本实用新型专利技术属于镀膜机技术领域，尤其涉及一种用于镀膜机的坩埚装置，包括：坩埚盘其可转动地设于镀膜机内部，坩埚盘的上表面凸起形成有定位凸台，该坩埚盘的上表面且位于定位凸台的一侧开设有容料槽，定位凸台与容料槽靠近该定位凸台的侧壁之间的区域为平台区；防污罩可拆卸地套设于定位凸台上，且覆盖平台区。本申请的坩埚装置结构简单可靠，采用防污罩套设在坩埚盘上，使防污罩完全地将坩埚盘的平台区遮盖，进而膜垢将会落入防污罩的表面，待镀膜结束后，只需要将防污罩取下，再进行喷沙处理清洁表面的膜垢。整个清洁工序在镀膜机外部进行，进而有效保证镀膜机内部的干净度。进而有效保证镀膜机内部的干净度。进而有效保证镀膜机内部的干净度。
【技术实现步骤摘要】
用于镀膜机的坩埚装置
[0001]本申请涉及镀膜机
，特别涉及一种用于镀膜机的坩埚装置。
技术介绍
[0002]在相关技术中，镀膜机中一般具有环状坩埚，镀膜材料放在环状坩埚上。在实际应用中，申请人发现具有如下问题：在镀膜过程中，镀膜材料蒸发后会产生膜垢，这些膜垢呈粉尘状。当镀膜结束后，这些膜垢会堆积在环状坩埚的表面上，工人需要进行清洁工序，即工人需要使用吸尘器及百洁布对环状坩埚的表面进行清洁，保证下一次镀膜时，镀膜机内是无粉尘的。在清洁工序中，由于使用吸尘器时，容易导致膜垢扬起，使镀膜机内部干净度不达标，进而影响下一次镀膜的成功率。
[0003]需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
[0004]鉴于以上技术问题中的至少一项，本申请提供一种用于镀膜机的坩埚装置，解决了在镀膜过程中，镀膜材料蒸发后会产生膜垢，这些膜垢呈粉尘状。当镀膜结束后，这些膜垢会堆积在环状坩埚的表面上，工人需要进行清洁工序，即工人需要使用吸尘器及百洁布对环状坩埚的表面进行清洁，保证下一次镀膜时，镀膜机内是无粉尘的。在清洁工序中，由于使用吸尘器时，容易导致膜垢扬起，使镀膜机内部干净度不达标，进而影响下一次镀膜的成功率的问题。
[0005]本申请第一方面提供一种用于镀膜机的坩埚装置，包括：
[0006]坩埚盘，其可转动地设于镀膜机内部，坩埚盘的上表面凸起形成有定位凸台，该坩埚盘的上表面且位于定位凸台的一侧开设有容料槽，定位凸台与容料槽靠近该定位凸台的侧壁之间的区域为平台区；
[0007]防污罩，可拆卸地套设于定位凸台上，且覆盖平台区。
[0008]本申请实施例具有如下技术效果：本申请的坩埚装置结构简单可靠，采用防污罩套设在坩埚盘上，使防污罩完全地将坩埚盘的平台区遮盖，进而膜垢将会落入防污罩的表面，待镀膜结束后，只需要将防污罩取下，再进行喷沙处理清洁表面的膜垢。整个清洁工序在镀膜机外部进行，进而有效保证镀膜机内部的干净度。
[0009]在一种实现方式中，防污罩呈碟状结构。
[0010]在一种实现方式中，防污罩上贯穿设置有与定位凸台配合的穿槽，穿槽的侧壁与定位凸台的侧壁贴合。
[0011]在一种实现方式中，穿槽的深度与定位凸台的高度相同。
[0012]在一种实现方式中，防污罩的相对两端设置有凹陷。
[0013]在一种实现方式中，容料槽沿周向围绕定位凸台设置。
[0014]在一种实现方式中，容料槽的数量为一个，容料槽呈环形结构。
[0015]在一种实现方式中，容料槽的数量为多个，多个容料槽间隔设于坩埚盘的上表面。
[0016]在一种实现方式中，容料槽呈圆形或方形。
[0017]下面结合附图与实施例，对本技术进一步说明。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是本申请实施例提供的坩埚装置的截面图；
[0020]图2是本申请实施例提供的坩埚盘的截面图；
[0021]图3是本申请实施例提供的防污罩的截面图；
[0022]图4是本申请实施例提供的防污罩的俯视图；
[0023]图5是本申请实施例提供的坩埚盘的第一种俯视图；
[0024]图6是本申请实施例提供的坩埚盘的第二种俯视图；
[0025]图7是本申请实施例提供的坩埚盘的第三种俯视图；
具体实施方式
