对大小、位置关系仅是示例性的，实际中可能由于制造公差或技术限制而有所偏差，并且本领域技术人员根据实际所需可以另外设计具有不同形状、大小、相对位置的区域/层。
[0040]在本公开的上下文中，当将一层/元件称作位于另一层/元件“上”时，该层/元件可以直接位于该另一层/元件上，或者它们之间可以存在居中层/元件。另外，如果在一种朝向中一层/元件位于另一层/元件“上”，那么当调转朝向时，该层/元件可以位于该另一层/元件“下”。
[0041]为了更好的理解上述技术方案，下面将结合具体的实施方式对上述技术方案进行详细说明，应当理解本公开内容实施例以及实施例中的具体特征是对本申请技术方案的详细的说明，而不是对本申请技术方案的限定，在不冲突的情况下，本申请实施例以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：显示区和围绕所述显示区的周边区；所述周边区上设置有凸起的平台结构，所述平台结构上设置有对位标记，所述对位标记在所述平台结构上表面的正投影位于所述上表面内，且所述上表面的面积大于所述正投影的面积。2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于：所述平台结构的高度为1.0～5.0μm；所述对位标记的厚度为0.1～0.5μm。3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述平台结构的材料为有机可固化材料。4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述平台结构的材料为光敏聚酰亚胺或亚克力。5.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于：所述衬底基板上依次设置有源漏层和平坦层，所述平台结构与所述平坦层同层；或者，所述衬底基板上依次设置有晶体管层和像素定义层，所述平台结构与所述像素定义层同层。6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于：所述衬底基板上设置有源漏层，所述对位标记与所述源漏层同层；或者，所述衬底基板上设置有金属电极层，所述对位标记与所述金...

【专利技术属性】
技术研发人员：王云浩，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：