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本申请涉及半导体技术领域，尤其涉及一种抽气环结构及等离子体处理装置。该抽气环结构为内部空腔的环形腔体结构，沿抽气环结构的周向壁面设有排气面，排气面为连续交替设有凸部和凹部的波纹状排气面，相邻两个凸部和凹部之间由波纹斜面相接，各波纹斜面上设有...
该专利属于拓荆科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技股份有限公司授权不得商用。

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