本实用新型专利技术提供一种触控面板和触控显示装置，触控面板包括电极层，电极层包括：平行且间隔设置的若干导通区；位于相邻导通区之间的非导通区，非导通区包括靠近导通区的边缘区和远离导通区的中心区，边缘区与中心区邻接；位于非导通区的若干悬浮块，靠近导通区的悬浮块与导通区之间、以及相邻悬浮块之间均具有切割槽，位于边缘区的切割槽的密度大于位于中心区的切割槽的密度。切割槽的分布与电场线的分布相适配，改善了电场线的分布情况，从而增大了触控过程中的信号质量，进而增大了触控面板的触控效果。触控效果。触控效果。
【技术实现步骤摘要】
一种触控面板和触控显示装置
[0001]本技术涉及触控面板
，具体涉及一种触控面板和触控显示装置。
技术介绍
[0002]触控面板中的电极层包括若干导通区以及位于相邻导通区之间的非导通区。通常在沉积整面导电材料(如纳米银、氧化铟锡等)后采用光刻工艺或者激光切割工艺制备电极层。光刻工艺是将非导通区的导电材料全部去除，仅保留导通区的导电材料；参见图1，激光切割工艺是对整面导电材料进行切割，以将非导通区02的导电材料与导通区01的导电材料分隔开来，并将非导通区的导电材料进行等间距切割以获得若干悬浮块021以及位于相邻悬浮块之间的切割槽022，从而得到电极层0。相对于光刻工艺，激光切割工艺无需掩模，因此具有更佳的灵活性和更低的加工成本。
[0003]然而，单个悬浮块上的电势相等，这导致电场线的分布情况受到影响，进而降低了触控过程中的信号质量，限制了触控面板的触控效果。由此可见，激光切割工艺制备电极层的方法有待改进。
技术实现思路
[0004]因此，本技术要解决的技术问题在于如何提高触控面板的触控效果，进而提供一种触控面板和触控显示装置。
[0005]本技术提供一种触控面板，包括电极层，所述电极层包括：平行且间隔设置的若干导通区；位于相邻所述导通区之间的非导通区，所述非导通区包括靠近所述导通区的边缘区和远离所述导通区的中心区，所述边缘区与所述中心区邻接；位于所述非导通区的若干悬浮块，靠近所述导通区的悬浮块与所述导通区之间、以及相邻所述悬浮块之间均具有切割槽，位于所述边缘区的切割槽的密度大于位于所述中心区的切割槽的密度。
[0006]可选的，所述非导通区包括沿着所述非导通区的延伸方向依次连接的若干相同的非导通子区，所述导通区包括沿着所述导通区的延伸方向依次连接的若干相同的导通子区，一个导通区中的至少一个导通子区与相邻一导通区中的至少一个导通子区围设的区域构成所述非导通子区，从所述非导通子区的边缘至所述非导通子区的中心，相邻所述切割槽的间距逐渐增大。
[0007]可选的，从所述非导通子区的边缘至所述非导通子区的中心，相邻所述切割槽的间距依次等比放大或等差放大。
[0008]可选的，所述切割槽平行于所述导通子区的至少一个边缘。
[0009]可选的，所述导通子区包括电极块和连接部且电极块至连接部的方向平行于所述导通区的延伸方向，相邻两个导通子区中的电极块通过所述连接部连接，所述切割槽平行于所述电极块的边缘，所述电极块的形状包括菱形、三角形；或者，所述导通子区呈矩形，所述导通区和所述非导通区均呈条形，所述切割槽平行于所述导通区的边缘。
[0010]可选的，位于每个所述非导通子区内的若干所述悬浮块呈所述非导通子区的中心
对称分布。
[0011]可选的，所述切割槽的宽度为20μm
‑
60μm。
[0012]可选的，包括靠近触敏表面的顶电极和背离所述触敏表面的底电极，所述电极层为所述顶电极或者所述底电极。
[0013]可选的，包括靠近触敏表面的顶电极和背离所述触敏表面的底电极，所述电极层为所述顶电极和所述底电极。
[0014]可选的，所述触控面板还包括位于所述底电极背离所述顶电极的一侧的显示模组，所述触控面板包括中心区域以及位于所述中心区域外围的边缘区域，所述边缘区域与所述中心区域邻接，位于所述边缘区域的底电极的切割槽的密度小于位于所述中心区域的底电极的切割槽的密度。
[0015]可选的，所述触控面板还包括位于所述底电极背离所述顶电极的一侧的显示模组，所述触控面板包括中心区域以及位于所述中心区域外围的边缘区域，所述边缘区域与所述中心区域邻接，所述底电极为感应电极层，位于所述边缘区域的底电极的切割槽的密度小于位于所述边缘区域的顶电极的切割槽的密度，位于所述中心区域的底电极的切割槽的密度小于位于所述中心区域的顶电极的切割槽的密度。
[0016]本技术还提供一种触控显示装置，包括上述触控面板。
[0017]本技术技术方案，具有如下优点：
