黑色光学薄膜及光学产品制造技术

本申请涉及一种黑色光学薄膜及光学产品，该黑色光学薄膜具有靠近光学产品的内层和远离光学产品的外层，黑色光学薄膜包括交替层叠设置的有机消光层、高折射率层和低折射率层，外层设有有机消光层；有机消光层由有机消光材料制成，有机消光材料包括有机成分和无机成分，有机成分包括聚芳酯、非晶型共聚酯和环氧基低聚物，无机成分包括Ti元素、Mg元素和O元素，以及Fe元素和/或Co元素；高折射率层由高折射率材料制成，高折射率材料包括Nb2O5和Al2O3；低折射率层由低折射率材料制成，低折射率材料选自SiO2、MgF2或硅铝混合料中的任一种或多种。本申请的黑色光学薄具有透过消光和反射消光双重效果的同时，不导电且有优秀的耐化学品性和耐刮性。性和耐刮性。性和耐刮性。

【技术实现步骤摘要】
黑色光学薄膜及光学产品


[0001]本申请涉及一种黑色光学薄膜及光学产品，属于镀膜材料领域。

技术介绍

[0002]随着手机镜头模组向高像素、大光圈、超薄化方向发展，消费者对摄像模组成像质量的要求也越来越高。然而，现有的黑色镀膜材料在制备黑色膜时存一些在问题，限制了真空蒸发镀膜工艺制备的黑色膜在光学消光方向的应用。这是由于当前黑色镀膜材料往往都是由一种或多种金属或半导体材料组成。这是由于金属或半导体材料具有较宽的导带。可以吸收较宽范围波长的光线，形成消光。但由于金属材料或半导体存在大量的自由电子，这些自由电子造成材料表面存在着宽光谱的均匀反射，这就造成了很难避免的表面强烈反光。虽然这类黑色膜料可以通过提高消光系数的方式将透射光吸收，但基本上对于反射光往往无能为力。特别是在光滑表面上，镀膜后的表面常常呈现类似镜面效果。
[0003]中国专利CN2021113014089公开了一种镀膜组合物、其制备方法、消光膜及镜头模组、终端，该材料在可见光和近红外波段具有强烈吸收效果，该材料可制备同时具有透过消光和反射消光双重效果的黑色消光膜。但是，申请人发现由该材料形成的薄膜具有一定的导电效果，同时其耐化学品性和耐刮性较弱，无法在特定环境下的电子器件上进行应用。
[0004]基于此，申请人优化了其组合物成分并提供一种全新薄膜产品。

