一种单晶薄膜设备用托盘组件及单晶薄膜设备制造技术

本申请公开一种单晶薄膜设备用托盘组件及单晶薄膜设备。该托盘组件包括：支撑筒，所述支撑筒上配置有用以连接托盘的突出部，所述突出部上配置有导向面，托盘，所述托盘呈中空的环状，其一侧配置有与所述突出部的导向面相匹配的安装导向面，所述托盘的内侧配置有向中心延伸的且轴向上厚度小于托盘主体厚度的凸台，所述凸台的远离所述安装导向面侧配置有凸起，所述凸起与所述托盘的主体间设有凹槽，所述凹槽以容纳部分衬底。这样设备运行时产生的沉积物会先堆积在凹槽内，不容易对衬底放置造成影响，且对位简单，精度好，对传动部件的精度要求可以降低，可节省设备成本。可节省设备成本。可节省设备成本。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶薄膜设备用托盘组件及单晶薄膜设备


[0001]本申请涉及CVD设备
，具体地涉及一种单晶薄膜设备用托盘组件及单晶薄膜设备。

技术介绍

[0002]碳化硅等衬底用于生产外延片时，通常放置于单晶薄膜设备反应腔的托盘上，目前常用的托盘大多采用平面/平底的结构，这样衬底放置于托盘上后，设备运行时衬底的外侧容易沉积反应物，沉积物厚度累计到一定程度造成衬底放置不平或放不下去，引发质量事故。另外用于加热托盘(加热托盘上衬底)的加热器未采用合理的防护措施，反应气体能接触到加热器，在高温时时会腐蚀加热器被，缩短加热器的使用寿命，进而间接的增加了生产成本。
[0003]因此，需改进现有的托盘结构。

技术实现思路

[0004]为克服上述缺点，本申请的目的在于：提供一种单晶薄膜设备用托盘组件，其结构紧凑，对位精度低。
[0005]为了达到以上目的，本申请采用如下技术方案：
[0006]一种单晶薄膜设备用托盘组件，其特征在于，所述托盘组件包括：
[0007]支撑筒，所述支撑筒上配置有用以连接托盘的突出部，所述突出本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶薄膜设备用托盘组件，其特征在于，所述托盘组件包括：支撑筒，所述支撑筒的一侧配置有用以连接托盘的突出部，所述突出部配置有导向面，托盘，所述托盘呈中空的环状，其一侧配置有与所述突出部的导向面相匹配的安装导向面，所述托盘的内侧配置有向中心延伸的且轴向上厚度小于托盘主体厚度的凸台，所述凸台的远离所述安装导向面侧配置有凸起，所述凸起与所述托盘的主体间设有凹槽，所述凹槽以容纳部分衬底。2.如权利要求1所述的单晶薄膜设备用托盘组件，其特征在于，所述突出部的导向面的倾斜角度介于30
‑
60
°
和/或所述托盘的安装导向面的倾斜角度介于30
‑
60
°
。3.如权利要求1所述的单晶薄膜设备用托盘组件，其特征在于，所述托盘包括：可拆卸的凸台组件，且所述凸台组件位于托盘的内侧，所述凸台组件设有凸起，所述凸起与凸台组件的主体间设有凹槽，所述凹槽以容...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒲勇，赵鹏，卢勇，施建新，
申请(专利权)人：芯三代半导体科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：