沉积装置制造方法及图纸

沉积装置包括：坩埚，在其内部形成有空间；喷嘴板，覆盖空间并设置有喷嘴；引导件，插入于坩埚，在其内周面形成有内螺纹；以及内板，在其外周面形成有与引导件螺纹结合的外螺纹，并且内板在引导件的内部进行高度调节。内板在引导件的内部进行高度调节。内板在引导件的内部进行高度调节。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】沉积装置


[0001]本专利技术涉及沉积装置，涉及一种将沉积物质沉积为被沉积物的沉积装置。

技术介绍

[0002]沉积(deposition)是指，使用气体状态的粒子来在如金属、玻璃(glass)等物体的表面形成薄固体膜的方法。
[0003]近年来，随着如TV、手机等电子设备中OLED(Organic Light Emitting Diodes，有机发光二极管)显示器使用的增加，对制造OLED显示面板的装置、工艺等的研究非常活跃。尤其，OLED显示器面板制造工艺包括在真空状态下将有机物质沉积于玻璃基板等基板的工艺。
[0004]具体而言，沉积工艺包括通过加热容纳有有机物质的坩埚(crucible)来将有机物质蒸发为气体状态的工艺和气体状态的有机物质经由喷嘴(nozzle)沉积于基板的工艺。
[0005]此时，为了确保优秀的OLED特性，需要将气体状态的有机物质均匀地沉积于基板。
[0006]因此，沉积装置需要将通过喷嘴的气体状态的有机物质均匀地引导到基板的各区域。
[0007]如果不能适当地引导通过喷嘴的气体状态的有机物质，则形成表面不均匀的薄膜。
[0008]韩国公开专利公报10
‑
2016
‑
0017671A(2016年02月17日公开)中披露了一种薄膜形成用蒸发源，所述薄膜形成用蒸发源可以通过均匀地混合蒸汽状态的沉积物质的成分来获得成分比均匀的薄膜，并且其包括：坩埚，容纳沉积物质；以及复数个内板，内接于所述坩埚并沿所述坩埚的垂直方向隔开设置，并且分别形成有至少一个开口部。

