用于镀膜机的坩埚装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于镀膜机技术领域，尤其涉及一种用于镀膜机的坩埚装置，包括：坩埚盘其可转动地设于镀膜机内部，坩埚盘的上表面凸起形成有定位凸台，该坩埚盘的上表面且位于定位凸台的一侧开设有容料槽，定位凸台与容料槽靠近该定位凸台的侧壁之间的区域为平台区；防污罩可拆卸地套设于定位凸台上，且覆盖平台区。本申请的坩埚装置结构简单可靠，采用防污罩套设在坩埚盘上，使防污罩完全地将坩埚盘的平台区遮盖，进而膜垢将会落入防污罩的表面，待镀膜结束后，只需要将防污罩取下，再进行喷沙处理清洁表面的膜垢。整个清洁工序在镀膜机外部进行，进而有效保证镀膜机内部的干净度。进而有效保证镀膜机内部的干净度。进而有效保证镀膜机内部的干净度。

【技术实现步骤摘要】
用于镀膜机的坩埚装置


[0001]本申请涉及镀膜机
，特别涉及一种用于镀膜机的坩埚装置。

技术介绍

[0002]在相关技术中，镀膜机中一般具有环状坩埚，镀膜材料放在环状坩埚上。在实际应用中，申请人发现具有如下问题：在镀膜过程中，镀膜材料蒸发后会产生膜垢，这些膜垢呈粉尘状。当镀膜结束后，这些膜垢会堆积在环状坩埚的表面上，工人需要进行清洁工序，即工人需要使用吸尘器及百洁布对环状坩埚的表面进行清洁，保证下一次镀膜时，镀膜机内是无粉尘的。在清洁工序中，由于使用吸尘器时，容易导致膜垢扬起，使镀膜机内部干净度不达标，进而影响下一次镀膜的成功率。
[0003]需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

[0004]鉴于以上技术问题中的至少一项，本申请提供一种用于镀膜机的坩埚装置，解决了在镀膜过程中，镀膜材料蒸发后会产生膜垢，这些膜垢呈粉尘状。当镀膜结束后，这些膜垢会堆积在环状坩埚的表面上，工人需要进行清洁工序，即工人需要使用吸尘器本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于镀膜机的坩埚装置，其特征在于，包括：坩埚盘，其可转动地设于镀膜机内部，所述坩埚盘的上表面凸起形成有定位凸台，该坩埚盘的上表面且位于所述定位凸台的一侧开设有容料槽，所述定位凸台与所述容料槽靠近该定位凸台的侧壁之间的区域为平台区；防污罩，可拆卸地套设于所述定位凸台上，且覆盖所述平台区。2.根据权利要求1所述的用于镀膜机的坩埚装置，其特征在于，所述防污罩呈碟状结构。3.根据权利要求1所述的用于镀膜机的坩埚装置，其特征在于，所述防污罩上贯穿设置有与所述定位凸台配合的穿槽，所述穿槽的侧壁与所述定位凸台的侧壁贴合。4.根据权利要求3所述的用于镀膜机的坩埚装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢宗绪，
申请(专利权)人：贵州铜仁旭晶光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：