提供了一种显示装置及制造显示装置的方法。所述显示装置包括:像素和堤,所述堤包括在平面图中与像素中的每个叠置的开口,其中,所述像素包括:发光元件,设置在像素中;颜色转换层,在堤的开口中设置在发光元件上;光学层,在堤的开口中设置在颜色转换层上。光学层包括围绕光学层的空隙的有机层。绕光学层的空隙的有机层。绕光学层的空隙的有机层。
【技术实现步骤摘要】
显示装置及制造显示装置的方法
[0001]本申请要求于2021年10月27日在韩国知识产权局提交的第10
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2021
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0144873号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
[0002]公开涉及一种显示装置和一种制造该显示装置的方法。
技术介绍
[0003]最近,对信息显示的兴趣已经增大。因此,对显示装置的研究和开发正在不断进行。
[0004]将理解的是,技术部分的该背景部分地意图提供用于理解技术的有用背景。然而,技术部分的该背景还可以包括不是在这里公开的主题的对应的有效申请日之前相关领域技术人员已知或理解的内容的部分的想法、构思或认识。
技术实现思路
[0005]公开的目的是提供一种包括具有超低折射率的光学层的显示装置。
[0006]公开的目的不限于上面的目的,并且本领域普通技术人员将从下面的描述中清楚地理解其它目的。
[0007]根据实施例,显示装置可以包括:像素;堤,包括在平面图中与像素中的每个叠置的开口,其中,像素包括:发光元件,设置在像素中;颜色转换层,在堤的开口中设置在发光元件上;以及光学层,在堤的开口中设置在颜色转换层上,其中,光学层可以包括围绕光学层的空隙的有机层。
[0008]光学层可以具有约1.25或更小的折射率。
[0009]光学层可以具有在约0.2μm至约3.0μm范围内的厚度。
[0010]光学层的空隙可以具有不同的直径。
[0011]光学层的空隙中的每个可以具有在约2nm至约150nm范围内的直径。
[0012]像素可以包括第一像素、第二像素和第三像素,并且第一像素的光学层、第二像素的光学层和第三像素的光学层可以彼此分离。
[0013]显示装置还可以包括设置在颜色转换层与光学层之间的第一覆盖层。
[0014]显示装置还可以包括在平面图中与光学层叠置的第二覆盖层。
[0015]第二覆盖层可以在堤上与第一覆盖层接触。
[0016]发光元件可以均包括:第一半导体层;第二半导体层,设置在第一半导体层上;以及活性层,设置在第一半导体层与第二半导体层之间。
[0017]根据实施例,制造显示装置的方法可以包括:设置堤,所述堤包括在平面图中与像素的发光元件叠置的开口;在堤的开口中设置颜色转换层;在颜色转换层上设置包括空隙形成材料的光学材料层;以及对光学材料层执行热处理以使空隙形成材料挥发而形成光学层。
[0018]制造显示装置的方法还可以包括使空隙形成材料挥发以在光学层中形成空隙。
[0019]热处理可以在约200℃或更低的温度下进行。
[0020]基于光学材料层的总重量,空隙形成材料的含量可以在约40wt%至约70wt%范围内。
[0021]可以将光学层的空隙形成为具有不同的直径。
[0022]可以将光学层的空隙中的每个形成为具有在约2nm至约150nm范围内的直径。
[0023]可以将光学层形成为具有在约0.2μm至约3.0μm范围内的厚度。
[0024]可以在堤的开口中设置光学材料层。
[0025]像素可以包括第一像素、第二像素和第三像素,并且可以在第一像素、第二像素和第三像素中分开地设置光学材料层。
[0026]可以通过喷墨印刷设置光学材料层。
[0027]其它实施例包括在详细描述和附图中。
附图说明
[0028]通过参照附图详细描述公开的实施例,公开的以上和其它方面和特征将变得更加明显,在附图中:
[0029]图1是示出根据实施例的发光元件的示意性透视图;
[0030]图2是示出根据实施例的发光元件的示意性剖视图;
[0031]图3是示出根据实施例的显示装置的示意性平面图;
[0032]图4是根据实施例的像素的等效电路的示意图;
[0033]图5是示出根据实施例的像素的示意性平面图;
[0034]图6是沿着图5的线A
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A'截取的示意性剖视图;
[0035]图7是示出根据实施例的第一像素至第三像素的示意性剖视图;
[0036]图8是示出图7的光学层的示意性剖视图;并且
[0037]图9至图15是根据实施例的制造显示装置的方法的逐步工艺的示意性剖视图。
具体实施方式
[0038]将参照下面参照附图详细描述的实施例来阐明公开的优点和特征以及实现它们的方法。然而,公开不限于以下实施例,并且可以以不同的各种形式实施。公开不限于下面公开的实施例,而是将以各种不同的形式实现。提供实施例使得公开是完整的,并且提供实施例以充分告知公开所属领域的普通技术人员公开的范围。公开可以由权利要求的范围限定。
