【技术实现步骤摘要】
一种辐射薄膜制备的方法、设备、辐射薄膜和光器件
[0001]本专利技术涉及光器件制备领域，并且更具体地涉及一种辐射薄膜制备的方法、设备、辐射薄膜和光器件。
技术介绍
[0002]当前较热门的一种热吸收材料为“黑硅”，黑硅研究主要面向太阳能电池领域，如果在热成像领域，需要扩展光谱波段至中波、长波，需要提高纳米锥的厚度，但是这会极大增加悬浮像元热质量，降低热响应的灵敏度。
技术实现思路
[0003]有鉴于此，本专利技术实施例的目的在于提出一种辐射薄膜制备的方法、设备、辐射薄膜和光器件，通过使用本专利技术的技术方案，能够制成具有低密度和宽波段红外吸收的薄膜，制备的薄膜可以应用于热探测器、热辐射器等器件中以增强光热响应性能。
[0004]基于上述目的，本专利技术的实施例的一个方面提供了一种辐射薄膜制备的方法，包括以下步骤：在基底的表面上制备聚酰亚胺薄膜；在基底的聚酰亚胺薄膜上制备具有图案的铬附着层；在铬附着层上制备铝黑薄膜以形成辐射薄膜。
[0005]根据本专利技术的一个实施例，在基底的表面上制备聚酰...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种辐射薄膜制备的方法，其特征在于，包括以下步骤：在基底的表面上制备聚酰亚胺薄膜；在基底的聚酰亚胺薄膜上制备具有图案的铬附着层；在铬附着层上制备铝黑薄膜以形成辐射薄膜。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在基底的表面上制备聚酰亚胺薄膜之前，还包括：对基底进行干燥和清洁，并将基底真空吸附到转台上，所述基底为硅基片；在基底的上表面制备聚酰亚胺薄膜。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在基底的表面上制备聚酰亚胺薄膜包括：在基底中心涂覆聚酰胺酸溶液；控制转台旋转以使聚酰胺酸溶液均匀铺满整个基底，得到聚酰胺酸薄膜；对聚酰胺酸薄膜进行亚胺化处理以得到聚酰亚胺薄膜。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在基底中心涂覆聚酰胺酸溶液包括：使用清洁干燥的塑料滴管吸取上层聚酰胺酸溶液；将吸取的上层聚酰胺酸溶液涂覆在基底中心区域。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，控制转台旋转以使聚酰胺酸溶液均匀铺满整个基底，得到聚酰胺酸薄膜包括：控制转台以第一转速旋转持续第一时间，以使聚酰胺酸溶液均匀铺满基底；控制转台以第二转速旋转持续第二时间，以得到预设厚度的聚酰胺酸薄膜；将基底和聚酰胺酸薄膜在室温下静置持续第三时间。6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，对聚酰胺酸薄膜进行亚胺化处理以得到聚酰亚胺薄膜包括：将聚酰胺酸薄膜所在的腔室充入氮气；对聚酰胺酸薄膜进行亚胺化处理，将聚酰胺酸薄膜冷却到室温以得到聚酰亚胺薄膜。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在基底的聚酰亚胺薄膜上制备具有图案的铬附着层包括：在聚酰亚胺薄膜上制备铬附着层；采用湿法刻蚀法对铬附着层进行刻蚀以形成预设图案。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在聚酰亚胺薄膜上制备铬附着层包括：清洁铬颗粒表面的杂质；使用电子束蒸发镀膜机蒸发清洁后的铬颗粒，以在聚酰亚胺薄膜上制备铬附着层。9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，采用湿法刻蚀法对铬附着层进行刻蚀以形成预设图案包括：使用包括硝酸铈铵粉末、冰醋酸和去离子水形成的腐蚀液对铬附着层进行刻蚀以形成预设图案。10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，采用湿法刻蚀法对铬附着层进行刻蚀以形成预设图案包括：在铬附着层上涂覆预设图案的光刻胶；在室温下将铬附着层浸入到腐蚀液中至裸露区域完全被刻蚀。
11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在铬附着层上制备铝黑薄膜以形成辐射薄膜包括：在设备底部设置第一加热源和第二加热源；将第一钨丝弯...
【专利技术属性】
技术研发人员：周朗，郭芬，
申请(专利权)人：苏州浪潮智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。