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本发明构思提供了一种基板处理设备，包括：外壳，具有用于处理基板的处理空间；支撑单元，配置为在处理空间处支撑基板；喷嘴，用于向放置在支撑单元上的基板供应液体；液体供应单元，配置为将液体供应到喷嘴并且具有流量计；和流速测量单元，配置为验证流量计...
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