【技术实现步骤摘要】
一种离子淋浴系统
[0001]本专利技术主要涉及到半导体工艺装备制造
,特指一种离子淋浴系统,尤其适用于高能离子注入机。
技术介绍
[0002]随着科技的飞速发展,离子注入技术的应用范围越来越广,离子注入的工艺要求也不断提高。由于在晶圆的离子注入过程中会不断积累电荷,这将直接影响最终的晶圆质量,因此在离子注入前需要对离子束进行离子中和。
[0003]为此,现有的高能离子注入机在离子注入的过程中需要离子淋浴器向束线区域提供等离子体,对通过束线区域的高能离子束进行淋浴,对离子束进行电中和。离子淋浴器作为低能电子发射器,被广泛用于离子束的电中和过程。离子淋浴器是高能离子注入机中不可缺少的一部分。
[0004]目前,传统的高能离子注入机均没有与其适配的离子淋浴枪成套结构,即现有离子淋浴枪的结构与高能离子注入机的结构不匹配。
技术实现思路
[0005]本专利技术要解决的技术问题就在于:针对现有技术存在的技术问题,本专利技术提供一种结构简单、制作简便、稳定性和可靠性好的离子淋浴系统。
[00 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种离子淋浴系统,其特征在于,包括:离子淋浴枪(14),固定连接于腔体上;供电装置,与离子淋浴枪(14)连接并为离子淋浴枪(14)供电;所述供电装置包括电连接插针(3)、电连接插孔(4)、公水冷接头(8)、母水冷接头(9);外接电源的正、负极分别连接至电连接插针(3)、电连接插孔(4),所述电连接插针(3)接入母水冷接头(9),所述电连接插孔(4)接入公水冷接头(8);所述公水冷接头(8)、母水冷接头(9)分别与两个导线条(13)连接。2.根据权利要求1所述的离子淋浴系统,其特征在于,所述公水冷接头(8)和母水冷接头(9)的一端为插针和插孔、用来与电连接插针(3)、电连接插孔(4)分别配合。3.根据权利要求2所述的离子淋浴系统,其特征在于,所述公水冷接头(8)和母水冷接头(9)的另一端为螺柱,螺柱中间开槽,用来与导线条(13)配合,螺柱末端使用螺母和垫片固定。4.根据权利要求1
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3中任意一项所述的离子淋浴系统,其特征在于,所述离子淋浴枪(14)通过安装法兰(1)固定连接于高能离子注入机的腔体上。5.根据权利要求4所述的离子淋浴系统,其特征在于,所述离子淋浴枪(14)与安装法兰(1)之间设置法兰绝缘板(2),用来保证离子淋浴枪(14...
【专利技术属性】
技术研发人员:王朋飞,高静,黄海龙,李进,李士会,
申请(专利权)人:北京烁科中科信电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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