一种半导体设备用数据寻址方法、装置及介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种半导体设备用数据寻址方法、装置及介质。其中，所述半导体设备包括至少一个腔体，所述腔体包括至少一个元器件，所述元器件包括至少一个属性；所述数据寻址方法包括步骤：S1、生成各元器件与其各属性之间的互斥的第一相对路径；S2、生成各腔体与其各元器件之间的互斥的第二相对路径；S3、生成半导体设备与其各腔体之间的互斥的第三相对路径；S4、基于第一、第二、第三相对路径，生成各属性的绝对路径。本发明专利技术能够解决现有技术中半导体设备多次调用数据时需重复确认数据所属的腔体类别和元器件类别，进而易导致调用失败及运算量过大等技术问题，通过使用绝对路径寻址，提高了调用数据的准确性和效率，增强了系统运行性能。行性能。行性能。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备用数据寻址方法、装置及介质


[0001]本专利技术涉及半导体
，特别涉及一种半导体设备用数据寻址方法、装置及介质。

技术介绍

[0002]在半导体设备中，一般包括交互界面、传输腔及和传输腔相连的多个工艺腔，根据不同的半导体工艺，工艺腔也不同，常见的有：CVD腔(化学气相沉积腔)、刻蚀腔、预清洁腔、退火腔等，不同的工艺腔内部的元器件也不同，例如元器件的配置不同，元器件的数量和型号不同，CVD腔室会有加热灯，而其他工艺腔室没有加热灯。半导体设备运行时，工艺腔室内的元器件会将元器件的属性参数实时传输到交互界面，供工作人员监控和操作，常见的属性有腔室的温度、压力、MFC(质量流量控制器)的流量等。可见，不同的工艺腔室内由于元器件的不同，其属性也是不同的。
[0003]交互界面想要从元器件端调用其属性参数并在交互界面显示，需要寻址，正确的寻址才能将对应的属性参数显示在交互界面。附图1示出了现有技术的半导体设备的交互界面调用器件端元器件的属性参数的示意图，交互界面想要正确的调用某一工艺腔内的器件的属性参数，需要先给该属性命名，然后再把该属性赋值给交互界面。但由于半导体设备中有多个工艺腔，如预清洁腔、外延腔1、外延腔2
……
；每个工艺腔具有不同的元器件，例如外延腔1包括温度传感器、MFC1、MFC2
……
；MFC1又有多个属性，如流量、温度、压力，每个属性的路径都需要一一对应。以交互界面想要正确调用外延腔1内MFC1的属性为例，需要先给MFC1的所有属性建立寻址路径，例如：PM1.MFC1.flow、PM1.MFC1.temperature、PM1.MFC1.pressure。可见建立这样一一对应的路径很难保证准确性，而且由于元器件众多，因此建立正确的路径工作量巨大；且半导体设备运行时，由于各属性的数据类型不同，需要拆箱和数据类型转换操作，因此运算量很大，会降低运算性能。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种半导体设备用数据寻址方法、装置及介质，解决现有技术中半导体设备数据寻址时容易出错，且易导致调用失败及运算量过大等技术问题，通过使用相对路径获得最终路径的方式寻址，提高了调用数据的准确性和效率，增强了系统运行性能。
[0005]为实现上述目的，本专利技术通过以下技术方案实现：
[0006]一种数据寻址方法，用于半导体设备，所述半导体设备包括至少一个腔体，所述腔体包括至少一个元器件，所述元器件包括至少一个属性；所述数据寻址方法包括步骤：
[0007]S1、生成各元器件与其各属性之间的互斥的第一相对路径；
[0008]S2、生成各腔体与其各元器件之间的互斥的第二相对路径；
[0009]S3、生成半导体设备与其各腔体之间的互斥的第三相对路径；
[0010]S4、基于第一、第二、第三相对路径，生成各属性的绝对路径。
[0011]优选地，所述半导体设备为半导体设备
‑
腔体
‑
元器件
‑
属性的四级结构；
[0012]所述第一相对路径为三
‑
四级相对路径；
[0013]所述第二相对路径为二
‑
三级相对路径；
[0014]所述第三相对路径为一
‑
二级相对路径。
[0015]优选地，生成三
‑
四级相对路径的方法包括：定义各元器件的各属性，定义各属性的路径标记，同元器件的各属性的路径标记互斥，将各属性的路径标记指向其所属的元器件；
[0016]生成二
‑
三级相对路径的方法包括：定义各腔体的各元器件，定义各元器件的路径标记，同腔体的各元器件的路径标记互斥，将各元器件的路径标记指向其所属的腔体；
[0017]生成一
‑
二级相对路径的方法包括：定义半导体设备的各腔体，定义各腔体的路径标记，同半导体设备的各腔体的路径标记互斥，将各腔体的路径标记指向其所属的半导体设备。
