自清洁机构及回转窑制造技术

本公开涉及一种自清洁机构及回转窑，该自清洁机构用于回转窑，回转窑包括窑简体，自清洁机构包括活动设于窑简体内的刮件，刮件包括本体和多个刮爪，本体沿窑简体的轴向延伸，多个刮爪绕设于本体的外周，刮爪用于刮除窑简体内壁上的物料结垢。本公开技术方案有效解决了传统回转窑由于物料结垢清理繁琐耗时长，导致回转窑生产效率低的技术问题。回转窑生产效率低的技术问题。回转窑生产效率低的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
自清洁机构及回转窑


[0001]本公开涉及回转窑设备领域，尤其涉及一种自清洁机构及回转窑。

技术介绍

[0002]回转窑是一种对工业或医疗等废弃物进行烘干、焚烧、热解、裂解等工艺处理的机械设备，广泛应用于建材、冶金、化工及环保等生产行业中。但是，回转窑在使用过程中，由于物料属性及生产工艺，使得物料极易挂附于回转窑的内壁上，导致回转窑内壁结垢，影响回转窑的热交换，从而影响窑炉的产量和稳定性。因此，需要及时对回转窑内壁上的物料结垢进行清理，以减少物料结垢对回转窑生产力的影响。
[0003]相关技术中，回转窑内壁上附着的物料结垢一般通过人工进行处理。清理时，先关停回转窑，然后再利用人工刮除回转窑内壁上的物料结垢，刮除干净后重新启动回转窑作业。整个过程繁琐，耗时耗力，严重影响了回转窑的生产效率。

