抽气环结构及等离子体处理装置制造方法及图纸

本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种抽气环结构及等离子体处理装置。该抽气环结构为内部空腔的环形腔体结构，沿抽气环结构的周向壁面设有排气面，排气面为连续交替设有凸部和凹部的波纹状排气面，相邻两个凸部和凹部之间由波纹斜面相接，各波纹斜面上设有贯通的第一排气孔；环形腔体结构的与排气面相对的壁面上贯通设有抽气孔。该离子体处理装置设置有该抽气环结构。该抽气环结构及等离子体处理装置解决了现有的排气环结构排气效率较低的技术问题。问题。问题。

【技术实现步骤摘要】
抽气环结构及等离子体处理装置


[0001]本申请涉及半导体
，尤其涉及一种抽气环结构及等离子体处理装置。

技术介绍

[0002]目前，在半导体器件的制造领域，广泛使用等离子体处理装置，这种等离子体处理装置中，一般在其反应腔室内设置排气环结构，将等离子体处理空间和排气空间上下分开，排出气体的同时防止等离子体处理空间内的等离子体排出。但是现有的排气环结构的排气面基本都是平面，排气面也是在平面上设置，且排气孔基本都是设置的上下垂直通孔，导致现有的排气环结构的排气效果一般，同时也不能很好的防止等离子体处理空间内的等离子体从排气孔逸出。

技术实现思路

[0003]本申请的目的在于提供了一种抽气环结构及等离子体处理装置，以解决现有的排气环结构排气效率较低的技术问题。
[0004]第一方面，本申请提供的一种抽气环结构，
[0005]所述抽气环结构为内部空腔的环形腔体结构，沿所述抽气环结构的周向壁面设有排气面，所述排气面为连续交替设有凸部和凹部的波纹状排气面，相邻两个所述凸部和所述凹部之间由波纹斜面相接，各所述波纹斜面上设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抽气环结构，其特征在于，所述抽气环结构为内部空腔的环形腔体结构，沿所述抽气环结构的周向壁面设有排气面，所述排气面为连续交替设有凸部和凹部的波纹状排气面，相邻两个所述凸部和所述凹部之间由波纹斜面相接，各所述波纹斜面上设有贯通的第一排气孔；所述环形腔体结构的与所述排气面相对的壁面上贯通设有抽气孔。2.根据权利要求1所述的抽气环结构，其特征在于，所述波纹状排气面设置于所述抽气环结构的环周顶面；对应的，所述抽气环结构的环周底面设有多个所述抽气孔。3.根据权利要求1所述的抽气环结构，其特征在于，所述抽气环结构由环周顶面、环周内侧壁、环周底面和环周外侧壁彼此相接而成，所述环周内侧壁的直径小于所述环周外侧壁的直径，所述环周内侧壁朝向反应腔室内部设置，所述波纹状排气面设置于所述环周内侧壁上；对应的，所述环周外侧壁上设有多个所述抽气孔。4.根据权利要求2或3所述的抽气环结构，其特征在于，各所述抽气孔分别对应所述波纹状排气面的各所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李丹，许铁柱，黄明策，
申请(专利权)人：拓荆科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：