一种光刻去胶废液综合利用的方法技术

技术编号:37353056 阅读:28 留言:0更新日期:2023-04-27 07:04
本发明专利技术属于有机废液回收技术领域,具体涉及一种光刻去胶废液综合利用的方法。用硫酸水溶液使光刻去胶废液的中的乙醇胺、异丙醇胺转化为铵盐;然后送入刮板薄膜蒸发器进行减压蒸发,馏出液含水、二甲基亚砜、N

【技术实现步骤摘要】
一种光刻去胶废液综合利用的方法


[0001]本专利技术属于有机废液回收
,具体涉及一种光刻去胶废液综合利用的方法。

技术介绍

[0002]公开该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本专利技术总体背景的理解,而不必然被视为承认或暗示该信息已成为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
[0003]发光器件发光二极管(LED)具有安全环保、耗电低、使用寿命长、响应速度快、体积小、重量轻、耐抗击以及易于调光、调色、可控性大等优点,被广泛应用于指示、显示、装饰、背光源、照明等领域。在LED制造工艺流程中光刻是关键步骤之一,光刻是一个复杂且系统的工艺过程,以正胶光刻为例,芯片经涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶处理,才能在LED芯片上形成规格的电路图案。
[0004]在LED芯片光刻去胶过程中会产生一种去胶废液,主要含水、乙醇胺、异丙醇胺、二甲基亚砜、N

甲基吡咯烷酮、二乙二醇,同时含有少量不挥发性杂质组分,包括高分子聚合物、金属、颗粒物等。其中,二甲基亚砜、N

甲基吡咯烷酮、二乙二醇回收再利用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻去胶废液综合利用的方法,其特征在于:所述光刻去胶废液中含有水、乙醇胺、异丙醇胺、二甲基亚砜、N

甲基吡咯烷酮、二乙二醇;光刻去胶废液综合利用的方法包括以下步骤:步骤1将光刻去胶废液与硫酸水溶液混合,光刻去胶废液中的乙醇胺、异丙醇胺与酸发生中和反应,形成铵盐;步骤2将步骤1反应后的光刻去胶废液送入刮板薄膜蒸发器,经过减压蒸发;水、二甲基亚砜、N

甲基吡咯烷酮、二乙二醇收集在刮板薄膜蒸发器馏出液中;未挥发的组分,包括铵盐、硫酸,进入刮板薄膜蒸发器的釜底;步骤3将步骤2馏出液送入脱轻精馏塔,塔顶采出废水,塔底采出二甲基亚砜、N

甲基吡咯烷酮、二乙二醇的混合物;步骤4将步骤3产生的二甲基亚砜、N

甲基吡咯烷酮、二乙二醇的混合物送入混合品精馏塔,塔顶采出二甲基亚砜和N

甲基吡咯烷酮混合品;塔...

【专利技术属性】
技术研发人员:樊振寿朱雅楠顾金中孔磊
申请(专利权)人:南京长江江宇环保科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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