喷嘴及化学机械研磨装置制造方法及图纸

本公开实施例提供一种喷嘴及化学机械研磨装置，涉及研磨装置技术领域。该喷嘴用于向化学机械研磨装置的研磨垫提供处理液，研磨垫的承载面的法线方向为第一方向；其中，喷嘴包括具有流通通道的本体，流通通道用于与处理液供给装置连通；本体包括与流通通道连通的多个出液口，至少部分出液口的出液方向与第一方向具有预设夹角，预设夹角不为零。本公开用于增加了处理液落入研磨垫的接触区域的面积。当研磨垫在转动的过程中，可以使处理液快速均匀地铺满整个研磨垫，提高了化学机械研磨装置的研磨效率。磨效率。磨效率。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴及化学机械研磨装置


[0001]本公开实施例涉及研磨装置
，尤其涉及一种喷嘴及化学机械研磨装置。

技术介绍

[0002]半导体器件的制作中往往会采用化学机械研磨工艺（CMP），对晶圆或者其他的结构进行平坦化处理。具体来说，在化学机械研磨工艺中，需要在研磨机台上添加处理液，使处理液与硅晶圆发生化学反应，进而使得硅晶圆表面的硬度和强度降低，然后利用机械力将表面层磨去。
[0003]相关技术中，化学机械研磨装置包括喷嘴和研磨机台，研磨机台包括研磨垫，喷嘴位于研磨垫的上方，并向研磨垫提供处理液。但是，上述的化学机械研磨装置的处理液无法尽快铺满研磨垫，且存在分散不均匀的缺陷，降低了化学机械研磨装置的研磨效果。

技术实现思路

[0004]鉴于上述问题，本公开实施例提供一种喷嘴及化学机械研磨装置，用于提高处理液的分散均匀度，进而提高化学机械研磨装置的研磨效果。
[0005]本公开实施例的第一方面提供一种喷嘴，所述喷嘴用于向化学机械研磨装置的研磨垫提供处理液，所述研磨垫的承载面的法线方向为第一方向；其中所述喷嘴包括具有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴，所述喷嘴用于向化学机械研磨装置的研磨垫提供处理液，所述研磨垫的承载面的法线方向为第一方向；其特征在于，所述喷嘴包括具有流通通道的本体，所述流通通道用于与处理液供给装置连通；所述本体包括与所述流通通道连通的多个出液口，至少部分所述出液口的出液方向与所述第一方向具有预设夹角，所述预设夹角不为零。2.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，在多个所述出液口中，出液方向与所述第一方向具有预设夹角的出液口为第一出液口；所述第一出液口设置在所述本体的侧面，和/或，所述第一出液口设置在所述本体的底面。3.根据权利要求2所述的喷嘴，其特征在于，当所述第一出液口设置在所述本体的侧面上时，至少部分剩余的所述出液口为第二出液口，所述第二出液口设置在所述本体的底面，经由所述第二出液口的处理液的出液方向与所述第一方向相互平行。4.根据权利要求3所述的喷嘴，其特征在于，所述第二出液口的个数为多个，多个所述第二出液口间隔设置在所述本体的底面上。5.根据权利要求4所述的喷嘴，其特征在于，所述本体包括中空的柱状体，所述柱状体的内腔构成所述流通通道，且所述流通通道为柱形。6.根据权利要求4所述的喷嘴，其特征在于，所述本体包括中空的第一螺旋体，所述第一螺旋体的内腔构成所述流通通道，且所述流通通道为螺旋形。7.根据权利要求6所述的喷嘴，其特征在于，所述第一出...

【专利技术属性】
技术研发人员：李子昂，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：