一种用于ICP设备的高度可调式感应线圈及调节方法技术

本发明专利技术提供一种用于ICP设备的高度可调式感应线圈及调节方法，其属于半导体设备技术领域，所述用于ICP设备的高度可调式感应线圈包括设置于ICP设备的机台腔室盖板上的外层线圈和内层线圈，外层线圈和内层线圈均分别通过伸缩固定柱与机台腔室盖板相连接；伸缩固定柱包括螺纹帽和螺纹柱；螺纹帽的上端与对应的外层线圈或内层线圈相连接，螺纹帽的下端与螺纹柱的上端螺纹连接，螺纹柱的下端通过调节机构与机台腔室盖板可转动地连接。本发明专利技术实现了在ICP设备工作过程中不停机地、实时地进行线圈安装高度的调节，从而快速且精确地调节流经射频匹配器和感应线圈的电流大小，本发明专利技术大幅提高了工作效率且保证了ICP设备性能，有助于提高所处理的半导体器件质量。高所处理的半导体器件质量。高所处理的半导体器件质量。

【技术实现步骤摘要】
一种用于ICP设备的高度可调式感应线圈及调节方法


[0001]本专利技术属于半导体设备
，具体涉及一种用于ICP设备的高度可调式感应线圈及调节方法。

技术介绍

[0002]现有的技术中，使用ICP（Inductive Coupled Plasma，电感耦合等离子）设备产生等离子体的过程中，一般使用与射频电源、射频匹配器和连接的多层感应线圈通过电磁感应在腔室气体中产生等离子体，其中通过射频匹配器和线圈上的电流大小与线圈的安装高度位置有密切联系。因此，在使用多层感应线圈的ICP设备中，通常采用改变线圈安装高度的方式，来控制射频电源同等输出功率下流经射频匹配器和线圈的电流大小。
[0003]但是在实际设备工艺过程中，想实时地改变线圈安装高度来调节电流大小是不现实的，因为现有ICP设备中的多层感应线圈是固定高度的，其结构如图8所示，外层线圈2和内层线圈3均通过现有的固定柱A1直接固定，使得线圈最低平面中心点与机台腔室盖板1之间的距离是固定的，设备工作时射频电源输出某功率时，其线圈上的电流也固定了，无法调整；当工艺需要更大功率时，由于射频匹本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于ICP设备的高度可调式感应线圈，其包括设置于ICP设备的机台腔室盖板上的外层线圈和内层线圈，其特征在于，外层线圈和内层线圈均分别通过伸缩固定柱与机台腔室盖板相连接；伸缩固定柱包括螺纹帽和螺纹柱；螺纹帽的上端与对应的外层线圈或内层线圈相连接，螺纹柱外侧面上沿其长度方向设置有刻度，螺纹帽的下端与螺纹柱的上端螺纹连接，螺纹柱的下端通过调节机构与机台腔室盖板可转动地连接，调节机构为手动调节机构或电动调节机构。2.如权利要求1所述的用于ICP设备的高度可调式感应线圈，其特征在于，外层线圈和内层线圈均呈圆柱螺旋线状，每个外层线圈或内层线圈均为一端通过伸缩固定柱与机台腔室盖板相连接并接地，另一端通过接头与固定设置的射频匹配器相连接；外层线圈与内层线圈通过各自接头与各自对应的射频匹配器相连。3.如权利要求2所述的用于ICP设备的高度可调式感应线圈，其特征在于，外层线圈和内层线圈均为多线螺纹状的多层感应线圈，由多条圆柱螺旋线组成，其中每条圆柱螺旋线均为一个线圈，并在两端分别设置伸缩固定柱和接头，接头位于该线圈中心位置，伸缩固定柱位于远离该线圈中心的位置；多个伸缩固定柱沿对应的外层线圈或内层线圈的周向均匀分布。4.如权利要求3所述的用于ICP设备的高度可调式感应线圈，其特征在于，多线螺纹状的上下相邻的各层线圈之间为绝缘地相接触或者通过绝缘的连接件相连接。5.如权利要求1
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4中任意一项所述的用于ICP设备的高度可调式感应线圈，其特征在于，调节机构为电动调节机构，包括有电机；机台腔室盖板上开设有容纳通孔，螺纹柱的下端穿过容纳通孔与电机相连接；还包括与射频匹配器相连接的电流传感器；电机连接有用于控制其作动的控制单元；控制单元具...

【专利技术属性】
技术研发人员：王雄，
申请(专利权)人：盛吉盛半导体科技北京有限公司，
类型：发明
国别省市：