一种改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法技术

本发明专利技术涉及石英表面加工技术领域，尤其涉及一种改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法，该方法利用激光对光掩模石英玻璃基板表面缺陷区域进行退火处理，以使光掩模石英玻璃基板表面薄层熔融，融化的石英玻璃流动使石英玻璃基板表面平整化，通过控制光掩模石英玻璃基板的表面温度至析晶温度，使光掩模石英玻璃基板表面形成物相结构层，可以使得石英玻璃基板表面的缺陷更加的平整，若未达到平坦度要求再对光掩模石英玻璃基板表面进行抛光，只需要抛光研磨掉很薄的一层就可以达到所需的平坦度要求，增加了再生重复利用的次数，提高了石英玻璃基板重复利用率和回收利用价值。玻璃基板重复利用率和回收利用价值。玻璃基板重复利用率和回收利用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法


[0001]本专利技术涉及石英表面加工
，尤其涉及一种改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法。

技术介绍

[0002]光掩模版（PhotoMask）是一种在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，因此对于石英玻璃基板的平整度以及厚度有着极高的要求。
[0003]在半导体工业生产的过程中，使用后的光掩模版或空白掩膜版一般有回收利用价值，回收的光掩模版的底板为石英基板，在石英基板上通常附有金属膜层、光刻胶层。此时，为了获得洁净的石英基板，须去除光刻胶和金属膜。这时为了选择性的去除光刻胶和金属膜，通常使用的方法为用剥离液（Stripper Solotion）和刻蚀液（Etchant）进行浸泡。例如，当金属膜为铬或氧化铬膜时，去除铬或氧化铬金属膜是通过湿法蚀刻过程进行的，使用铬刻蚀液（Cr Etchant）可以从废弃的光罩和掩模基版中回收石英基板。同样的，石英基板生产中也需要对表面缺陷进行处理，同样面临本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法，其特征在于，包括如下步骤：对光掩模石英玻璃基板表面的缺陷区域进行激光处理，以使光掩模石英玻璃基板的相应区域表面熔融；对表面熔融的光掩模石英玻璃基板进行退火处理，在所述退火处理中，通过控制光掩模石英玻璃基板表面温度至析晶温度，以使光掩模石英玻璃基板表面重构形成物相结构层，从而获得表面缺陷平缓化后的石英玻璃基板。2.根据权利要求1所述的改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法，其特征在于，还包括：在完成所述退火处理后，继续对所述光掩模石英玻璃基板表面进行抛光处理，以改善表面平坦度或粗糙度。3.根据权利要求1所述的改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法，其特征在于，所述对光掩模石英玻璃基板表面进行激光处理，以使光掩模石英玻璃基板表面熔融的步骤包括：将功率密度为量级的激光均匀辐射石英玻璃基板正面的缺陷部分，在光掩模石英玻璃基板表面形成瞬间高温至1730℃以上，使光掩模石英玻璃...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯涛，季明华，林岳明，赵志伟，
申请(专利权)人：上海传芯半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：