一种外延片的制备装置及其制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种外延片的制备装置及其制备方法，涉及外延片制备技术技术领域，包括：加工台；承载槽，其布设于所述加工台上，以用于承载外延片；滑槽，其设置于承载槽中心端；推板，其滑动布设于滑槽中；驱动机构，其与推板连接，用于驱动推板升降，以通过推板将外延片推出预设高度；还包括：取料组件，其布设在加工台上，用于将外延片置于承载槽中以进行镀膜处理；取料组件包括：第一气缸；吸附机构，其于第一气缸伸缩端连接；放料组件，其布设在加工台上，用于将镀膜完成后的外延片从承载槽中移出；相较于现有的吸附式放料组件，不会对外延片的镀膜层产生影响，且镀膜完成后，可直接将外延片移出，以便于下一外延片进行镀膜。以便于下一外延片进行镀膜。以便于下一外延片进行镀膜。

【技术实现步骤摘要】
一种外延片的制备装置及其制备方法


[0001]本专利技术涉及外延片制备技术
，具体涉及一种外延片的制备装置及其制备方法。

技术介绍

[0002]外延片指的是在衬底上生长出的半导体薄膜，薄膜主要由P型，量子阱，N型三个部分构成。现在主流的外延材料是氮化镓，衬底材料主要有蓝宝石，硅，碳化在三种。
[0003]外延片的制备过程中，通过对外延片进行镀膜处理来提高其表面的洁净度，在现有技术中，外延片上喷涂一层材料，使得材料在外延片表面形成一层薄膜，在将外延片放置于镀膜平台上时，一般采用吸盘对其进行吸附，而后再采用机械手进行转运，在下料时，仍然采用吸盘与机械手配合的方式进行，但是，由于镀膜完成后，需要静置一段时间才能移动外延片，否则吸盘与外延片接触时，薄膜材料未完成成型，处于不稳定状态，进而影响加工质量，但是静置时间过长，又会降低镀膜效率。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种外延片的制备装置及其制备方法，解决以下技术问题：下料时，仍然采用吸盘与机械手配合的方式进行，但是，由于镀膜完成后，需要静置一段时间才能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种外延片的制备装置，其特征在于，包括：加工台（1）；承载槽（502），其布设于所述加工台（1）上，以用于承载外延片；滑槽（503），其设置于承载槽（502）中心端；推板（5），其滑动布设于滑槽（503）中；驱动机构，其与推板（5）连接，用于驱动推板（5）升降，以通过推板（5）将外延片推出预设高度；还包括：取料组件，其布设在加工台（1）上，用于将外延片置于承载槽（502）中以进行镀膜处理；取料组件包括：第一气缸（403）；吸附机构，其于第一气缸（403）伸缩端连接；放料组件，其布设在加工台（1）上，用于将镀膜完成后的外延片从承载槽（502）中移出；放料组件包括：第二气缸（402）；夹持机构，其于第二气缸（402）伸缩端连接；移送机构，其布设在加工台（1）一侧，与取料组件以及放料组件连接，用于取料组件与放料组件进行位置调节。2.根据权利要求1所述的一种外延片的制备装置,其特征在于，吸附机构包括与第一气缸（403）输出端固定连接吸盘（404），所述吸盘（404）通过管道与真空设备连接。3.根据权利要求1所述的一种外延片的制备装置,其特征在于，夹持机构包括与第二气缸（402）输出端固定连接的支板（405），支板（405）朝向加工台（1）的一侧转动布设有第一螺杆（406），其中，第一螺杆（406）上相对螺旋套设有与夹持板（408）固定连接的第一螺母（407）。4.根据权利要求1所述的一种外延片的制备装置,其特征在于，所述加工台（1）一侧布设有用于上料的第一输送带（102），另一侧布设有用于送料的第二输送带（101）。5.根据权利要求4所述的一种外延片的制备装置,其特征在于，所述移送机构包括滑动布设在加工台（1）上的移送框体（3），所述移送框体（3）内端面相对设有第一齿条板（301）；其中，所述加工台（1）间转动布设有用于与第一齿条板（301）啮合的半齿轮（302），移送框体（3）上分别设有用于安装第一气缸（403）的第一机架（401）以及用于安装第二气缸（402）的第二机架（4）。6.根据权利要求5所述的一种外延片的制备装置,其特征在于，第一机架（401）与第二机架（4）的间距大小等于上料端与承载...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐新华，
申请(专利权)人：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：