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本发明实施例公开了一种用于硅片的干燥系统；所述干燥系统包括：慢提拉槽，用于盛放设定温度的去离子水，以将硅片浸没在所述去离子水中并缓慢提升以使所述硅片表面脱水，从而去除所述硅片表面残留的清洗液及金属离子；气体吹扫装置，用于对从所述慢提拉槽中提...
该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。

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