【技术实现步骤摘要】
一种用于硅片的干燥系统
[0001]本专利技术实施例涉及硅片加工
，尤其涉及一种用于硅片的干燥系统。
技术介绍
[0002]在硅片的加工及测试过程中，减薄湿法刻蚀工艺、缺陷湿法刻蚀工艺与清洗工艺是必不可少的工艺方法，而最终所采用的干燥技术决定着湿法刻蚀工艺处理后硅片的质量，是硅片生产过程中的核心技术之一。
[0003]目前，在硅片的干燥过程中，硅片表面易出现水渍痕迹，容易增加颗粒污染。当前硅片的干燥技术主要包括：离心甩干干燥技术，HF/O3干燥技术，热水慢提拉和红外组合干燥技术等，但是上述干燥方式存在着一定的不足之处，具体来说，离心甩干干燥技术易造成硅片发生碎片的风险，且需要配套静电消除装置；其次，在湿法刻蚀设备中，若硅片表面残留酸性化学液，离心甩干时还会将残留的酸性化学液甩至干燥槽内壁或者组件上，进而影响干燥槽的使用寿命；另一方面，采用HF/O3干燥硅片时，HF酸性气体在干燥的过程中存在风险隐患，且结构复杂，造价成本较高；热水慢提拉和红外组合干燥方式是如今槽式湿法设备的主流干燥方式，但是这种干燥方式造价成本较...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于硅片的干燥系统，其特征在于，所述干燥系统包括：慢提拉槽，用于盛放设定温度的去离子水，以将硅片浸没在所述去离子水中并缓慢提升以使所述硅片表面脱水，从而去除所述硅片表面残留的清洗液及金属离子；气体吹扫装置，用于对从所述慢提拉槽中提拉出的所述硅片表面吹扫氮气以对所述硅片表面进行干燥处理。2.根据权利要求1所述的干燥系统，其特征在于，所述气体吹扫装置包括：具有开口的框体；设置于所述框体内的第一驱动模块；与所述第一驱动模块相连接的第一丝杆；机械臂，所述机械臂的端部上设置有与所述第一丝杆相匹配的螺母，以当所述第一驱动模块驱动所述第一丝杆旋转时，所述第一丝杆的旋转运动转换成平移运动从而使得所述机械臂能够在设定的第一双排滑轨上以设定的速度沿所述框体的纵向方向往复移动。3.根据权利要求2所述的干燥系统，其特征在于，所述框体的开口处设置有风琴罩，用于将所述气体吹扫装置的内部与外部环境进行隔绝。4.根据权利要求2所述的干燥系统，其特征在于，所述机械臂上设置有至少一个喷嘴，且所述喷嘴的端部设置有与第二丝杆相匹配的螺母，以当与所述第二丝杆相连接的第二驱动模块驱动所...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐永帅，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：西安奕斯伟硅片技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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