【技术实现步骤摘要】
基板处理设备和用于使用其来验证流量计的错误的方法
[0001]在本文中描述的本专利技术构思的实施例涉及具有用于在基板上供应液体的液体供应单元的基板处理设备以及使用该基板处理设备的流量计错误验证方法。
技术介绍
[0002]半导体制造过程包括通过将液体供应到基板上来处理基板的液体处理过程。当使用液体来处理基板时，必须根据每个过程的配方以固定量喷洒液体。为此，在将液体供应到基板的液体供应单元中设置用于测量液体的流速的流量计。
[0003]然而，如果流量计中发生错误，则存在以下问题：即使流量计被设置为供应固定量，也不会向基板供应预设量。
[0004]为了解决这个问题，操作员目视检查从流量计排出的液体的流速，但难以检查固定量，花费大量时间来测量流速，并且难以自动存储数据。
[0005]为了解决这个问题，通过测量液体的重量来计算排出液体的流速，但反映液体特性的计算工作是必要的，这花费时间和成本以供操作员安装用于测量液体重量的装备。
技术实现思路
[0006]本专利技术构思的实施例提供了基板处理设...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板处理设备，包括：外壳，所述外壳具有处理空间，所述处理空间用于在其中处理基板；支撑单元，所述支撑单元被配置为在所述处理空间处支撑所述基板；喷嘴，所述喷嘴用于向放置在所述支撑单元上的基板供应液体；液体供应单元，所述液体供应单元被配置为将所述液体供应到所述喷嘴并且具有流量计；以及流速测量单元，所述流速测量单元被配置为验证所述流量计的错误；以及控制器，所述控制器用于控制所述液体供应单元和所述流速测量单元，并且其中所述流速测量单元包括：杯，所述杯用于容纳所述液体；测量装置，所述测量装置被配置为验证容纳在所述杯中的所述液体的液位；以及排出管线，所述排出管线用于排出在所述杯内的所述液体并且在所述排出管线上安装有排出阀，并且其中所述控制器控制所述液体供应单元以便在所述排出阀闭合的状态下在第一时间内将第一量的液体排出到所述杯，并且控制所述测量装置以通过确定容纳在所述杯中的所述液体的所述液位是否为所述第一量来确定所述流量计中是否发生了错误。2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述测量装置包括：辅助容器，所述辅助容器被设置成在所述杯的一侧与所述杯的内部空间连通；以及液位传感器，所述液位传感器设置在所述辅助容器中并且用于检测容纳在所述杯中的所述液体的所述液位。3.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述测量装置包括液位传感器，所述液位传感器设置在所述杯上方以便将光照射到容纳在所述杯处的所述液体的表面以检测所述液体的所述液位。4.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述测量装置包括液位传感器，所述液位传感器被插入到所述杯的一侧中并且用于检测容纳在所述杯中的所述液体的所述液位。5.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述测量装置包括：第一管，所述第一管在第一高度处与所述杯连通；第二管，所述第二管在高于所述第一高度的第二高度处与所述杯连通；以及第三管，所述第三管与所述第一管和所述第二管连通；以及液位传感器，所述液位传感器设置在所述第三管内并且用于检测容纳在所述第三管中的所述液体的所述液位。6.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中所述控制器还包括警报单元，所述警报单元用于在确定所述流量计中发生了错误的情况下生成警报。7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理设备，其中所述流速测量单元设置在所述外壳内。8.一种基板处理设备，包括：外壳，所述外壳具有处理空间，所述处理空间用于在其中处理基板；支撑单元，所述支撑单元被配置为在所述处理空间处支撑所述基板；
喷嘴，所述喷嘴用于向放置在所述支撑单元上的基板供应液体；液体供应单元，所述液体供应单元被配置为将所述液体供应到所述喷嘴并且具有流量计；以及流速测量单元，所述流速测量单元被配置为验证所述流量计的错误；以及控制器，所述控制器用于控制所述液体供应单元和所述流速测量单元，并且其中所述流速测量单元包括：杯，所述杯用于容纳所述液体；测量装置，所述测量装置被配置为验证容纳在所述杯中的所述液体的液位；以及排出管线，所述排出管线用于排出所述杯内的所述液体并且在所述排出管线上安装有排出阀，并且其中所述控制器控制所述液体供应单元以便在所述排出阀闭合的状态下在第一时间内将第一量的液体排出到所述杯，并且通过对所述第一时间...
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