技术实现思路

[0004]本公开提供了一种自清洁机构及回转窑，以解决传统回转窑由于物料结垢清理繁琐耗时长，导致回转窑生产效率低的技术问题。
[0005]为此，第一方面，本公开提供了一种自清洁机构，用于回转窑，回转窑包括窑简体，自清洁机构包括活动设于窑简体内的刮件，刮件包括本体和多个刮爪，本体沿窑简体的轴向延伸，多个刮爪绕设于本体的外周，刮爪用于刮除窑简体内壁上的物料结垢。
[0006]在一种可能的实施方式中，多个刮爪呈螺线状绕设于本体，多个刮爪首尾相连形成弹簧状结构。
[0007]在一种可能的实施方式中，窑简体的内壁上设有沿窑简体的径向延伸的拨片，刮件还包括与拨片对应设置的挡片，挡片连接于本体，挡片与刮件间隔设置。
[0008]在一种可能的实施方式中，挡片远离本体的一侧低于或者等于刮爪远离本体的一侧。
[0009]在一种可能的实施方式中，回转窑还包括设于窑简体前端的窑头罩和设于窑简体尾端的窑尾罩，自清洁机构还包括第一连接座和第一连接件，第一连接座连接于窑头罩或窑尾罩的外侧，第一连接件活动连接第一连接座和刮件。
[0010]在一种可能的实施方式中，回转窑还包括设于窑简体前端的窑头罩和设于窑简体尾端的窑尾罩，自清洁机构还包括：
[0011]第一连接座，连接于窑头罩的外侧；
[0012]第二连接座，连接于窑尾罩的外侧；
[0013]第一连接件，活动连接第一连接座和刮件的一端；以及
[0014]第二连接件，活动连接第二连接座和刮件的另一端。
[0015]在一种可能的实施方式中，自清洁机构还包括驱动件，驱动件用于驱动第一连接件转动。
[0016]在一种可能的实施方式中，自清洁机构还包括至少两个限位件，限位件沿窑简体的径向凸设于窑简体的内壁，至少两个限位件沿窑简体的轴向间隔分布，以将窑简体隔开形成多个子区间，刮件活动设于其中一个或者多个子区间内。
[0017]在一种可能的实施方式中，在窑简体的径向上，限位件的截面形状为圆环、半圆环、椭圆、不规则多边形、方形、菱形或三角形中的任一者。
[0018]第二方面，本公开还提供了一种回转窑，包括窑简体和如上所述的自清洁机构，自清洁机构安装于窑简体。
[0019]根据本公开提供的自清洁机构及回转窑，该自清洁机构用于回转窑，回转窑包括窑简体，自清洁机构包括活动设于窑简体内的刮件，刮件包括本体和多个刮爪，本体沿窑简体的轴向延伸，多个刮爪绕设于本体的外周，刮爪用于刮除窑简体内壁上的物料结垢。本公开技术方案，通过在回转窑内设置刮件，以通过活动配置的刮件刮除窑简体内壁上的物料结垢，实现对窑简体进行清洁，提高回转窑的生产效率。相较于传统回转窑清洁作业中，需先将回转窑关停后人工清洁再重新启动的工序，本公开中提供的自清洁机构可在回转窑工作过程中，直接对窑简体内壁上的物料结垢进行清除，减少了回转窑的关停、重新启动工序，如此，大大缩短了回转窑的清洁时间，提高了回转窑的生产效率。具体而言，将该刮件配置为至少包括本体和多个刮爪的组合构件，多个刮爪配置在本体的外周侧。沿窑简体的轴向延伸的本体，有效增加了刮爪窑简体接触的轴向面积，有利于提高刮件对窑简体内壁上附着的物料结垢的大面积清除，缩短回转窑清洁时间，提高回转窑清洁效率。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。另外，在附图中，相同的部件使用相同的附图标记，且附图并未按照实际的比例绘制。
[0021]图1为本公开实施例提供的自清洁机构的立体结构示意图；
[0022]图2为图1中A
‑
A的剖视图；
[0023]图3为本公开另一实施例提供的自清洁机构的结构示意图；
[0024]图4为本公开又一实施例提供的自清洁机构的结构示意图；
[0025]图5为图4中B
‑
B的剖视图。
[0026]附图标记说明：
[0027]10、窑简体；11、拨片；20、窑头罩；30、窑尾罩；
[0028]100、刮件；110、本体；120、刮爪；130、挡片；
[0029]200、第一连接座；300、第一连接件；
[0030]400、第二连接座；500、第二连接件；
[0031]600、限位件；
[0032]Z、轴向；X、径向。
具体实施方式
[0033]为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例
中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
[0034]参见图1至图5，本公开实施例提供了一种自清洁机构，用于回转窑，回转窑包括窑简体10，自清洁机构包括活动设于窑简体10内的刮件100，刮件100包括本体110和多个刮爪120，本体110沿窑简体10的轴向Z延伸，多个刮爪120绕设于本体110的外周，刮爪120用于刮除窑简体10内壁上的物料结垢。
[0035]本实施例中，通过在回转窑内设置刮件100，以通过活动配置的刮件100刮除窑简体10内壁上的物料结垢，实现对窑简体10进行清洁，提高回转窑的生产效率。相较于传统回转窑清洁作业中，需先将回转窑关停后人工清洁再重新启动的工序，本公开中提供的自清洁机构可在回转窑工作过程中，直接对窑简体10内壁上的物料结垢进行清除，减少了回转窑的关停、重新启动工序，如此，大大缩短了回转窑的清洁时间，提高了回转窑的生产效率。
[0036]具体而言，将该刮件100配置为至少包括本体110和多个刮爪120的组合构件，多个刮爪120配置在本体110的外周侧。沿窑简体10的轴向Z延伸的本体110，有效增加了刮爪120窑简体10接触的轴向Z面积，有利于提高刮件100对窑简体10本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自清洁机构，用于回转窑，所述回转窑包括窑简体，其特征在于，所述自清洁机构包括活动设于所述窑简体内的刮件，所述刮件包括本体和多个刮爪，所述本体沿所述窑简体的轴向延伸，多个所述刮爪绕设于所述本体的外周，所述刮爪用于刮除所述窑简体内壁上的物料结垢。2.根据权利要求1所述的自清洁机构，其特征在于，多个所述刮爪呈螺线状绕设于所述本体，多个所述刮爪首尾相连形成弹簧状结构。3.根据权利要求2所述的自清洁机构，其特征在于，所述窑简体的内壁上设有沿所述窑简体的径向延伸的拨片，所述刮件还包括与所述拨片对应设置的挡片，所述挡片连接于所述本体，所述挡片与所述刮件间隔设置。4.根据权利要求3所述的自清洁机构，其特征在于，所述挡片远离所述本体的一侧低于或者等于所述刮爪远离所述本体的一侧。5.根据权利要求1所述的自清洁机构，其特征在于，所述回转窑还包括设于所述窑简体前端的窑头罩和设于所述窑简体尾端的窑尾罩，所述自清洁机构还包括第一连接座和第一连接件，所述第一连接座连接于所述窑头罩或所述窑尾罩的外侧，所述第一连接件活动连接所述第一连接座和所述刮件。6.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：喻学孔，陈洪法，刘阳，
申请(专利权)人：杰瑞环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：