技术实现思路

[0005]本申请的目的在于提供一种黑色光学薄膜及光学产品，该黑色光学薄具有透过消光和反射消光双重效果的同时，不导电且有优秀的耐化学品性和耐刮性。
[0006]为达到上述目的，本申请提供如下技术方案：
[0007]第一方面，本申请提供一种黑色光学薄膜，具有靠近光学产品的内层和远离光学产品的外层，所述黑色光学薄膜包括交替层叠设置的有机消光层、高折射率层和低折射率层，所述外层设有所述有机消光层；
[0008]所述有机消光层由有机消光材料制成，所述有机消光材料包括有机成分和无机成分，所述有机成分包括聚芳酯、非晶型共聚酯和环氧基低聚物，所述无机成分包括Ti元素、Mg元素和O元素，以及Fe元素和/或Co元素；
[0009]所述高折射率层由高折射率材料制成，所述高折射率材料包括Nb2O5和Al2O3；
[0010]所述低折射率层由低折射率材料制成，所述低折射率材料选自SiO2、MgF2或硅铝混合料中的任一种或多种。
[0011]作为其中一个可能的实施方式，所述高折射率材料还包括CaO和石墨粉末。
[0012]作为其中一个可能的实施方式，当所述黑色光学薄膜的层数小于8层时，设置有至少一层所述有机消光层。
[0013]作为其中一个可能的实施方式，当所述黑色光学薄膜的层数大于等于8层时，设有至少两层所述有机消光层，两层所述有机消光层之间设有至少一层所述高折射率层和/或
低折射率层。
[0014]作为其中一个可能的实施方式，所述有机成分还包括PMMA，所述有机消光层由所述有机成分制成树脂粘结剂后混合所述无机成分形成。
[0015]作为其中一个可能的实施方式，在所述无机成分中，所述Ti元素选自Ti、TiO2、Ti2O3或Ti3O5中的至少一种；和/或，所述Mg元素选自MgO；和/或，所述Fe元素选自Fe2O3或FeO中的至少一种；和/或，所述Co元素选自Co2O3或CoO中的至少一种。
[0016]作为其中一个可能的实施方式，所述高折射率层中，所述Nb2O5、Al2O3、CaO和石墨粉末的质量含量分别为60％～70％、17％～27％、1％～3％、5％
‑
10％。
[0017]第二方面，本申请提供一种光学产品，其包括第一方面所述的黑色光学薄膜。
[0018]作为其中一个可能的实施方式，所述光学产品为滤光片。
[0019]作为其中一个可能的实施方式，所述黑色光学薄膜设置在所述光学产品的表面，所述外层为有机消光层，所述外层和光学产品之间交替层叠设置有所述高折射率层和低折射率层，或者，交替层叠设置有所述高折射率层、低折射率层和有机消光层。
[0020]通过本申请公开的实施例，本申请的黑色光学薄膜具有透过消光和反射消光双重效果，同时，其在保持结合力、附着力、耐化学品性和耐刮性较好的前提下，整体具有较高的绝缘性，能在特定环境下的电子器件上进行应用。
[0021]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
[0022]图1为本申请一实施例所示的黑色光学薄膜的光透过和反射曲线图。
具体实施方式
[0023]下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。
[0024]需要说明的是：本专利技术的“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等用语只是参考附图对本专利技术进行说明，不作为限定用语。
[0025]在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。此外，在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”是指两个或两个以上。“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
[0026]本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选
地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。
[0027]本申请一方面提供一种黑色光学薄膜，其具有靠近光学产品的内层和远离光学产品的外层，所述黑色光学薄膜包括交替层叠设置的有机消光层、高折射率层和低折射率层，所述外层设有所述有机消光层。
[0028]其中，所述有机消光层由有机消光材料制成，所述有机消光材料包括有机成分和无机成分，所述有机成分包括聚芳酯、非晶型共聚酯和环氧基低聚物，所述无机成分包括Ti元素、Mg元素和O元素，以及Fe元素和/或Co元素。所述高折射率层由高折射率材料制成，所述高折射率材料包括Nb2O5和Al2O3。所述低折射率层由低折射率材料制成，所述低折射率材料选自SiO2、MgF2或硅铝混合料中的任一种或多种。
[0029]可选本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种黑色光学薄膜，具有靠近光学产品的内层和远离光学产品的外层，其特征在于，所述黑色光学薄膜包括交替层叠设置的有机消光层、高折射率层和低折射率层，所述外层设有所述有机消光层；所述有机消光层由有机消光材料制成，所述有机消光材料包括有机成分和无机成分，所述有机成分包括聚芳酯、非晶型共聚酯和环氧基低聚物，所述无机成分包括Ti元素、Mg元素和O元素，以及Fe元素和/或Co元素；所述高折射率层由高折射率材料制成，所述高折射率材料包括Nb2O5和Al2O3；所述低折射率层由低折射率材料制成，所述低折射率材料选自SiO2、MgF2或硅铝混合料中的任一种或多种。2.根据权利要求1所述的黑色光学薄膜，其特征在于，所述高折射率材料还包括CaO和石墨粉末。3.根据权利要求1所述的黑色光学薄膜，其特征在于，当所述黑色光学薄膜的层数小于8层时，设置有至少一层所述有机消光层。4.根据权利要求1所述的黑色光学薄膜，其特征在于，当所述黑色光学薄膜的层数大于等于8层时，设有至少两层所述有机消光层，两层所述有机消光层之间设有至少一层所述高折射率层和/或低折射率层。5.根据权利要求1所述的黑色光学薄膜，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐川，
申请(专利权)人：巨玻固能苏州薄膜材料有限公司，
类型：发明
国别省市：