[0039]这里使用的术语是出于描述实施例的目的,而不意图限制公开。
[0040]在附图中,为了易于描述和清楚起见,可以夸大元件的大小、厚度、比率和尺寸。同样的附图标记始终表示同样的元件。
[0041]除非上下文另有明确说明,否则这里使用的单数形式“一”、“一个(种/者)”和“所述(该)”意图也包括复数形式。
[0042]在说明书和权利要求书中,术语“和/或”出于其含义和解释的目的意图包括术语“和”与“或”的任何组合。例如,“A和/或B”可以被理解为意味着“A、B、或A和B”。术语“和”与
“
或”可以以连接或分离的意义来使用,并且可以被理解为等同于“和/或”。
[0043]在说明书和权利要求书中,短语
“……
中的至少一个”出于其含义和解释的目的意图包括“选自
……
的组中的至少一个”的含义。例如,“A和B中的至少一个”可以被理解为意味着“A、B、或A和B”。
[0044]当在本说明书中使用术语“包括”、“包含”、“具有”及其变型时,说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组,但不排除存在或添加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
[0045]短语“在平面图中”意味着从顶部观看目标,并且短语“在示意性剖视图中”意味着从侧面观看目标被竖直切割的剖面。
[0046]另外,术语“连接”或“结合”可以指包括物理和/或电连接或结合。其通常还可以指直接或间接连接或结合以及一体或非一体连接或结合。
[0047]将理解的是,当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”时,它可以直接或间接地在所述另一元件或层上。例如,可以在其间存在居间元件或层。在整个说明书中,相同的附图标记表示相同的元件。
[0048]将理解的是,尽管这里可以使用“第一”、“第二”等来描述各种元件,但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。因此,明显的是,在公开的精神和范围内,下面描述的第一元件可以是第二元件。
[0049]为了易于描述,可以在这里使用诸如“在
……
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示装置,所述显示装置包括:像素;以及堤,包括在平面图中与所述像素中的每个叠置的开口,其中,所述像素包括:发光元件,设置在所述像素中;颜色转换层,在所述堤的所述开口中设置在所述发光元件上;以及光学层,在所述堤的所述开口中设置在所述颜色转换层上,其中,所述光学层包括围绕所述光学层的空隙的有机层。2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述光学层具有1.25或更小的折射率。3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述光学层具有在0.2μm至3.0μm范围内的厚度。4.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述光学层的所述空隙具有不同的直径。5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述光学层的所述空隙中的每个具有在2nm至150nm范围内的直径。6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述像素包括第一像素、第二像素和第三像素,并且所述第一像素的光学层、所述第二像素的光学层和所述第三像素的光学层彼此分离。7.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:第一覆盖层,设置在所述颜色转换层与所述光学层之间。8.根据权利要求7所述的显示装置,所述显示装置还包括:第二覆盖层,在平面图中与所述光学层叠置。9.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述第二覆盖层在所述堤上与所述第一覆盖层接触。10.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述发光元件均包括:第一半导体层;第二半导体层,设置在所述第一半导体层上;以及活性层,设置在所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员:金昤究,朴允熙,朴志奫,崔淑景,卓炅善,
申请(专利权)人:三星显示有限公司,
类型:发明
国别省市:
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