【技术实现步骤摘要】
一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置及合成方法
[0001]本专利技术涉及寡核苷酸合成
,特别是涉及一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置及合成方法。
技术介绍
[0002]目前商品化寡核苷酸合成技术为柱式合成技术,其原理是将玻璃球(ControlledPoreGlass,简称CPG)粉末填充于填充柱中,由于填充柱有上下筛板,故可以将CPG粉末密封于填充柱中,然后将密封有CPG粉末的填充柱放置于柱式合成仪中,最后启动相应的计算机程序对寡核苷酸进行合成。其中,该柱式合成技术的液路采用的是正压给液方式,不能控制液体流速
,
从而不能保证残留试剂被清洗干净。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的是提供一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置,在合成寡核苷酸链的前提下,可以稳定调控片状芯片反应腔的试剂流量及试剂速度,也可以稳定调控吹气流量及吹气速度,从而能够保证片状芯片反应腔内的残留试剂被清洗干净。
[0004]为实现上述目的,本专利技术提供了如下方案:
[0005]本专利技术提供了一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置,包括:注射泵模块、旋切阀模块以及芯片模块;
[0006]所述注射泵模块,用于抽取化学试剂;
[0007]所述旋切阀模块,用于通过旋切操作输送化学试剂;
[0008]所述芯片模块,用于:
[0009]根据化学试剂合成寡核苷酸链;
[0010]采用下方进液上方出液方式控制化学试剂流量及化学试剂速度,以将化学试剂合成寡核苷 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置,其特征在于,包括:注射泵模块、旋切阀模块以及芯片模块;所述注射泵模块,用于抽取化学试剂;所述旋切阀模块,用于通过旋切操作输送化学试剂;所述芯片模块,用于:根据化学试剂合成寡核苷酸链;采用下方进液上方出液方式控制化学试剂流量及化学试剂速度,以将化学试剂合成寡核苷酸链;采用上方进气下方出气方式调控吹气流量及吹气速度,以将未进行反应的化学试剂排出。2.根据权利要求1所述的一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置,其特征在于,所述旋切阀模块通过三通阀与芯片模块连接。3.根据权利要求1所述的一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置,其特征在于,所述芯片模块包括第一二位三通阀、第二二位三通阀和片状芯片反应腔;所述片状芯片反应腔的内表面为单分子层;所述三通阀的第二端与所述第一二位三通阀的第一端连接,所述第一二位三通阀的第二端与所述片状芯片反应腔的下方口连接,所述第一二位三通阀的第三端用于排出废液;所述第二二位三通阀的第一端与所述片状芯片反应腔的上方口连接,所述第二二位三通阀的第二端用于向所述片状芯片反应腔内输入外界气体,所述第二二位三通阀的第三端用于排出废液;所述片状芯片反应腔为合成寡核苷酸链的容器。4.根据权利要求3所述的一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置,其特征在于,所述下方口用于将通过所述第一二位三通阀的化学试剂输送至所述片状芯片反应腔内以合成寡核苷酸链或者接收所述片状芯片反应腔内未进行反应的化学试剂,并通过所述第一二位三通阀的第三端排出未进行反应的化学试剂;所述上方口用于将通过所述第二二位三通阀的外界气体输送至所述片状芯片反应腔内以将所述片状芯片反应腔内未进行反应的化学试剂输送至所述下方口或者将所述片状芯片反应腔内未进行反应的化学试剂输送至第二二位三通阀的第三端以排出未进行反应的化学试剂。5.根据权利要求3所述的一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置,其特征在于,所述旋切阀模块包括第一旋切阀、第二旋切阀、第三旋切阀和第四旋切阀;所述注射泵模块包括第一注射泵和第二注射泵;所述第一旋切阀的固定端用于与所述第二旋切阀的切换端连接;所述第一旋切阀的切换端用于根据旋切操作抽取OXI试剂、抽取CAPA试剂、抽取ACT试剂、抽取TCA试剂或者排出废液;所述第二旋切阀的固定端与所述第一注射泵连接;所述第二旋切阀的切换端用于根据旋切操作连接所述第一旋切阀的固定端、连接所述三通阀的第一端、抽取氩气、抽取ACN试剂或者排出废液;所述第三旋切阀的固定端与所述第二注射泵连接,所述第三旋切阀的切换端用于根据
旋切操作连接所述三通阀的第三端、连接所述第四旋切阀的固定端、抽取氩气、抽取ACN试剂或者排出废液;所述第四旋切阀的固定端用于与所述第三旋切阀的切换端连接,所述第四旋切阀的切换端用于根据旋切操作抽取CAPB试剂、抽取G试剂、抽取C试剂、抽取T试剂、抽取A试剂或者排出废液。6.一种应用于权利要求5所述的基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置的合成方法,其特征在于,所述合成方法包括:步骤10:TCA脱保护步骤;所述TCA脱保护步骤为向片状芯片反应腔中加入TCA试剂以进行脱保护反应,反应完成后向其加入ACN试剂进行清洗;步骤20:单核苷酸试剂偶联步骤;所述单核苷酸试剂偶联步骤为向片状芯片反应腔中同时加入所需的单核苷酸试剂和ACT试剂以进行偶联反应,反应完成后向其加入ACN试剂进行清洗;步骤30:盖帽反应步骤;所述盖帽反应步骤为向片状芯片反应腔中同时加入CAPA试剂和CAPB试剂以进行盖帽反应,反应完成后向其加入ACN试剂进行清洗;步骤40:氧化反应步骤;所述氧化反应步骤为向片状芯片反应腔中加入OXI试剂以进行氧化反应,反应完成后向其加入ACN试剂进行清洗;步骤50:循环步骤10至步骤40,得到寡核苷酸链;其中,循环次数是由寡核苷酸链的长度确定的。7.根据权利要求6所述的一种基于芯片方式的寡核苷酸链合成装置的合成方法,其特征在于,在所述TCA脱保护步骤中,加TCA试剂的过程为:首先将第一注射泵复位,将第二旋切阀的切换端旋转至第一旋切阀的固定端,将第一旋切阀的切换端旋转至第一旋切阀的TCA端,下拉第一注射泵,将一定量的TCA试剂抽取到第一注射泵中;其次将第二旋切阀的切换端旋转至第二旋切阀的WASTE1端,上推第一注射泵,将TCA试剂推至第二旋切阀的WASTE1端;然后将第二旋切阀的切换端旋转至第一旋切阀的固定端,并下拉第一注射泵以抽取TCA试剂;接着将第二旋切阀的切换端旋转至三通阀的第一端,关闭第二二位三通阀的AR3端和第一二位三通阀的WASTE5端,打开第二二位三通阀的WASTE6端和第一二位三通阀的第一端,上推第一注射泵,将TCA试剂推送至片状芯片反应腔;最后TCA试剂在片状芯片反应腔中反应40s后,打开第二二位三通阀的AR3端和第一二位三通阀的WASTE5端,关闭第二二位三通阀的WASTE6端和第一二位三通阀的第一端,氩气通过第二二位三通阀的AR3端进入片状芯片反应腔中,并将片状芯片反应腔中剩余的TCA试剂吹至第一二位三通阀的WASTE5端,...
【专利技术属性】
技术研发人员:王武,伍建,苏海龙,史艳坤,
申请(专利权)人:北京铭毅智造科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。