[0018]1.本技术提供的触控面板，利用了非导通区中靠近导通区的边缘区的电场线的密集程度大于远离导通区的中心区的电场线的密集程度的原理，通过限定位于所述边缘区的切割槽的密度大于位于所述中心区的切割槽的密度，使得切割槽的分布与电场线的分布相适配，改善了电场线的分布情况，从而能够在一定程度上增大触控过程中的信号质量，进而增大触控面板的触控效果。
[0019]2.本技术提供的触控面板，通过限定位于所述边缘区域的底电极的切割槽的密度小于位于所述中心区域的底电极的切割槽的密度，使位于边缘区域的底悬浮块具有相对较大的面积从而具有相对较大的屏蔽效果，能够在一定程度上减小来自下方显示模组的噪声，进而提高边缘区域的触控信号的信噪比，进一步改善了边缘区域的触控效果。
[0020]3.本技术提供的触控面板，通过限定位于所述边缘区域的底电极的切割槽的密度小于位于所述边缘区域的顶电极的切割槽的密度，位于所述中心区域的底电极的切割槽的密度小于位于所述中心区域的顶电极的切割槽的密度，使位于所述边缘区域和中心区域的底悬浮块具有较大的面积，从而使底悬浮块具有相对较大的屏蔽效果，能够在一定程度上减小来自下方显示模组的噪声，进一步改善了触控效果。
[0021]4.本技术提供的触控显示装置，在触控过程中信号质量较高且负载较小，具有优异的触控效果。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为一种电极层的局部结构示意图；
[0024]图2为本技术实施例提供的一种电极层的局部结构示意图；
[0025]图3为图2中的一种非导通区的局部放大图；
[0026]图4为本技术实施例提供的另一种电极层的局部结构示意图；
[0027]图5为图4中的一种非导通区的局部放大图；
[0028]图6为本技术实施例提供的一种触控面板的结构示意图；
[0029]图7为本技术实施例的顶电极在底电极平面的一种局部投影示意图；
[0030]图8为本技术实施例的顶电极在底电极平面的另一种局部投影示意图；
[0031]图9为本技术实施例提供的一种底电极的局部结构示意图；
[0032]附图标记说明：
[0033]0‑
电极层；01
‑
导通区；02
‑
非导通区；021
‑
悬浮块；022
‑
切割槽；1
‑
电极层；11
‑
导通区；111
‑
电极块；112
‑
连接部；本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种触控面板，包括电极层，其特征在于，所述电极层包括：平行且间隔设置的若干导通区；位于相邻所述导通区之间的非导通区，所述非导通区包括靠近所述导通区的边缘区和远离所述导通区的中心区，所述边缘区与所述中心区邻接；位于所述非导通区的若干悬浮块，靠近所述导通区的悬浮块与所述导通区之间、以及相邻所述悬浮块之间均具有切割槽，位于所述边缘区的切割槽的密度大于位于所述中心区的切割槽的密度。2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述非导通区包括沿着所述非导通区的延伸方向依次连接的若干相同的非导通子区，所述导通区包括沿着所述导通区的延伸方向依次连接的若干相同的导通子区，一个导通区中的至少一个导通子区与相邻一导通区中的至少一个导通子区围设的区域构成所述非导通子区，从所述非导通子区的边缘至所述非导通子区的中心，相邻所述切割槽的间距逐渐增大。3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，从所述非导通子区的边缘至所述非导通子区的中心，相邻所述切割槽的间距依次等比放大或等差放大。4.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述切割槽平行于所述导通子区的至少一个边缘。5.根据权利要求4所述的触控面板，其特征在于，所述导通子区包括电极块和连接部且电极块至连接部的方向平行于所述导通区的延伸方向，相邻两个导通子区中的电极块通过所述连接部连接，所述切割槽平行于所述电极块的边缘，所述电极块为菱形电极块或直角三角形电极块；或者，所述导通子区呈矩形，所述导通区和所述非导通区均呈条形，所述切割槽平行于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵演，陈才，
申请(专利权)人：广州视源电子科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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