技术实现思路

[0009]所要解决的问题
[0010]本专利技术的目的在于，提供一种通过容易地调节内板的间隙来提高薄膜均匀度的沉积装置。
[0011]本专利技术的另一目的在于，涉及一种即使沉积物质变更，也可以通过调节内板的间隙来确保最佳的薄膜均匀度，并且能够容易地调整的沉积装置。
[0012]解决问题的技术方案
[0013]本实施例的沉积装置可以包括：坩埚，在其内部形成有空间；喷嘴板，覆盖空间并设置有喷嘴；引导件(guide tab)，插入于坩埚，在其内周面形成有内螺纹；以及内板，在其外周面形成有与引导件螺纹结合的外螺纹，内板在引导件的内部进行高度调节。
[0014]内板可以包括：上板，与喷嘴板隔开第一间隙；以及下板，与上板隔开第二间隙。
[0015]上板的通孔与下板通孔可以在上下方向上不一致。
[0016]坩埚可以包括：下坩埚；以及上坩埚，形成于下坩埚上部，上坩埚的内径大于下坩埚的内径。
[0017]上坩埚可以包围引导件的外周面。
[0018]引导件的外径可以大于下坩埚的内径。
[0019]在坩埚的上部可以形成有供喷嘴板插入并容纳的喷嘴板容纳部。
[0020]喷嘴板容纳部可以包括：安置部，供喷嘴板安置；以及盖部，形成为大于喷嘴板并包围喷嘴板的外周面。
[0021]喷嘴板可以容纳于盖部的内侧。
[0022]盖部的内周面可以从安置部的顶面朝上侧方向延伸。
[0023]盖部的内周面和喷嘴板的外周面之间的间隙可以朝上侧方向开放。
[0024]在盖部的内周面可以形成有上内螺纹，在喷嘴板的外周面可以形成有于上内螺纹螺纹紧固的上外螺纹。
[0025]喷嘴板的外周面可以包括隔开部，隔开部与盖部的内周面隔开并与盖部的内周面形成间隙。
[0026]技术效果
[0027]根据本专利技术的实施例，即使在沉积原料变更的情况下，也可以容易地变更内板的间隙，并且以最佳的均匀度形成薄膜的厚度。
[0028]另外，在引导件可以结合有复数个内板。
[0029]另外，形成于坩埚的喷嘴板容纳部可以通过将沉积物质朝上侧方向引导来使沉积物质最大限度地供给到基板，从而能够使由沉积物质引起的加热器的损伤最小化。
[0030]另外，喷嘴板容纳部可以保护喷嘴板。
[0031]另外，可以在保持引导件和内板的状态下更换喷嘴板。
[0032]另外，喷嘴板与喷嘴板容纳部螺纹紧固，从而容易组装喷嘴板。
附图说明
[0033]图1是示出本专利技术一实施例的沉积装置的剖视图。
[0034]图2是图1中示出的喷嘴块体的放大图。
[0035]图3是调节图2中示出的内板的间隙的剖视图。
[0036]图4是更换图2中示出的喷嘴的剖视图。
[0037]图5是示出本专利技术另一实施例的沉积装置的剖视图。
[0038]图6是图5中示出的喷嘴板和引导件的放大图。
[0039]图7是示出本专利技术另一实施例的喷嘴板插入于坩埚的示例的立体图。
具体实施方式
[0040]以下，将参照附图详细说明本专利技术的具体实施例。
[0041]图1是示出本专利技术实施例的沉积装置一例的剖视图。图2是图1中示出的喷嘴块体的放大图。
[0042]沉积装置包括：坩埚2，在内部形成有空间S1；喷嘴块体10，覆盖空间S1；以及内板20，结合于喷嘴块体10并形成有通孔H。
[0043]坩埚2、喷嘴块体10以及内板20可以构成薄膜形成用蒸发源30。
[0044]沉积装置可以包括：加热器40，能够加热薄膜形成用蒸发源30；以及反射器50，包
围加热器40。沉积装置还包括容纳薄膜形成用蒸发源30、加热器40、反射器50的冷却器60。
[0045]坩埚2可以在空间S容纳沉积原料8。如果加热坩埚2，则容纳于坩埚2的沉积原料8可以蒸发为沉积物质。
[0046]沉积原料8可以使用银(Ag)、镁(Mg)、氟化锂(LiF)等，或者也可以根据OLED的结构来确定沉积原料8。
[0047]在沉积原料8不同的情况下，沉积物质的密度、沸点等可能发生变化，沉积物质可以根据内板20的高度。间隙等呈现蒸发模式，由此形成于基板的薄膜的均匀度可能不同。
[0048]坩埚2的上部内周面可以形成有外侧内螺纹3。
[0049]坩埚2可以包括下坩埚4和上坩埚5。
[0050]下坩埚4的截面形状可以形成为顶面开放的杯形状。
[0051]上坩埚5可以形成为中空筒体形状，尤其可以形成为中空圆筒形状。
[0052]在上坩埚5的内周面可以形成有外侧内螺纹3。
[0053]上坩埚5可以形成于下坩埚4的上部，并且其内径D1可以大于下坩埚4的内径D2。
[0054]坩埚2可以包括盖部6。
[0055]盖部6可以从上坩埚5向加热器40的上侧凸出，并且可以与加热器40沿上下方向隔开。
[0056]盖部6可以从上坩埚5的上端朝水平方向外侧凸出。
[0057]喷嘴块体10可以包括喷嘴板11。
[0058]喷嘴板11可以是板形状。在喷嘴板11可以设置有喷嘴12。
[0059]喷嘴12可以一体形成于喷嘴板11，或者也可以可分离地结合于喷嘴板11。
[0060]在喷嘴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种沉积装置，其中，包括：坩埚，在其内部形成有空间；喷嘴板，覆盖所述空间并设置有喷嘴；引导件，插入于所述坩埚，在其内周面形成有内螺纹；以及内板，在其外周面形成有与所述引导件螺纹结合的外螺纹，所述内板在所述引导件的内部进行高度调节。2.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，所述内板包括：上板，与所述喷嘴板隔开第一间隙；以及下板，与所述上板隔开第二间隙。3.根据权利要求2所述的沉积装置，其中，所述上板的通孔和所述下板的通孔在上下方向上不一致。4.根据权利要求1所述的沉积装置，其中，所述坩埚包括：下坩埚；以及上坩埚，形成于所述下坩埚上部，所述上坩埚的内径大于下坩埚的内径。5.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，所述上坩埚包围所述引导件的外周面。6.根据权利要求4所述的沉积装置，其中，所述引导件的外径大于所述下坩埚的内径。7.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：文炳竣，李镕焕，赵镛日，曹永秀，
申请(专利权)人：LG电子株式会社，
类型：发明
国别省市：