[0018]优选地，生成绝对路径的方法包括：将各三
‑
四级相对路径中所指向的元器件，与各二
‑
三级相对路径中对应的元器件的路径标记相关联；
[0019]将各二
‑
三级相对路径中所指向的腔体，与各一
‑
二级相对路径中对应的腔体的路径标记相关联。
[0020]优选地，所述半导体设备还包括交互界面端；
[0021]所述数据寻址方法还包括步骤：
[0022]S5、将所生成的各属性的绝对路径一一与交互界面端建立联系，自所述交互界面端能够直接访问各属性。
[0023]优选地，各所述路径标记采用Object数据类型。
[0024]优选地，步骤S1～S3的顺序可互换，或者同步进行。
[0025]一种数据寻址装置，与半导体设备电连接，其包括：存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的数据寻址程序，所述处理器执行所述数据寻址程序时实现上述的任意一种数据寻址方法。
[0026]一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有数据寻址程序，所述数据寻址程序被处理器执行时实现上述的任意一种数据寻址方法。
[0027]综上所述，与现有技术相比，本专利技术提供的一种半导体设备用数据寻址方法、装置及介质，具有如下有益效果：
[0028]1、通过使用绝对路径寻址，交互界面上的元器件和腔室内元器件的全部属性数据相关联，能够避免数据寻址时出错，减少因寻址错误而导致调用失败的可能性，并且调用失败的情况下能够更为快速地发现bug所在地点，改动量也会减小；
[0029]2、通过建立四级结构间的相对路径，优化了调用底层数据的思路，减少了代码运行时间，增强了运行的性能。
附图说明
[0030]图1为现有技术的半导体设备交互界面调用器件端元器件的各属性的示意图；
[0031]图2为本专利技术的半导体设备用数据寻址方法的其中一个实施例的流程图；
[0032]图3为本专利技术的第一、第二、第三相对路径与各级结构之间关系的示意图。
具体实施方式
[0033]以下结合附图和具体实施方式对本专利技术提出的一种半导体设备用数据寻址方法、装置及介质作进一步详细说明。根据下面说明，本专利技术的优点和特征将更清楚。需要说明的是，附图采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施方式的目的，并非用以限定本专利技术实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本专利技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本专利技术所揭示的
技术实现思路
能涵盖的范围内。
[0034]需要说明的是，在本专利技术中，诸如和等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种数据寻址方法，用于半导体设备，其特征在于，所述半导体设备包括至少一个腔体，所述腔体包括至少一个元器件，所述元器件包括至少一个属性；所述数据寻址方法包括步骤：S1、生成各元器件与其各属性之间的互斥的第一相对路径；S2、生成各腔体与其各元器件之间的互斥的第二相对路径；S3、生成半导体设备与其各腔体之间的互斥的第三相对路径；S4、基于第一、第二、第三相对路径，生成各属性的绝对路径。2.如权利要求1所述的数据寻址方法，其特征在于，所述半导体设备为半导体设备
‑
腔体
‑
元器件
‑
属性的四级结构；所述第一相对路径为三
‑
四级相对路径；所述第二相对路径为二
‑
三级相对路径；所述第三相对路径为一
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二级相对路径。3.如权利要求2所述的数据寻址方法，其特征在于，生成三
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四级相对路径的方法包括：定义各元器件的各属性，定义各属性的路径标记，同元器件的各属性的路径标记互斥，将各属性的路径标记指向其所属的元器件；生成二
‑
三级相对路径的方法包括：定义各腔体的各元器件，定义各元器件的路径标记，同腔体的各元器件的路径标记互斥，将各元器件的路径标记指向其所属的腔体；生成一
‑
二级相对路径的方法包括：定义半导体设备的各腔体，定义...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱力，
申请(专利权)人：江苏天芯微半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：