【技术实现步骤摘要】
一种新型的不停机换液装置
[0001]本专利技术涉及半导体材料硅片加工
,具体为一种新型的不停机换液装置。
技术介绍
[0002]在半导体材料硅片抛光工序中,有三道粗抛,抛光机使用的抛光液每循环使用几个小时后就需要更换新的抛光液,传统的换液方式是先将抛光机停止运行,然后将TANK内到寿命的抛光液排空并加注新液,然后重新开机运行,抛光机停机换液影响生产效率,停机造成大盘温度变化影响产品几何参数。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于提供一种新型的不停机换液装置,以解决上述
技术介绍
中提出的传统换液方式是先将抛光机停止运行,然后将TANK内到寿命的抛光液排空并加注新液,然后重新开机运行,抛光机停机换液影响生产效率,停机造成大盘温度变化影响产品几何参数的问题。
[0004]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种新型的不停机换液装置,包括底座,所述底座的顶部一侧设置有冷水管,所述冷水管的顶部一侧设置有抛光液回收箱,所述抛光液回收箱的一侧设置有温度传感器,所述冷水管的一侧表面设置有液位传 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种新型的不停机换液装置,包括底座(5),其特征在于:所述底座(5)的顶部一侧设置有冷水管(8),所述冷水管(8)的顶部一侧设置有抛光液回收箱(13),所述抛光液回收箱(13)的一侧设置有温度传感器(14),所述冷水管(8)的一侧表面设置有液位传感器(12),所述冷水管(8)一侧的底座(5)顶部设置有供液泵(4),所述冷水管(8)靠近底部的一侧设置有抛光液出口(7),所述抛光液出口(7)与供液泵(4)之间通过管道贯通连接。2.根据权利要求1所述的一种新型的不停机换液装置,其特征在于:所述供液泵(4)的顶部一侧设置有供液泵出口(3),且冷水管(8)靠近底部的一侧设置有排液口(17)。3.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:尹文宝,黄盛军,王维师,白苏宁,王锴,菅明辉,曹锦伟,李仕权,王彦君,
申请(专利权)人:中环领先半导体材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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