对准方法、马赛克式芯片结构/滤波器的制备方法技术

本发明专利技术提供一种对准方法、马赛克式芯片结构/滤波器的制备方法，其中，对准方法包括当前光刻对准工艺前，若像素感光单元的晶圆正面的对准图形标记被遮盖，则采用干法刻蚀的方法显露出被遮盖的对准图形标记；采用正面对准的方法进行光刻对准工艺。马赛克式芯片结构/滤波器的制备方法中均采用该对准方法。本发明专利技术方案大幅度提高了对准精度。在当前常用的光刻对准设备条件下，采用本发明专利技术方法能够做到对准误差小于1微米，在单片式马赛克光谱成像芯片的制备过程中，使得薄膜滤波结构与成像芯片光敏元由于对准误差引起的位置偏差，可以控制在成像芯片光敏元尺寸的10％以内。芯片光敏元尺寸的10％以内。芯片光敏元尺寸的10％以内。

【技术实现步骤摘要】
对准方法、马赛克式芯片结构/滤波器的制备方法


[0001]本专利技术涉及光谱成像
，涉及一种对准方法、马赛克式芯片结构/滤波器的制备方法，尤其是一种马赛克薄膜滤波结构与成像芯片光敏元的对准方法、马赛克式芯片结构/滤波器的制备方法。

技术介绍

[0002]光谱成像技术是一种依赖目标对环境电磁波反射获取目标二维空间信息及光谱特性的无损探测技术，被广泛应用于卫星遥感，实验室食品安全，工业生产线品质监测等领域。马赛克式光谱成像是在成像芯片的每一个像素光敏元上制备一个薄膜滤波分光结构，每一个薄膜滤波结构的尺寸与像素光敏元尺寸相同，薄膜滤波结构与像素光敏元对准精度极大地影响马赛克式光谱成像器的性能。
[0003]单片式马赛克光谱成像微系统技术的发展为推进光谱成像技术在低成本工业化及民用生活领域的应用提供了有效的解决途径。单片式马赛克光谱成像微系统量产成本低，结构简单，光耦合效率高，具有广阔的应用前景。特别的，对于面向特定领域应用的快照式马赛克光谱成像芯片可实现响应谱段定制化，使器件对于目标应用场景的分类识别达到最高准确率。但是，单片式马赛克光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种对准方法，其特征在于，所述对准方法用于马赛克式结构的制备过程，所述对准方法包括：当前光刻对准工艺前，若像素感光单元的晶圆正面的对准图形标记被遮盖，则采用干法刻蚀的方法显露出被遮盖的对准图形标记；采用正面对准的方法进行光刻对准工艺。2.根据权利要求1所述的一种对准方法，其特征在于，所述方法还包括：在下一光刻对准工艺前，若对准图形标记再次被遮盖，则继续采用干法刻蚀的方法显露出被遮盖的正面对准图形，采用正面对准的方法再次进行光刻对准工艺，依次循环，直至所有工艺流程结束。3.一种马赛克式芯片结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在像素感光单元的晶圆正面整体加工下反射镜；在所述下反射镜上整体沉积通光层的原材料，得到的沉积结构的厚度为通光层最高台阶厚度；对所述沉积结构进行多次包括光刻、刻蚀以获取呈马赛克式分布的通光层，包括：进行第一次光刻、刻蚀，包括：1)采用干法刻蚀的方法显露出晶圆正面被遮盖的对准图形标记；2)采用正面对准的方法进行光刻对准工艺；3)刻蚀；进行第二次光刻、刻蚀，包括：判断对准图形标记是否被遮盖，若是，则按照步骤1)～3)方法，完成第二次光刻、刻蚀；按照第二次光刻、刻蚀方法依次完成剩余次数的光刻、刻蚀，得到所需通光层；在所述通光层上加工上反射镜。4.根据权利要求3所述的一种马赛克式芯片结构的制备方法，其特征在于，所述马赛克式芯片结构的制备方法还包括先在像素感光单元的晶圆正面整体一体式沉积第一匹配层，再在所述第一匹配层上一体式沉积所述下反射镜，所述第一匹配层过渡窄带滤光膜和像素感光单元之间的光学导纳以提高中心波长峰值透过率，所述上反射镜、通光层和下反射镜构成所述窄带滤光膜。5.根据权利要求4所述的一种马赛克式芯片结构的制备方法，其特征在于，所述马赛克式芯片结构的制备方法还包括在所述上反射镜上一体式沉积第二匹配层，所述第二匹配层用于提高马赛克式芯片结构的的中心波长透过率。6.根据权利要求3所述的一种马赛克式芯片结构的制备方法，其特征在于，所述马赛克式芯片结构的制备方法还包括先在像素感光单元的晶圆正面整体一体式沉积第三匹配层，再在所述第三匹配层上一体式沉积所述下反射镜；以及还在所述上反射镜上一体式沉积过渡层，在所述过渡层上一体式沉积第一截止滤波膜，在所述第一截止滤波膜上制备第二截止滤波膜，在所述第二截止滤波膜上制备第三截止滤波膜，其中：所述第一截止滤波膜、第二截止滤波膜和第三截止滤波膜分别对应截止第一干扰波段、第二干扰波段和第三干扰波段，所述第一干扰波段、第二干扰波...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘建旋，刘舒扬，赵安娜，王天鹤，张晨，张云昊，周志远，姜洪妍，王才喜，
申请(专利权)人：天津津航技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：