本发明专利技术涉及划痕检测技术，揭露了一种基于IGBT器件的表痕分析方法，包括：获取待测电子器件的原图，对所述待测电子器件的原图进行滤波处理，得到滤波图像；对所述滤波图像进行边缘检测，得到划痕像素点；对所述划痕像素点进行区域扫描，得到像素团块；对所述像素团块进行遍历归并，得到所述待测电子器件的划痕图像。本发明专利技术还提出一种基于IGBT器件的表痕分析装置、设备以及介质。本发明专利技术可以提高现有的表痕分析方法的效率及准确率。痕分析方法的效率及准确率。痕分析方法的效率及准确率。
【技术实现步骤摘要】
基于IGBT器件的表痕分析方法、装置、设备及介质
[0001]本专利技术涉及划痕检测领域，尤其涉及一种基于IGBT器件的表痕分析方法、装置、设备及介质。
技术介绍
[0002]随着信息技术的发展，电子元器件作为信息传输和处理的基本底层硬件在电子产品生产和应用中占据着举足轻重的地位，其中，IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor，绝缘栅双极型晶体管）凭借具有驱动功率小及低饱和压的优点广泛引用于家电、数码产品、轨道交通以及清洁发电、新能源汽车、智能电网等战略性新兴产业。由于电子产品需求的不断进化，IGBT器件朝着小体积、薄型化、片式化、微型化及组件化的方向不断发展，这些特点虽然提高了电子产品的质量，但是给检测机构和检测人员带来了不小的困难；此外，IGBT器件在生产加工过程中，需要经过复杂的工艺处理，在多重工艺处理下，IGBT器件表面不可避免会出现损伤，而这些将造成IGBT器件的表面缺陷，也将直接影响产品是否合格，因此，电子元器件的表面缺陷检测已然成为电子产品生产加工和可靠性分析过程中必要的工序。传统的工业流水线划痕检测手段是人工目视的检测方式，这种方法检测人员劳动强度大，易受主观影响，并且效率低，经常存在漏检误检的情况；采用深度学习算法虽然代替了人工检测，实现了亮度不均的复杂纹理背景下表面划痕的检测和实时识别，但所需数据量大，图像标注任务繁重；所以传统机器视觉检测算法或深度学习方法在IGBT器件的划痕分析上仍有许多不足，对于小目标划痕检测在精度和速度上都亟待提高。
[0003]综上所述，现有的表痕分析方法存在效率及准确率较低的问题。
技术实现思路
[0004]本专利技术提供一种基于IGBT器件的表痕分析方法、装置、设备及介质，其主要目的在于解决现有的表痕分析方法存在效率及准确率较低的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供的一种基于IGBT器件的表痕分析方法，包括：获取待测电子器件的原图，对所述待测电子器件的原图进行滤波处理，得到滤波图像；对所述滤波图像进行边缘检测，得到划痕像素点；对所述划痕像素点进行区域扫描，得到像素团块；对所述像素团块进行遍历归并，得到所述待测电子器件的划痕图像。
[0006]可选地，所述对所述待测电子器件的原图进行滤波处理，得到滤波图像，包括：获取所述待测电子器件的原图的色彩通道值，根据所述色彩通道值对所述待测电子器件的原图进行灰度转化，得到灰度图；根据所述灰度图生成灰度坐标图，并根据所述灰度坐标图进行高斯计算，根据高斯计算的结果生成标准高斯滤波模板；利用所述高斯滤波模板对所述灰度图进行卷积计算，得到滤波图像。
[0007]可选地，所述根据所述灰度坐标图进行高斯计算，包括：利用下式对所述灰度坐标图进行高斯计算：其中，表示为二维高斯模板参数；表示为预设的平滑程度参数；表示为所述灰度坐标图中像素点的横坐标；表示为所述灰度坐标图中像素点的纵坐标。
[0008]可选地，所述对所述滤波图像进行边缘检测，得到划痕像素点，包括：对所述滤波图像进行像素求导，得到所述滤波图像中每个像素点的梯度值及对应的梯度方向；根据所述梯度值及对应的梯度方向对所述滤波图像的像素点进行筛选，得到划痕像素点。
[0009]可选地，所述对所述滤波图像进行像素求导，得到所述滤波图像中每个像素点的梯度值及对应的梯度方向，包括：利用下式对所述滤波图像进行像素求导：利用下式对所述滤波图像进行像素求导：其中，表示为所述滤波图像中的像素点在水平方向的梯度值；表示为所述滤波图像中的像素点在垂直方向的梯度值；表示为所述滤波图像中的每个像素点的值；表示为所述滤波图像中的像素点的梯度值；表示为所述滤波图像中的像素点的梯度值对应的梯度方向。
[0010]可选地，所述对所述划痕像素点进行区域扫描，得到像素团块，包括：随机选取划痕像素点为种子点，将所述种子点的位置作为扫描起始点；按照预设的邻域半径在所述扫描起始点的邻域范围内进行邻域扫描；对所述邻域范围内扫描到的未标记划痕像素点进行标记，得到标识像素点，根据所述标识像素点生成像素团块；根据邻域扫描的结果在被标记后的划痕像素点中选取与所述种子点距离最大的划痕像素点；将与所述种子点距离最大的划痕像素点作为新的种子点，在新的所述种子点的领域范围内继续扫描，直至遍历完所述划痕像素点，得到多个像素团块。
[0011]可选地，所述对所述像素团块进行遍历归并，得到所述待测电子器件的划痕图像，包括：将所述像素团块保存在预设的图像容器中；根据所述像素团块的外接矩形的方向将所述图像容器进行方向划分，得到横向团块信息容器与纵向团块信息容器；按照预设的合并规则分别对所述横向团块信息容器与纵向团块信息容器进行合并，得到所述待测电子器件的划痕图像。