[0026]为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。
[0027]在相关技术中，镀膜机中一般具有环状坩埚，镀膜材料放在环状坩埚上。在实际应用中，申请人发现具有如下问题：在镀膜过程中，镀膜材料蒸发后会产生膜垢，这些膜垢呈粉尘状。当镀膜结束后，这些膜垢会堆积在环状坩埚的表面上，工人需要进行清洁工序，即工人需要使用吸尘器及百洁布对环状坩埚的表面进行清洁，保证下一次镀膜时，镀膜机内是无粉尘的。在清洁工序中，由于使用吸尘器时，容易导致膜垢扬起，使镀膜机内部干净度不达标，进而影响下一次镀膜的成功率。本申请的坩埚装置结构简单可靠，采用防污罩套设在坩埚盘上，使防污罩完全地将坩埚盘的平台区遮盖，进而膜垢将会落入防污罩的表面，待镀膜结束后，只需要将防污罩取下，再进行喷沙处理清洁表面的膜垢。整个清洁工序在镀膜机外部进行，进而有效保证镀膜机内部的干净度。
[0028]本申请第一方面提供一种用于镀膜机的坩埚装置，如图1至图7所示，包括坩埚盘100及防污罩200。坩埚盘100可转动地设于镀膜机内部，坩埚盘100的上表面凸起形成有定位凸台110，该坩埚盘100的上表面且位于定位凸台110的一侧开设有容料槽120，定位凸台110与容料槽120靠近该定位凸台110的侧壁之间的区域为平台区130。防污罩200可拆卸地套设于定位凸台110上，且覆盖平台区130。
[0029]其中，在镀膜工序前，先将镀膜材料放在容料槽120当中，然后再将防污罩200套设在坩埚盘100上。在完成镀膜工序后，将定位凸台110的上表面的膜垢抹至防污罩200上，然后将防污罩200从定位凸台110上拆下，然后再移动至镀膜机外部进行喷沙处理，与此同时，
可以将新的防污罩200重新套设在定位凸台110上，如此，就不需要等待旧的防护罩清理，进而提升镀膜机的镀膜效率。
[0030]此外，当防污罩200套设在定位凸台110上时，并不会遮盖着在容料槽120中的镀膜材料，即，防污罩200的边缘并不会延伸至容料槽120的上方，进而不会改变镀膜材料的蒸发角度，对镀膜没有影响。
[0031]在一些示例中，如图1至图7所示，防污罩200呈碟状结构。
[0032]其中，将防污罩200设置呈碟状结构，具体为，防污罩200的底面是平面，该防污罩200的底面与平台区130贴合，即防污罩200的底面与坩埚盘100的上表面贴合。防污罩200的侧面是伞形面，防护罩的侧面由定位凸台110的上沿至容料槽120的侧壁方向倾斜。
[0033]在一些示例中，如图1至图7所示，防污罩200上贯穿设置有与定位凸台110配合的穿槽210，穿槽210的侧壁与定位凸台110的侧壁贴合。
[0034]其中，防污罩200的中心位置贯穿设置有穿槽210。将防污罩200的穿槽210对准定位凸台110套入，使防污罩200与坩埚盘100组合在一起。如此，防污罩200可拆卸本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于镀膜机的坩埚装置，其特征在于，包括：坩埚盘，其可转动地设于镀膜机内部，所述坩埚盘的上表面凸起形成有定位凸台，该坩埚盘的上表面且位于所述定位凸台的一侧开设有容料槽，所述定位凸台与所述容料槽靠近该定位凸台的侧壁之间的区域为平台区；防污罩，可拆卸地套设于所述定位凸台上，且覆盖所述平台区。2.根据权利要求1所述的用于镀膜机的坩埚装置，其特征在于，所述防污罩呈碟状结构。3.根据权利要求1所述的用于镀膜机的坩埚装置，其特征在于，所述防污罩上贯穿设置有与所述定位凸台配合的穿槽，所述穿槽的侧壁与所述定位凸台的侧壁贴合。4.根据权利要求3所述的用于镀膜机的坩埚装置...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢宗绪，
申请(专利权)人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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