带有溶剂吹扫的化学品运送箱制造技术

本发明专利技术是贮存并向半导体制造的加工器具提供低蒸气压的工艺化学品的装置，其包括：ａ）用于贮存低蒸气压的工艺化学品的散物容器；ｂ）用于向加工器具输送工艺化学品的操作容器；ｃ）用于由散物容器向操作容器提供工艺化学品的第一多支管；ｄ）含有一定数量的溶剂的溶剂容器；ｅ）用于由操作容器向加工器具提供工艺化学品的第二多支管。还涉及使用所述装置的方法。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术针对的领域是在电子工业中工艺化学品的运送，以及需要高纯度化学品运送的其它应用。更具体地说，本专利技术针对的是工艺化学品运送管线、容器和相关装置的清洗装置和方法，特别是在在这类工艺化学品运送管线中工艺化学品或工艺化学品容器转换过程中。
技术介绍
一直以来是使用对工艺化学品管线抽真空和进行气体吹扫来从运送管线中除去残余的化学品。抽真空和惰性气体吹扫这二者均能成功地快速除去高挥发性的化学品，但对低挥发性化学品却不是有效的。当吸取高毒性物质时安全性成为问题。使用溶剂来除去残余化学品已不是新的了。各种专利已探寻过使用溶剂的清洗系统，这里特别将它们全文引入本文以供参考US5,045,117叙述了一种用溶剂和真空作用来清洗印刷电路装配体的方法和装置。US5,115,576公开了使用异丙醇溶剂来清洗半导体晶片的装置和方法。其它有关溶剂清洗的专利包括US4357175、US4832753、US4865061、US4871416、US5051135、US5106404、US5108582、US5240507、US5304253、US5339844、US5425183、US5469876、U本文档来自技高网...

【技术保护点】
贮存并向半导体制造的加工器具提供低蒸气压的工艺化学品的装置，其包括： ａ）用于贮存所述低蒸气压的工艺化学品的散物容器； ｂ）用于向所述加工器具输送所述低蒸气压的工艺化学品的操作容器； ｃ）用于经一或多个隔膜阀由所述散物容器向所述操作容器再提供所述低蒸气压的工艺化学品的第一多支管，所述隔膜阀具有朝向该多支管可与所述散物容器脱离的部分的阀座侧； ｄ）含有一定数量的用于该低蒸气压的工艺化学品的溶剂并与所述第一多支管有流体流通连接的溶剂容器； ｅ）用于经一或多个隔膜阀由所述操作容器向所述加工器具输送所述低蒸气压的工艺化学品的第二多支管，所述隔膜阀的阀座侧朝向该多支管可与所...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：CM伯特彻尔，MC马丁滋，TA斯坦德，G维范科，DJ斯瓦，
申请(专利权)人：气体产品与化学公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]