[0012]为了解决上述问题，本专利技术还提供一种基于IGBT器件的表痕分析装置，所述装置
包括：滤波处理模块，用于获取待测电子器件的原图，对所述待测电子器件的原图进行滤波处理，得到滤波图像；边缘检测模块，用于对所述滤波图像进行边缘检测，得到划痕像素点；区域扫描模块，用于对所述划痕像素点进行区域扫描，得到像素团块；像素团块归并模块，用于对所述像素团块进行遍历归并，得到所述待测电子器件的划痕图像。
[0013]为了解决上述问题，本专利技术还提供一种电子设备，所述电子设备包括：至少一个处理器；以及，与所述至少一个处理器通信连接的存储器；其中，所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的计算机程序，所述计算机程序被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够执行上述所述的基于IGBT器件的表痕分析方法。
[0014]为了解决上述问题，本专利技术还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有至少一个计算机程序，所述至少一个计算机程序被电子设备中的处理器执行以实现上述所述的基于IGBT器件的表痕分析方法。
[0015]本专利技术实施例通过对待测电子器件的原图进行滤波处理，得到滤波图像，可以对待测电子器件的原图进行降噪，虚化背景区域使待提取的划痕区域得到增强，同时可以保护划痕区域尖锐的边缘，从而不会改变原图像的边缘走向；通过对滤波图像进行边缘检测，得到划痕像素点，可以得到光滑的划痕的边缘像素点，并且能根据边缘像素点对划痕进行准确定位，提高了表痕分析方法的准确性；通过对划痕像素点进行区域扫描，得到像素团块，不仅可以满足边缘检测的实时性要求，而且能完整地提取划痕信息，增强表痕智能分析方法的准确性。因此本专利技术提出的基于IGBT器件的表痕分析方法、装置、设备及介质，可以解决现有的表痕分析方法存在效率及准确率较低的问题。
附图说明
[0016]图1为本专利技术一实施例提供的基于IGBT器件的表痕分析方法的流程示意图；图2为本专利技术一实施例提供的所述对所述待测电子器件的原图进行滤波处理，得到滤波图像的流程示意图；图3为本专利技术一实施例提供的所述对所述划痕像素点进行区域扫描，得到像素团块的流程示意图；图4为本专利技术一实施例提供的基于IGBT器件的表痕分析装置的功能模块图；图5为本专利技术一实施例本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于IGBT器件的表痕分析方法，其特征在于，所述方法包括：获取待测电子器件的原图，对所述待测电子器件的原图进行滤波处理，得到滤波图像；对所述滤波图像进行边缘检测，得到划痕像素点；对所述划痕像素点进行区域扫描，得到像素团块；对所述像素团块进行遍历归并，得到所述待测电子器件的划痕图像。2.如权利要求1所述的基于IGBT器件的表痕分析方法，其特征在于，所述对所述待测电子器件的原图进行滤波处理，得到滤波图像，包括：获取所述待测电子器件的原图的色彩通道值，根据所述色彩通道值对所述待测电子器件的原图进行灰度转化，得到灰度图；根据所述灰度图生成灰度坐标图，并根据所述灰度坐标图进行高斯计算，根据高斯计算的结果生成标准高斯滤波模板；利用所述高斯滤波模板对所述灰度图进行卷积计算，得到滤波图像。3.如权利要求2所述的基于IGBT器件的表痕分析方法，其特征在于，所述根据所述灰度坐标图进行高斯计算，包括：利用下式对所述灰度坐标图进行高斯计算：其中，表示为二维高斯模板参数；表示为预设的平滑程度参数；表示为所述灰度坐标图中像素点的横坐标；表示为所述灰度坐标图中像素点的纵坐标。4.如权利要求1所述的基于IGBT器件的表痕分析方法，其特征在于，所述对所述滤波图像进行边缘检测，得到划痕像素点，包括：对所述滤波图像进行像素求导，得到所述滤波图像中每个像素点的梯度值及对应的梯度方向；根据所述梯度值及对应的梯度方向对所述滤波图像的像素点进行筛选，得到划痕像素点。5.如权利要求4所述的基于IGBT器件的表痕分析方法，其特征在于，所述对所述滤波图像进行像素求导，得到所述滤波图像中每个像素点的梯度值及对应的梯度方向，包括：利用下式对所述滤波图像进行像素求导：利用下式对所述滤波图像进行像素求导：其中，表示为所述滤波图像中的像素点在水平方向的梯度值；表示为所述滤波图像中的像素点在垂直方向的梯度值；表示为所述滤波图像中的每个像素点的值；表示为所述滤波图像中的像素点的梯度值；表示为所述滤波图像中的像素点的梯度值对应的梯度方向。6.如权利要求1所述的基于IGBT器件的表痕...
【专利技术属性】
技术研发人员：仇亮，黄耀祖，
申请(专利权)人：广东仁懋电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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